本发明涉及一种用于操作光学系统的方法，特别是用于FUV/VUV波长范围的光学系统，其中光学系统包括至少一个具有金属表面(3a)的反射光学元件(1)，金属氟化物层(4)被施加到金属表面(3a)，其中操作光学系统包括用辐射(6)照射光学元件...

本发明涉及一种测试系统(1)，其具有测试腔(2)，被测对象能布置在该测试腔中，其中，所述测试腔(2)具有至少一个限定测试腔(2)的腔室壁(3)，其中，测试腔(2)配有第一真空发生器(12)以便能够在测试腔(2)中产生真空，并且其中，腔室...

本发明有关于用于半导体光刻的投射曝光设备(1、101)的模块，包含加热装置，其具有至少一个辐射源(53)，用于发射电磁加热辐射以加热模块的部件(Mx、117)的至少多个区域。在本文中，加热装置包含至少一个加热元件(51)，其内建于部件(...

本发明涉及一种用于沉积至少一个氟化物层(2)的方法，该方法包括：在多个ALD循环中，通过光辅助原子层沉积、即ALD将氟化物层(2)沉积在衬底(3)上。该方法包括至少在多个ALD循环的一部分中、尤其在所有的ALD循环中用UV/VIS光(1...

本发明涉及一种用于光刻系统（1）的光学系统（200），包括：用于引导辐射（204）的多个光学元件（202）、用于支撑光学元件（202）的支撑设备（208）、以及多个N个有源和/或无源部件（214、252、700、702、1000、100...

一种用于投射曝光装置（1）的光学系统（100），包括：光学元件(108)；以及安装座（116），该安装座（116）承载该光学元件（108）；其中该安装座（116）包括外环（118），至少一部分的该光学元件（108）容纳在该外环（118）...

本发明涉及一种用于投射曝光设备（1）的光学系统（100），包括第一部件（102）、第二部件（110）和紧固装置（118），第二部件（110）通过紧固装置（118）紧固至第一部件（102），其中紧固装置（118）具有用于使第二部件（110...

本发明涉及一种反射镜装置，特别是用于光刻系统的反射镜装置，包括：用于反射辐射的多个反射镜元件（21），特别是MEMS反射镜模块的形式；多个载体元件（24），每个载体元件具有用于容纳反射镜元件（21）之一的头部区域（27）；安装装置（25...

本发明关于一种微光刻投射曝光设备(1)的反射镜(26)的制造方法，设置第一反射镜部件(27)和第二反射镜部件(28)，第一反射镜部件(27)和第二反射镜部件(28)在第一反射镜部件(27)的第一连接表面(29)和第二反射镜部件(28)的...

一种用于通过相消干涉抑制至少一个目标波长的光学衍射元件。该光学衍射元件具有至少三个衍射结构层级。所述衍射结构层级(N<subgt;1</subgt;、N<subgt;2</subgt;、N<subgt;3&...

一种用于光学元件（102、102’）的反射镜座（112、112A、112B、112C、112D、112E、112F、112G、112H、112I、112J、112K、112L、112M、112N、112O、114、116），其包含中心轴...

本发明涉及一种用于光刻设备(1)的光学系统(100)，包括：真空(V)下的真空壳体(200)，在真空(V)下的真空壳体(200)中布置有用于在光学系统中引导辐射的多个光学元件(210)和分配给光学元件(210)的多个致动器/传感器装置(...

本发明涉及一种用于微光刻投射曝光设备(600、700)的自适应反射镜(100)，包括反射镜基板(101)，包括光学有效表面(102)和用于反射入射到光学有效表面(102)上的电磁辐射的反射层系统(103)，包括用于产生光学有效表面(10...

本发明提供一种用于EUV投射曝光设备（1）的EUV光学模块（35），其具有至少一个光学部件（19、21、23、7、M1至M6、13），该光学部件具有光学表面，用于沿着该投射曝光设备（1）的照明和/或成像射束路径引导来自EUV源（3）的所...

本发明揭露一种作为检查物体的计量系统的一部分的放大成像光学单元(20c)。该放大成像光学单元具有至多四个反射镜(M1至M4)，其将物平面(17)中的物场(4)成像至成像平面(22)中的像场(21)。根据一方面，该放大成像光学单元的入射光...

本发明涉及一种用于校正用于EUV微光刻的光学元件(25)的具有反射涂层(27)的表面上的局部凸起(40)的方法。该方法包括以下步骤：测量具有反射涂层(27)的光学元件(25)的表面；基于表面测量的结果识别具有反射涂层(27)的表面上的局...

本发明公开一种具有反射镜表面（26）的反射镜元件（20），反射镜表面包括非球面目标区域（22）和紧邻目标区域（22）边缘（24）的延伸区域（28），其中边缘（24）由至少两次连续可微分的闭合曲线（b）描述；其中目标区域（22）在位于该曲...

本发明涉及一种用于半导体光刻的投射曝光系统(1、101)，包括至少一个光学元件(Mx、117)，其中用于使光学元件的光学有效表面(33)变形的至少一个致动器(44)设置在光学元件(Mx、117)的后侧(43)上，并且其中致动器(44)设...

本案实例揭露通过分析样品表面来执行半导体计量的方法，以及训练用于通过分析样品表面来执行半导体计量的机器学习逻辑的方法。所述实例具体揭露了通过分析样品表面来执行半导体计量的方法，其中该方法包括：获取（701）使用第一图像模态所产生的第一图...

本发明涉及一种用于光学系统的组件，具有：反射镜阵列(110、310、410、510、610)，该反射镜阵列具有布置在第一载体(111、311、411、511、611)上的多个反射镜元件，第一载体(111、311、411、511、611)...