在位置测量装置(5)和用以确定待测对象(3)的位置的方法中，提供至少一个电容式位置测量传感器(7)，以提供关于待测对象(3)的位置测量信号(PM)，并且提供至少一个电容式基准测量传感器(14)，以提供基准测量信号(RM)。测量传感器(7...

一种用于投射曝光系统的成像光学系统(9)，其具有至少一个变形成像光学元件(M1至M6)。这允许以第一方向上的大物方数值孔径在该方向上完全照明像场，而不必扩大要被成像的掩模母版的范围，并且不减小投射曝光系统的生产能力。

一种投射曝光系统(1)的照明光学单元(17i)，包含多个辐射反射组件，其中所有辐射反射组件布置为使得含照明辐射(5)的光束(10

本发明涉及一种光学单元，尤其是分段镜单元，其具有光学元件(109)和支撑装置(111)，其中，光学元件(109)具有尤其是长条形的光学表面(109.1)，所述光学表面定义主延伸平面(PME)和在主延伸平面(PME)中的主延伸方向。支撑装...

一种投射光刻的照明光学单元的分面反射镜(11)，包含多个使用分面(12)，其每个反射照明光部分光束。分面反射镜(11)具有至少一个变化子单元(161、162、163)，其具有在分面承载件上共同布置的多个变化分面(12；121、121′)...

本发明涉及用于EUV光刻的掩模(M)，包括：基底(7)，由设计用于反射EUV辐射(27)的多层涂层(8)的表面(8a)形成的第一表面区域(A1)，所述表面(8a)背朝基底(7)，以及由设计用于反射DUV辐射(28)并且抑制EUV辐射(2...

一种用于在光刻掩模(5)成像期间三维测量在像平面周围区域中的3D空间像的方法，光刻掩模布置在物平面(4)中，考虑在彼此垂直方向(x，y)中的可选成像比例比。为此，在成像光与光刻掩模(5)相互作用之后重构成像光(1)的电磁波前。包含一对应...

本发明涉及一种聚光器(15)，其用于将EUV光从辐射源区域传输至照明镜头。聚光器的聚焦镜头(26)将辐射源区域(3)聚焦至下游焦点区域。聚焦镜头(26)设计为使得辐射源(3)由辐射源区域(3)与下游焦点区域之间以小于20°的波束角发射的...

本发明涉及一种用于EUV投射光刻的照明光学装置，所述照明光学装置用于照亮照明场，下游侧的成像光学装置(6)的物场(3)布置在所述照明场中。在物场(3)中又能够布置能沿物体移动方向(y)移动的物体(5)。照明光学装置的镜面分面反射镜(14...

一种以图案的至少一个像曝光辐射敏感基板(W)的投射曝光方法，包含下列步骤：在照明系统(ILL)与投射曝光设备(WSC)的投射镜头(PO)之间提供图案，使得该图案设置于投射镜头的物平面(OS)区域内并可通过投射镜头成像至投射镜头的像平面(...

本发明涉及一种镜子，尤其是用于微光刻投影曝光设备的镜子。根据本发明的镜子(10、20、30、40)具有光学作用面(10a、20a、30a、40a)、镜子衬底(11、21、31、41)和用于反射撞击到所述光学作用面(10a、20a、30a...

本发明涉及照明光学部件、照明系统、投射曝光设备以及制造结构化组件的方法。用于光刻投射曝光的照明光学部件(7；28)，用于具有小于193nm的波长的照明光(3)的光束从辐射源(2)向物平面(5)中的物场(4)中的物体(12)的无分束器引导...

本发明涉及一种光刻投影曝光设备(12)的照明系统，其包括设置成产生光脉冲(42‑1至42‑3；42‑1,42‑2,52‑1,52‑2)序列的光源(LS；LS1,LS2)。该照明系统另外包括能够在两个切换位置之间进行数字切换的光学元件(3...

本发明涉及一种用于微光刻投射曝光设备的照明装置的EUV光源，其中EUV光源具有用于产生电子束的电子源(110)、用于加速电子束的加速器单元(120)以及用于通过偏转电子束来产生EUV光的波动器布置(100)，其中，波动器布置(100)具...

本发明涉及一种光学元件(1)，包括：基板(2)、施加到基板(2)的涂层(3，9，5)，其中，涂层(3，9，5)包括：反射多层涂层(5b)，其实施用于反射具有一使用波长(λEUV)的辐射(4)；以及抗反射涂层(3)，其布置在该基板(2)和...

本发明涉及一种尤其在微光刻投射曝光设备中的光学系统的分组件，具有一元件(10、20、30、40、50、60、70)；以及至少一个温度控制装置，用于控制该元件的温度，该温度控制装置在带至少一个管状部分的闭合回路中具有冷却介质，在进行两相转...

一种移动光学部件的方法，其中，当移动部件时，所需的最大电功率小于用于移动的至少两个致动器的最大电功率之和。

一种用于投射光刻的照明光学单元。在此，第一传输光学单元用于引导从光源发出的照明光。照明预定分面反射镜布置在第一传输光学单元下游且包含多个照明预定分面。该分面反射镜借助所照明的照明预定分面的布置而产生物场的预定照明。这造成了对照明光学单元...

一种测量球形像散光学区域(40)的方法，包含以下步骤：a)通过波前生成装置(10)产生球形像散波前作为测试波前；b)干涉地测量在所述波前生成装置(10)与所述球形像散区域(40)之间的波前差，所述球形像散表面适配于所述波前生成装置(40...

本发明涉及一种制造反射镜元件，尤其是微光刻投射曝光设备的反射镜元件的方法。根据本发明的方法包含以下步骤：提供基板(101，102，103，104，201，202，301，302，401，402，501，502，801，901，951，9...