本发明涉及一种光学模块，尤其是分面反射镜，具有用于光学表面的载体单元和支撑其的支撑结构。支撑结构具有基础单元、第一支撑单元和与第一支撑单元不同的第二支撑单元。第一支撑单元定义载体单元的第一运动平面和第一倾斜轴线，载体单元可相对于基础单元...

提供了一种衍射光学元件(50)，具有基板(52)和布置在其上的衍射结构图案(54)。所述衍射结构图案构造为将辐射至其上的平面或球面输入波(42)转换为：1)至少四个分离的输出波，其中，所述输出波中的至少一个是非球面波，所述输出波中的至少...

本发明涉及投射光刻的成像光学单元(7)，其具有多个反射镜(M1至M8)，用于将成像光(3)从物场(4)引导到像场(8)中。物场(4)跨越于两个物场坐标(x，y)，法线坐标(z)垂直于这两个物场坐标。成像光(3)在第一成像光平面(xzHR...

本发明涉及一种微光刻投射曝光设备的光学系统，其中所述投射曝光设备具有照明单元和投射物镜，以及其中该光在投射曝光设备的操作期间，存在于使用光管(205，305)中的光从照明单元的入口经由投射物镜的物平面行进至投射物镜的像平面，该光学系统具...

本发明涉及制造光刻设备(100)的镜头(104)的方法，该方法包括如下步骤：a)提供至少一个第一部分镜头和至少一个第二部分镜头(200A，200B)，其中所述至少一个第一部分镜头(200A)包括多个光学元件(202A)且所述至少一个第二...

本发明涉及干涉式地确定被测装置(14)的表面(12)的形状的测量布置(10)。所述测量布置(10)包括提供输入波(18)的光源(16)和衍射光学元件(24)。衍射光学元件(24)适当地设计为从输入波(18)通过衍射分别产生测试波(26)...

一种操作微光刻投射设备的方法，包含提供掩模(16)、照明系统(12)、以及投射物镜(20)的步骤，其中投射物镜配置为在定位于感光表面(22)上的像场上形成在掩模平面中于掩模(16)上被照明的物场(14)的像。确定在像场中的不同场点的边缘...

EUV投射光刻的分面反射镜，具有多个反射EUV照明光的分面(25)。至少一些分面(25)制造为取向分面并且具有反射表面(32)，该反射表面的边缘轮廓(33)沿完整分面布置的两个取向坐标(x，y)取向。至少一个取向分面(25)的反射表面(...

一种投射镜头(PO)，用于通过工作波长λ小于260nm的电磁辐射，将布置在该投射镜头的物平面(OS)中的区域中的掩模的图案成像至该投射镜头的像平面(IS)内，该投射镜头包含具有光学表面的多个光学元件，其布置在该物平面(OS)与该像平面(...

一种调节尤其是光刻设备(100A、100B)的光学装置(200)的方法，所述光学装置包括可移动部件(326，700)、参考部件(318，346，702)和光学部件(202，706)，其中可移动部件(326，700)由机械操作连接件(32...

微光刻投射曝光设备的照明系统，包括第一和第二光栅板(54a)。投射光在第一和第二光栅板上的辐射分布决定投射光分别仅在照明场的第一部分(60a)和第二部分处的角度光分布。第二部分与第一部分是不同的且相邻地布置。这使得可以在掩模(14)上的...

本公开提供了一种用于微光刻的投射曝光设备(10)以及用于操作这种投射曝光设备的方法。该投射曝光设备(10)包括：投射镜(22)，具有多个光学元件(E1‑E4)，用于在曝光过程期间将掩模结构成像到基底(24)上；至少一个操纵器(M1‑M4...

本发明的目的为改善投射曝光设备的照明光学单元的光瞳分面反射镜。本发明的本质是形成具有不同尺寸的光瞳分面(29)的光瞳分面反射镜。光瞳分面(29)尤其还可具有不同形式。光瞳分面的至少一子集可具有规则形式。它们尤其具有不同长度的侧边缘。它们...

一种反射式成像光学单元(7)，具有至少四个反射镜(M1至M4)，该反射镜将物平面(5)中的物场(4)成像于像平面(9)中的像场(8)中。利用中心物场点的主光线(16)在该反射镜之一(M1)处的反射期间的传播，指定该光学单元的第一主光线平...

本发明关于反射镜，特别是微光刻投射曝光设备的反射镜。根据本发明的反射镜具有反射镜基板(101)，将入射至光学有效表面(100a)上的电磁辐射反射的反射层系统(102)，以及覆盖层(104)，该覆盖层布置在反射层系统(102)面向光学有效...

本发明关于一种涂布意图用于EUV光刻系统(500)的陶瓷材料(100)的EUV子模块(120、130)的表面(101)的方法。首先，金属焊料(114)在陶瓷基板(100)的表面(101)的整个表面区域之上施加于所述表面。然后，执行热处理...

本发明涉及一种位移装置(31)，用于以两个转动自由度来转动反射镜元件(20)，包括具有致动器电极(37i，42)的电极结构，所述致动器电极(37i，42)是梳状电极，并且全部致动器电极(37i)位于单个平面中并且致动器电极(37i，42...

本发明涉及一种光学系统的组合件，特别是微光刻投射曝光设备的组合件，所述组合件包括反射镜布置(110，210，310，410)，其包括多个可相互独立地调节的反射镜元件(110a，110b，210a，210b，310a，310b，410a，...

一种多反射镜阵列，包括含多个被动电衰减装置(39)的可调反射镜元件(19)，用于衰减反射镜元件(19)的可调位置的不规则。

本发明涉及一种用于确定光学系统中的表面(7)处、尤其在EUV光刻系统(101)中的表面(7)处的污染层(13)的厚度(d1,d2)和/或污染材料的种类的方法，该方法包括：用测量射线(10)来照射在其处形成有等离激元纳米颗粒(8a,b)的...