光学系统的组合件，特别是微光刻投射曝光设备的组合件技术方案

本发明专利技术涉及一种光学系统的组合件，特别是微光刻投射曝光设备的组合件，所述组合件包括反射镜布置(110，210，310，410)，其包括多个可相互独立地调节的反射镜元件(110a，110b，210a，210b，310a，310b，410a，410b)，以及包含数据和电压生成单元(120，220，320，420)，其生成控制数据以及供应电压，以控制各反射镜元件的调节，其中组合件设计为将控制数据和/或供应电流从数据和电压生成单元(120，220，320，420)以电隔离的方式传输到反射镜元件(110a，110b，210a，210b，310a，310b，410a，410b)。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】光学系统的组合件，特别是微光刻投射曝光设备的组合件相关申请的交叉引用本申请要求于2015年2月17日提交的德国专利申请DE102015202800.3的优先权。该德国申请的内容通过引用并入本申请文本。
本专利技术涉及光学系统的组合件，特别是微光刻投射曝光设备的组合件。
技术介绍
微光刻法用于制造微结构化部件，比如集成电路或LCD。微光刻法工艺在所谓的投射曝光设备中进行，其包括照明装置投射镜头。通过照明装置照明的掩模(掩模母板)的图像在此情况下通过投射镜头投射到涂覆有光敏层(光致抗蚀剂)且布置投射镜头的像平面中的基板(例如硅晶片)上，从而将掩模结构转印到基板的光敏涂层。为EUV范围(即在比如约13nm或约7nm的波长处)设计的投射镜头中，由于缺少可用的适当透光折射材料，反射镜用作成像过程的光学部件。设计为用于在EUV中操作的微光刻投射曝光设备的照明装置中，特别是使用场分面反射镜和光瞳分面反射镜形式的分面反射镜作为聚焦部件是例如从DE102008009600A1已知的。这样的分面反射镜由多个单独的反射镜或反射镜分面构造，其各自可以设计为通过挠曲件可倾斜，用于调节的目的或用于实现特定照明角本文档来自技高网...

【技术保护点】
光学系统的组合件，特别是微光刻投射曝光设备的组合件，包括·反射镜阵列(110，210，310，410)，包括多个相互独立地可调节的反射镜元件(110a，110b，210a，210b，310a，310b，410a，410b)；以及·数据和电压生成单元(120，220，320，420)，其生成驱动数据以及供应电压，以驱动相应反射镜元件的调节；·其中所述组合件设计为用于所述驱动数据和/或所述供应电压从所述数据和电压生成单元(120，220，320，420)到所述反射镜元件(110a，110b，210a，210b，310a，310b，410a，410b)的电流地隔离的传输。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2015.02.17 DE 102015202800.31.光学系统的组合件，特别是微光刻投射曝光设备的组合件，包括·反射镜阵列(110，210，310，410)，包括多个相互独立地可调节的反射镜元件(110a，110b，210a，210b，310a，310b，410a，410b)；以及·数据和电压生成单元(120，220，320，420)，其生成驱动数据以及供应电压，以驱动相应反射镜元件的调节；·其中所述组合件设计为用于所述驱动数据和/或所述供应电压从所述数据和电压生成单元(120，220，320，420)到所述反射镜元件(110a，110b，210a，210b，310a，310b，410a，410b)的电流地隔离的传输。2.根据权利要求1所述的组合件，其特征在于，所述组合件设计为使得在所述驱动数据的和/或所述供应电压的电流地隔离的传输期间，单独寻址所述反射镜元件(110a，110b，210a，210b，310a，310b，410a，410b)。3.根据权利要求2所述的组合件，其特征在于，所述组合件设计为使得所述反射镜元件(110a，110b，210a，210b，310a，310b，410a，410b)的单独寻址通过对于相互不同的反射镜元件(110a，110b，210a，210b，310a，310b，410a，410b)使用不同的数据传输通道来实现。4.根据权利要求2或3所述的组合件，其特征在于，所述组合件设计为使得所述反射镜元件的单独寻址通过对于相互不同的反射镜元件(110a，110b，210a，210b，310a，310b，410a，410b)使用不同的载波频率来实现。5.根据权利要求2或3所述的组合件，其特征在于，所述组合件设计为使得所述反射镜元件的单独寻址通过对于相互不...

【专利技术属性】
技术研发人员：J霍恩，B西格尔，B克瑙夫，S克朗，J施佩希特，M霍尔兹，S布莱迪斯特尔，F巴特，M索莱曼，
申请(专利权)人：卡尔蔡司SMT有限责任公司，
类型：发明
国别省市：德国,DE