在获取样品结构的3D图像的方法中，最初在有限数量的原始样品平面处获取样品结构的2D图像的第一原始2D集合。根据该第一原始2D集合，计算由3D体积图像数据集表示的样品结构的3D图像，并且从3D体积图像数据集提取测量参数。这样的测量参数被分...

本发明涉及一种特别是在微光刻的光学系统中基于频率确定部件的位置的测量组件，其包括至少一个光学谐振器，所述谐振器包括固定的第一谐振器反射镜、与所述部件相关联的可移动测量目标、和固定的第二谐振器反射镜，所述第二谐振器反射镜由逆向反射镜(13...

一种诸如用于切片入图像处理的与聚焦离子束铣削柱结合的扫描电子显微镜的双光束装置。基于晶片的测试体积的至少一个横截面的一幅或多幅图像来确定晶片倾斜。

本发明揭露一种含有多反射镜单元(MU)的EUV多反射镜布置(MMA)，这些反射镜单元以取网格布置而逐一布置在载体结构(TS)上，其中每个反射镜单元具有底座组件(BE)及单独可倾斜的反射镜元件(ME)，该反射镜元件与该底座组件(BE)相对...

本发明涉及一种用于以显微镜测量样品(100)的方法(200)，该方法包含以下步骤：测量(S210)该样品(100)的倾角(131、132)；基于该倾角(131、132)校正(S220)该样品(100)的取向；以及扫描(S230)该样品。

在用扫描电子显微镜成像的情况下，首先将待成像的样品定位(27)在扫描电子显微镜(SEM)的真空室中，使得SEM的成像场到达待成像样品的一部分。将水添加(29)到真空室中，使得水作为H<subgt;2</subgt;O层沉淀在...

本发明涉及一种光学系统，特别是显微术的光学系统，具有分束器(100、200、300、400、500、600、700、800、900)，该分束器具有光入射表面和光出射表面，其中对于光学系统的预定工作波段，该分束器将入射在光入射表面上的少于...

本发明涉及一种用于确定光学系统(200A、200B、200C、200D、200E、200F)中的反射镜(100、M1、M2、M3、M4、M5、M6、M7、M8、M9、M10、M11)的位置的方法，包括以下步骤：a)从所述反射镜(100、...

本发明有关于一种使用聚焦粒子束(227)修复样品(205、300、1500)的至少一个缺陷(320)的方法，包括以下步骤：(a)产生(1850)至少一个第一局部导电牺牲层(400、500)于该样品(205、300、1500)上，其中该第...

本发明有关一种光学部件组，特别是用于微光刻投射曝光设备的照明装置，其包含具有第一反射层系统的第一反射部件、以及具有第二反射层系统的第二反射部件，其中该第一反射部件和第二反射部件在其光学有效表面的几何形状方面对应，以及其中第一反射层系统的...

本发明有关于一种EUV照明设备和一种设计用于在EUV中操作的微光刻投射曝光设备的操作方法。EUV照明设备包含第一反射部件、第二反射部件以及交换装置，在光学射束路径中的该第一反射部件和该第二反射部件通过该交换装置可彼此交换，其中偏振度定义...

本发明涉及一种用于半导体光刻的投射曝光系统(1、101)，包括两个材料结合的部件(31、32)；其中材料结合由粘合层(35)产生；其中粘合层(35)的特征在于粘合层(35)的至少部分恒定的厚度(I<subgt;k</subg...

一种用于投射曝光设备(1)的光学系统(100)，包含第一部件(102)、第二部件(104)，其中该第二部件(104)可在相对于该第一部件(102)的致动区域(A)内致动，以及终点止动装置(106)，其允许该第二部件(104)在该致动区域...

本发明系关于加热设备及用于加热光学元件的方法，尤其是一种微光刻投影曝光装置。一种根据本发明的加热设备包含至少一个光束成形单元(12、22、32、42、52、54)，用于对从辐射源引导到至少一个光学元件(25、35、45、55a、55b)...

一种用于投射曝光装置(1)的光学元件(100A、100B)，包含具有光学作用面(102)的反射镜本体(104)，该反射镜本体(104)包含底座部位(106、132)，其承载传感器系统(108、110)；以及边缘部位(120、136)，在...

本发明涉及一种用于操作光学系统的方法，其中该方法包括以下步骤：(a)使用传感器来测量光学系统中的多个不同传感器位置处的至少一个物理量的值，以及(b)基于该测量诊断光学系统的现有或预期故障，在步骤(a)中测量的值用于执行其他位置处的至少一...

本发明涉及一种连接装置，用于通过具有第一接触部分(110.1)、第二接触部分(110.2)和耦接部分(110.3)的连接单元(110)连接用于微光刻的成像装置(101)的第一部件(104.2)和第二部件(M3)，特别用于使用极紫外范围(...

提出了一种用粒子束(114)来分析和/或处理样品(10)的装置(100、400)，该装置包含：提供单元(110)，用于提供该粒子束(114)；以及测试结构(200)，其附接到该提供单元(110)；其中该装置(100、400)配置成使用该...

本发明涉及一种用于测量光刻装置(1)的光学系统处或光学系统中的温度的温度测量装置(100)，该装置包括：激活源(101)，用于在激活源(101)的第一和第二连接点(101a、101b)之间产生测量电流或测量电压；多个温度电阻器(102、...

一种将X射线照射的对象成像的成像光学配置。成像光学设备用于将场平面中的传输场成像到检测平面内的检测场。闪烁体材料层配置于该传输场处。光阑配置于该成像光学设备的光瞳平面内。该成像光学设备具有光学轴。该光阑的光阑开口的中心配置在相对于该光学...