调节光学装置的方法制造方法及图纸

一种调节尤其是光刻设备(100A、100B)的光学装置(200)的方法，所述光学装置包括可移动部件(326，700)、参考部件(318，346，702)和光学部件(202，706)，其中可移动部件(326，700)由机械操作连接件(328，704)连接到光学部件(202，706)，该方法包括以下步骤：a)将可移动部件(326，700)关于参考部件(318，346，702)固定在机械限定的位置(NP)(S1)，b)光学测量光学部件(202，706)，以获取光学测量结果(OM)(S2)，以及c)根据光学测量结果(OM)调节光学装置(200)(S8)。

A method of adjusting optical devices

A regulation especially lithography equipment (100A, 100B) of the optical device (200) method, the optical device comprises a movable member (326700), (318346702) reference parts and optical parts (202706), the movable member (326700) by mechanical connector (328704) connected to the optical components (202706), the method comprises the following steps: a) the movable member (326700) on the reference component (318346702) is fixed on the machine defined position (NP) (S1), b) optical measurement of optical components (202706), to obtain the optical measurement results (OM) (S2), and C) according to the optical measurement results (OM) adjust the optical device (200) (S8).

【技术实现步骤摘要】
调节光学装置的方法
本专利技术涉及一种调节光学装置，尤其是光刻设备的光学装置的方法。
技术介绍
微光刻用于制造微结构化部件，比如集成电路。用光刻设备执行微光刻工艺，光刻设备包括照明系统和投射系统。通过照明系统照明的掩模(掩模母版)的像在此情况下通过投射系统投射到涂布有光敏感层(光致抗蚀剂)且布置在投射系统的像平面中的基板(即，硅晶片)上，以将掩模结构转印到基板的光敏感涂层。由在集成电路的制造中对于越来越小的结构的期望的驱使，当前正在研究的EUV光刻设备采用具有范围为0.1nm至30nm的波长的光，尤其是13.5nm。在这样的EUV光刻设备的情况下，由于具有此波长的光受大多数材料的高吸收，必须使用反射光学单元(也就是说反射镜)取代(如早前的)折射光学单元(也就是说透镜元件)。反射镜可以实施为所谓的分面反射镜，其中这样的分面反射镜通常在每个情况下具有数百个分面。每个分面被分配驱动装置，例如洛伦兹致动器，相应的分面借助于驱动装置可倾斜。在此情况下，电磁致动器致动驱动柱塞上提供的磁体元件，驱动柱塞还承载分面。由于安装和制造公差，使驱动装置的部件关于彼此对准是复杂的。DE102014216075A1描述了包括至少一个单独的反射镜的反射镜布置，至少一个单独的反射镜具有反射镜体、轴、承载结构以及致动器，其中反射镜体连接到轴且以可偏转方式从承载结构悬挂，其中致动器具有驱动元件，其布置在轴上且产生电场和/或磁场，以及驱动系统，其在驱动元件上施加第一力，以偏转反射镜体，其中，在反射镜体的偏转的状态下，指向轴的非偏转的位置的恢复力作用在轴上，并且其中单独的反射镜还具有用于屏蔽电场和/或磁场的屏蔽元件以及补偿系统，以产生第二力，其叠加在恢复力上。DE102012223034A1公开了包括分面反射镜的微光刻投射曝光设备的照明系统，分面反射镜具有承载结构和从而承载的多个单独可调节的反射镜分面。经由弯曲部，反射镜分面连接到承载结构，使得其关于两个正交轴可倾斜。反射镜分面还刚性地连接到致动杆，使得通过致动器产生的致动杆的偏转，使反射镜分面关于轴倾斜。每个弯曲部包括至少三个接合支架，接合支架布置在致动杆周围，并且在一端紧固到承载结构且在另一端紧固到反射镜分面或部分刚性地与其连接，其中在致动杆偏转时，接合支架弯曲。WO2014/060169A1描述了光刻设备，其包括多重的可调节反射镜。每个反射镜由致动器可驱动，致动器具有可移动部件和外壳。借助于致动器，相应的反射镜相对于外壳以两个自由度可倾斜。
技术实现思路
在此背景下，本专利技术的目标是提供调节光学装置的改善的方法。相应地，提出了一种调节光学装置的方法，尤其是调节光刻设备的光学装置的方法，光学装置包括可移动部件、参考部件以及光学部件，其中可移动部件以机械操作连接件连接到光学部件。所述方法包括以下步骤：a)将可移动部件关于参考部件固定在机械限定的位置，b)光学测量光学部件，以获取光学测量结果，以及c)根据光学测量结果调节光学装置。通过调节光学装置实现的是，可以同时达到光学部件的光学有效表面的光学零位置和可移动部件的零位置，也就是说机械零位置。也就是说，为达到光学零位置，可移动部件不必已经被偏转。因此，为达到光学零位置，也不必对可移动部件施加调节力。因此，光学部件可倾斜的可达到角度范围最大化，或用于驱动可移动部件的致动器的相应地能量消耗最小化。光学装置可以为分面反射镜。光学有效表面可以配置为反射EUV辐射或DUV辐射。优选地，可移动部件实施为磁体元件(也就是说作为由永久磁性或可磁化材料构成的元件)。在此情况下，优选地提供电磁致动器，其配置为经由气隙(其中保持高度真空)致动磁体元件，也就是说空间地移动所述磁体元件，并且通过机械操作连接件调节光学部件。尤其在光刻设备的曝光操作(例如晶片用操作光的曝光)中执行光学部件的此致动。任意其他的致动器(例如压电致动器)也可以用来取代电磁致动器。“机械操作连接件”是指将可移动部件的运动传输到光学部件的这样的连接件。光学装置被调节的事实可以理解为是指例如改变可移动部件的(尤其是磁体元件的)磁性性质，以实现以下效应：减小实际束偏移与设定点束偏移的偏差(所述偏差在步骤b)中判定)，和/或改变可移动部件相对于电磁致动器的对准和/或定位。附加地或可替代地，光学装置还可能受光学装置的其他部件的修改的影响，比如，例如，光学部件，尤其是分面、恢复弹簧、磁放大环和/或电磁致动器自身。为了倾斜光学部件，可以包括多个分开地可激励的线圈的电磁致动器在可移动部件上施加调节力，可移动部件可以为永久磁体。调节力变得越大，可移动部件偏转地越远。例如，如果可移动部件不偏转且关于电磁致动器对称定位，调节力最小化。在此情况下，可移动部件的对称轴可以与电磁致动器的对称轴同轴地对准。也就是说，可移动部件位于机械零位置。根据一个实施例，提供用于步骤a)中的固定的工具，该工具关于参考部件机械固定光学部件。在步骤b)之后，优选地再次移除工具。优选地，关于载体板中为了借助于工具固定在机械零位置的目的提供的穿孔对准可移动部件。工具可以为套筒的形状。穿孔的对称轴优选地与载体板上提供的接口对准。因此，不必将可移动部件直接关于电磁致动器对准。这简化和加速了方法的执行。根据其他实施例，步骤b)包括检测光学部件的实际束偏移，其中将检测的实际束偏移与设定点束偏移比较，并且根据比较结果执行调节光学装置。检测装置可以用于判定实际束偏移。检测装置可以包括例如毛玻璃屏和/或电子芯片。特别地，CMOS或CCD芯片可以用作电子芯片。实际束偏移可以表现为光点，尤其在使用毛玻璃屏的情况下。那么，设定点束偏移相应地为参考点，尤其是在毛玻璃屏上。在光学部件的光学有效表面的光学零位置，实际束偏移与设定点束偏移的偏差在预定公差范围内。对于第一空间方向和第二空间方向，每个情况下，预定公差范围可以为例如50μm。可以以多个迭代循环执行方法步骤，直到实际束偏移与设定点束偏移的偏差在预定公差范围内。优选地，借助于光学测量方法判定实际束偏移与设定点束偏移的偏差，其中借助于光学测量方法判定实际束偏移与设定点束偏移在第一空间方向上的第一偏差和实际束偏移与设定点束偏移在第二空间方向上的第二偏差。可见波长范围中的光优选地用于判定实际束偏移与设定点束偏移的偏差。特别地，适当的检测装置(称为：可见光模块合格测量机，measurementmachineformodulequalificationwithvisiblelight，MoVIS)可以用于此目的。对于第一偏差和第二偏差，可以判定不同值且限定不同可允许公差范围。根据其他实施例，步骤c)中的调节包括更改光学装置的至少一个部件的几何形状、取向和/或位置、刚度、电场和/或磁场，尤其通过机械处理来更改所述几何形状。特别地，可以改变磁放大环的材料、形状和/或位置，磁体元件的磁化强度、对准、形状和/或位置，分面的形状、位置和/或倾斜，致动器的位置和/或致动器的线圈的操作点和/或用于调节光学装置的恢复弹簧的刚度。根据其他实施例，至少一个部件为可移动部件、光学部件、磁放大环、致动可移动部件的致动器、恢复可移动部件的恢复弹簧和/或被机械操作连接件所包括的这样的部件。例如，可以适配放大环的直径。此外，放大环可以倾斜或旋转。特别本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种调节尤其是光刻设备(100A、100B)的光学装置(200)的方法，所述光学装置(200)包括可移动部件(326，700)、参考部件(318，346，702)以及光学部件(202，706)，其中所述可移动部件(326，700)由机械操作连接件(328，704)连接到所述光学部件(202，706)，所述方法包括以下步骤：a)将所述可移动部件(326，700)关于所述参考部件(318，346，702)固定在机械限定的位置(NP)(S1)，b)光学测量所述光学部件(202，706)，以获取光学测量结果(OM)(S2)，以及c)根据所述光学测量结果(OM)调节所述光学装置(200)(S8)。

【技术特征摘要】
2016.07.14 DE 102016212853.11.一种调节尤其是光刻设备(100A、100B)的光学装置(200)的方法，所述光学装置(200)包括可移动部件(326，700)、参考部件(318，346，702)以及光学部件(202，706)，其中所述可移动部件(326，700)由机械操作连接件(328，704)连接到所述光学部件(202，706)，所述方法包括以下步骤：a)将所述可移动部件(326，700)关于所述参考部件(318，346，702)固定在机械限定的位置(NP)(S1)，b)光学测量所述光学部件(202，706)，以获取光学测量结果(OM)(S2)，以及c)根据所述光学测量结果(OM)调节所述光学装置(200)(S8)。2.根据权利要求1所述的方法，其中为步骤a)中的所述固定提供工具(500，701)，所述工具关于所述参考部件(318，346，702)机械固定所述光学部件(202，706)。3.根据权利要求1或2所述的方法，其中步骤b)包括检测所述光学部件(202，706)的实际束偏移(IA)，其中将所述检测的实际束偏移(IA)与设定点束偏移(SA)比较，并且根据比较结果执行调节所述光学装置(200)。4.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中步骤c)中的所述调节包括更改所述光学装置(200)的至少一个部件(202，308，326，328，346，700，704，706，707)的几何形状、取向和/或位置、刚度、电场和/或磁场(708)，尤其通过机械处理来更改所述几何形状。5.根据权利要求4所述的方法，其中所述至少一个部件为所述可移动部件(326，700)、所述光学部件(202，706)、磁放大环(346)、致动所述可移动部件(326，700)的致动器(308，707)、恢复所述可移动部件(326，700)的恢复弹簧(332、334)和/或由所述机械操作连接件(328，704)所包括的这样的部件。6.根据权利要求4或5所述的方法，其中，为改变所述可移动部件(326，700)的取向和/或位置的目的，间隔体元件(350)插设在所述可移动部件与所述机械操作连接件(704)的驱动柱塞(328)之间。7.根据权利要求6所述的方法，其中所述间隔体元件(350)的几何形状适配为使得所述可移动部件(326，700)的取向和/或位置改变。8.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中所述可移动部件(700)...

【专利技术属性】
技术研发人员：J·拜耳，S·弗里切，F·施罗德，
申请(专利权)人：卡尔蔡司SMT有限责任公司，
类型：发明
国别省市：德国,DE