反射镜、特别是微光刻投射曝光设备的反射镜制造技术

本发明专利技术关于反射镜，特别是微光刻投射曝光设备的反射镜。根据本发明专利技术的反射镜具有反射镜基板(101)，将入射至光学有效表面(100a)上的电磁辐射反射的反射层系统(102)，以及覆盖层(104)，该覆盖层布置在反射层系统(102)面向光学有效表面(100a)的一侧上，并且该覆盖层由第一材料制造，其中第二材料的粒子(105)单独地或团簇地施加至此覆盖层(104)上，其中该第二材料与该第一材料不同。

A reflector, especially a reflection mirror of a projective exposure device

The invention relates to a reflector, in particular a mirror of a light engraved exposure device. According to the mirror of the invention has a mirror substrate (101), the incident to the optical surface (100a) reflector system electromagnetic radiation reflected on the (102), and a cover layer (104), the covering layer is disposed on the reflective layer (102) optical system for effective surface (100a) on one side and, the cover layer made of a first material, wherein the second material particles (105) individually or in clusters on this layer (104), wherein the second material different from the first material.

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】反射镜、特别是微光刻投射曝光设备的反射镜相关申请的交叉引用本申请要求2015年4月20日提交的德国专利申请DE102015207140.5的优先权。通过引用将该申请的内容并入本文。
本专利技术涉及反射镜，特别是微光刻投射曝光设备的反射镜。
技术介绍
微光刻用来制造微结构部件，例如集成电路或LCD。微光刻工艺在所谓的投射曝光设备内执行，该设备包含照明装置和投射镜头。通过照明装置照明的掩模(掩模母版)的像在该情况下由投射镜头投射至基板(例如硅晶片)上，该基板涂覆有感光层(光刻胶)并布置在投射镜头的像平面中，以将掩模结构转印至基板的感光涂层。在设计用于EUV范围(即，在例如大约13nm或大约7nm的波长)的投射镜头中，由于无法取得合适的透光折射材料，所以使用反射镜当成用于成像过程的光学部件。这种EUV反射镜具有反射镜基板和反射照在光学有效表面上的电磁辐射的反射层系统。为了避免操作期间入射的EUV辐射损害反射层系统的化学反应层材料，除此以外也知道要在反射层系统上施加覆盖层(cappinglayer)，该覆盖层可由例如金属材料或氧化物或氮化物所形成，并且尤其可抑制例如氧(O2)从相邻气相扩散进本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种反射镜，其中所述反射镜具有光学有效表面，该反射镜包含：反射镜基板(101)；反射层系统(102)，反射入射至该光学有效表面(100a)上的电磁辐射；以及覆盖层(104)，布置在该反射层系统(102)面向该光学有效表面(100a)的一侧上，并且由第一材料制造；其中，将第二材料的粒子(105)单独地或团簇地施加至该覆盖层(104)上，其中所述第二材料与所述第一材料不同。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2015.04.20 DE 102015207140.51.一种反射镜，其中所述反射镜具有光学有效表面，该反射镜包含：反射镜基板(101)；反射层系统(102)，反射入射至该光学有效表面(100a)上的电磁辐射；以及覆盖层(104)，布置在该反射层系统(102)面向该光学有效表面(100a)的一侧上，并且由第一材料制造；其中，将第二材料的粒子(105)单独地或团簇地施加至该覆盖层(104)上，其中所述第二材料与所述第一材料不同。2.如权利要求1的反射镜，其特征在于，施加该第二材料的粒子(105)，使得所述粒子(105)优选植入该覆盖层(104)的表面结构中的缺陷。3.如权利要求1或2的反射镜，其特征在于，施加所述粒子(105)，使得与无所述粒子(105)的类似设计相比，可减少在该反射镜的操作期间或运输期间该覆盖层(104)的污染物。4.如权利要求1至3中任一项的反射镜，其特征在于，所述第一材料选自包含金属、氧化物、碳化物、硼化物、氮化物以及其混合物的组。5.如前述权利要求中任一项的反射镜，其特征在于，所述第一材料为钌(Ru)。6.如前述权利要求中任一项的反射镜，其特征在于，所述第二材料选自包含贵金属，尤其是金(Au)、银(Ag)、钯(Pd)和铂(Pt)，以...

【专利技术属性】
技术研发人员：A贡查尔，
申请(专利权)人：卡尔蔡司SMT有限责任公司，
类型：发明
国别省市：德国,DE