制造反射镜元件的方法技术

本发明专利技术涉及一种制造反射镜元件，尤其是微光刻投射曝光设备的反射镜元件的方法。根据本发明专利技术的方法包含以下步骤：提供基板(101，102，103，104，201，202，301，302，401，402，501，502，801，901，951，961)和在所述基板上形成层堆叠(111，112，113，114，211，212，311，312，411，412，511，512)，其中，形成层堆叠进行为使得反射镜元件的预定操作温度想要的期望曲率通过层堆叠施加的弯曲力产生，其中，在形成层堆叠之前，基板具有的曲率偏离反射镜元件的所述期望曲率，以及其中，由层堆叠施加的弯曲力至少部分通过进行改变层堆叠的层应力的后处理来产生。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】相关申请的交叉引用本申请要求2014年1月30日提交的德国专利申请DE 10 2014 201 622.3的优先权。通过引用将所述DE申请的内容并入本申请文本中。
本专利技术涉及一种制造尤其是微光刻投射曝光设备的反射镜元件的方法。
技术介绍
微光刻技术用于制造微结构化部件，例如集成电路或LCD。微光刻工艺在具有照明装置和投射镜头的所谓投射曝光设备中进行。利用照明装置照明的掩模(掩模母版)的图像在该情况中利用投射镜头投射至基板(例如硅晶片)上，其涂覆有光敏层(光刻胶)，并布置在投射镜头的像平面中，从而将掩模结构转印至基板的光敏涂层。在设计用于EUV范围(即，在例如约13nm或约7nm的波长)的投射镜头中，由于缺少可用的合适透光折射材料，将反射镜用作成像过程的光学部件。在设计用于在EUV范围操作的微光刻投射曝光设备的照明装置中，特别地，使用场分面反射镜和光瞳分面反射镜形式的分面反射镜作为聚焦部件从例如DE 10 2008 009 600 A1已知。这种分面反射镜由多种单独反射镜或反射镜分面构成，所述单独反射镜或反射镜分面中的每一个可设计为通过弯曲轴承而可倾斜，用于调节目的或用于实现特定照明角分布。这些反射镜分面可进而包含多个微反射镜。而且，为了调节限定的照明设定(即，照明装置的光瞳平面中的强度分布)，在设计用于以在VUV范围的波长操作的微光刻投射曝光设备的照明装置中使用包含多种相互独立可调的反射镜元件的反射镜布置也是已知的，例如从WO 2005/026843 A2已知。实际上出现的问题是，在制造这种反射镜布置(例如，设计用于以EUV
操作的照明装置的场分面反射镜)期间，在分层(即，在将包括反射层系的层堆叠施加至反射镜基板上时)期间产生机械张力，所述机械张力可导致基板的变形和与此伴随对光学成像特性的损害。为了解决该问题，已知形成附加层，其补偿该机械张力，从而使相应反射镜元件中的总机械张力最小化。而且，实际上需要在制造反射镜元件期间尽可能准确地调节所述反射镜元件的相应折射能力(其可为零折射能力，对应于平面反射镜元件；或者不同于零的折射能力，这取决于应用)。为此已知的方法在制造反射镜元件期间由以下构成：在施加层堆叠之前，根据反射镜元件在其几何形状方面的期望的“最终规格”，设计基板(其尤其将涂覆有反射层系)，例如，形成非球面、精细校正等；以及例如通过使用上述张力补偿，随后执行涂覆工艺(即，施加包括反射层系的层堆),使得基板的形状在涂覆期间不再改变。关于现有技术，仅参考例如WO 2004/029692 A2、DE 10 2009 033 511 A1、DE 10 2008 042 212 A1、US 6,011,646 A、US 2008/0166534 A1、US 7,056,627 B2、WO 2013/077430 A1和DE 10 2005 044 716 A1。
技术实现思路
本专利技术的目的是提供一种制造反射镜元件、尤其是微光刻投射曝光设备的反射镜元件的方法，其使得能够以尽可能小的制造费用来产生期望的折射能力。该目的通过根据独立专利权利要求的特征的方法来实现。根据本专利技术的制造反射镜元件、尤其是微光刻投射曝光设备的反射镜元件的方法包含以下步骤：-提供基板；以及-在所述基板上形成层堆叠，其中该层堆叠具有至少一个反射层系；-其中，所述层堆叠形成为使得预定操作温度所需的反射镜元件的设定点曲率通过由层堆叠施加的弯曲力来产生，其中，在形成所述层堆叠之前，所述基板具有偏离所述反射镜元件的该设定点曲率的曲率，以及其中，由层堆叠施加的弯曲力至少部分经由要执行的改变层堆叠的层张力的后处理来产生。特别地，本专利技术基于以下构思：不消除在将包括反射层系的层堆叠施加至基板期间在制造反射镜元件时产生的机械张力(例如，通过相反地作用于
该机械张力的附加补偿层(或相反地作用于该机械张力的补偿层系))，而是以有目标的方式使用在将包括反射层系的层堆叠施加至基板期间产生的机械张力，以及因此由层堆叠施加至基板上的弯曲力，从而产生反射镜元件的期望设定点曲率以及因此反射镜元件想要的有限折射能力。在此，基板在层堆叠形成之前具有偏离反射镜元件想要的设定点曲率的曲率。特别地，本专利技术有意地与常规方法不同，其中，为了制造反射镜元件的目的，基板最初通过适当工艺步骤(例如，利用形成非球面、精细校正等)根据反射镜元件的“最终规格”来设计，以及其中，随后在施加包括反射层系的层堆叠期间小心确保以有目标的方式预定了的相关反射镜基板形状通过使用张力补偿层来保持。当然，本专利技术包含以下原理：在制造反射镜元件期间，在施加包含反射层系的层堆叠之前由基板的形状或几何形状出发，所述形状或几何形状尚不对应于完成的反射镜元件最终想要的曲率，那么从而使用在施加包括反射层系的层堆叠期间产生的机械张力来有意地使基板变形。因此，由于基板的最初形状或几何形状(包括厚度)以及在施加包括反射层系的层堆叠期间调节的参数(可能在附加使用下文所解释的后处理的情况下)，获得基板最终呈现的曲率半径和因此完成的反射镜元件的折射能力。根据一个实施例，由层堆叠施加的弯曲力、尤其是改变层堆叠的层张力的后处理带来曲率的不可逆变化。改变层堆叠的层张力的后处理尤其可包含热后处理，例如通过热辐射、激光辐射或退火(其中，后处理仍在操作光学系统或投射曝光设备之前进行，即仍在加工相关反射镜元件期间进行)。而且，替代地或附加地，后处理可包含离子辐射或电子辐射。另外，后处理可局部限制在层堆叠的一个或多个部分(它们的全部小于层堆叠的整个范围或面积)，从而例如使反射镜元件的角落或边缘区域经受与相关反射镜元件的剩余区域不同的后处理。根据一个实施例，基板具有局部变化刚度，其选择为使得反射镜元件的预定操作温度所想要的设定点曲率在形成层堆叠之后获得。本专利技术进一步还涉及一种制造反射镜元件的方法，其中所述方法包含以下步骤：-提供基板；以及-在所述基板上形成层堆叠，其中该层堆叠具有至少一个反射层系；-其中，所述基板在形成所述层堆叠之前经受影响刚度的工艺，其中，所述刚度在该工艺期间设定，使得所述反射镜元件的预定操作温度所想要的设定点曲率在形成所述层堆叠之后获得。根据该方面，本专利技术包含另一构思：通过合适工艺影响基板的刚度，使得在施加包括反射层系的层堆叠之后，最终获得的表面几何形状符合要求，即获得反射镜元件想要的设定点曲率。换言之，现在的方法确保，通过适当制造或处理基板，基板因以有目标的方式调节的刚度而以期望方式反作用于由层堆叠施加的弯曲力。结果，还可考虑以下事实：例如，根据本专利技术，通过以有目标的方式影响基板的刚度，基板可能想要的局部变化弯曲(通过层堆叠施加的弯曲力的局部变化，通常不可能实现或难以实现)还可产生。根据一个实施例，设定基板的局部变化刚度，所述刚度与层堆叠施加的弯曲力一起导致反射镜元件的期望表面几何形状。根据一个实施例，刚度至少部分地通过基板变化的厚度分布导致。为了改变基板的厚度分布，使用合适的材料烧蚀或其它材料加入方法。举例来说，材料烧蚀可通过蚀刻或离子光束处理(IBF＝“离子束图形化”)或通过任何其它的用于材料烧蚀的合适方法来实现。举例来说，材料烧蚀可包含溅射法，电子束蒸镀或任何其它的用于材料施加的方法。根据一个实施本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种制造反射镜元件的方法，其中，所述方法包含以下步骤：a)提供基板(101，102，103，104，201，202，301，302，401，402，501，502，801，901，951，961)；以及b)在所述基板上形成层堆叠(111，112，113，114，211，212，311，312，411，412，511，512)，其中，该层堆叠具有至少一个反射层系；c)其中，所述层堆叠(111，112，113，114，211，212，311，312，411，412，511，512)形成为使得所述反射镜元件的预定操作温度想要的设定点曲率通过所述层堆叠施加的弯曲力产生，其中，在形成所述层堆叠之前，所述基板具有的曲率偏离所述反射镜元件的该设定点曲率，以及其中，由所述层堆叠施加的弯曲力至少部分通过进行改变所述层堆叠的层张力的后处理来产生。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2014.01.30 DE 102014201622.31.一种制造反射镜元件的方法，其中，所述方法包含以下步骤：a)提供基板(101，102，103，104，201，202，301，302，401，402，501，502，801，901，951，961)；以及b)在所述基板上形成层堆叠(111，112，113，114，211，212，311，312，411，412，511，512)，其中，该层堆叠具有至少一个反射层系；c)其中，所述层堆叠(111，112，113，114，211，212，311，312，411，412，511，512)形成为使得所述反射镜元件的预定操作温度想要的设定点曲率通过所述层堆叠施加的弯曲力产生，其中，在形成所述层堆叠之前，所述基板具有的曲率偏离所述反射镜元件的该设定点曲率，以及其中，由所述层堆叠施加的弯曲力至少部分通过进行改变所述层堆叠的层张力的后处理来产生。2.根据权利要求1的方法，其特征在于，由所述层堆叠(111，112，113，114，211，212，311，312，411，412，511，512)施加的弯曲力，尤其是改变所述层堆叠的层张力的后处理带来曲率的不可逆变化。3.根据权利要求1或2的方法，其特征在于，该后处理包含热后处理，所述热后处理尤其通过加热辐射、激光辐射或退火导致。4.根据权利要求1至3中任一项的方法，其特征在于，该后处理包含离子辐射或电子辐射。5.根据上述权利要求中任一项的方法，其特征在于，该后处理局部限制于所述层堆叠的一个或多个部分。6.根据上述权利要求中任一项的方法，其特征在于，在形成所述层堆叠之前(111，112，113，114，211，212，311，312，411，412，511，512)，所述基板(101，102，103，104，201，202，301，302，401，402，501，502)为平面的或具有凸曲率。7.根据上述权利要求中任一项的方法，其特征在于，所述基板具有局部变化刚度，其选择为使得所述反射镜元件的预定操作温度想要的设定点曲率在形成所述层堆叠之后获得。8.一种制造反射镜元件的方法，其中，所述方法包含以下步骤：提供基板(101，102，103，104，201，202，301，302，401，402，501，502，801，901，951，961)；以及在所述基板上形成层堆叠(111，112，113，114，211，212，311，312，411，412，511，512)，其中，该层堆叠具有至少一个反射层系；其中，在形成所述层堆叠之前，所述基板经受影响刚度的处理，其中，所述刚度在该处理期间设置为使得所述反射镜元件的预定操作温度想要的设定点曲率在形成所述层堆叠之后获得。9.根据权利要求8的方法，其特征在于设置所述基板的局部变化刚度，所述刚度与由所述层堆叠施加的弯曲力一起导致所述反射镜元件的期望表面几何形状。10.根据权利要求7至9中任一项的方法，其特征在于，所述刚度至少部分由所述基板的变化的厚度分布导致。11.根据权利要求7至10中任一项的方法，其特征在于，所述基板由第一材料制造，其中，所...

【专利技术属性】
技术研发人员：H恩基希，P休伯，S斯特罗贝尔，
申请(专利权)人：卡尔蔡司SMT有限责任公司，
类型：发明
国别省市：德国;DE