一种用于将物场(5)成像至像场(11)的成像EUV光学单元(10)。成像光学单元(10)具有多个反射镜(M1到M6)，用于沿成像束路径引导EUV成像光(16)。多个反射镜包含至少两个NI反射镜(M1、M2、M5、M6)及至少一个GI反射...

本发明公开了一种用于光刻系统（1）的MEMS反射镜（30），包括：可以以倾斜角（W）位移的反射镜板（31）、用于承载反射镜板（31）的承载板（32）、基板（33）、联接基板（33）和承载板（32）、用于倾斜反射镜片（31）的固体接头（3...

本发明有关于生产MEMS反射镜阵列(100)的方法，例如能被用于光刻，以及有关于根据此方法生产的MEMS反射镜阵列(100)。本方法特别的差异性在于，在根据本发明所提供的生产步骤中的至少一个之前或之后，部件部分的形成此MEMS反射镜阵列...

本发明涉及一种用于辐照光刻物体(14、40、50)的方法，其中光刻物体(14、40、50)涂覆有抗蚀剂层(20)。抗蚀剂的辐照特性以空间分辨的方式确定。根据针对光刻物体(14、40、50)的第一表面区域确定的辐照特性，将辐照装置(21、...

本发明涉及一种用于测量部件（2）、特别是光刻系统的光学部件（2）的设备（1），所述设备（1）具有至少一个隔振器装置（3）、安装在所述至少一个隔振器装置（3）上的测量系统（4）以及用于经由至少以下连接向所述测量系统（4）供应的供应装置（5...

本发明涉及一种用于确定微光刻光学系统（100）中的部件（126）的位置的测量模块（10），包括：第一光学谐振器（18‑1），用于通过用第一测量光束（28‑1）照射与部件相关联的第一测量目标（16‑1）来进行距离测量；以及第二光学谐振器（...

用于微光刻光掩模（100）的缺陷（D1）的粒子束诱导蚀刻的方法，包括以下步骤：a）在所述缺陷（D1）的区域（120）中的所述光掩模（100）的表面（118）处提供（S1）活化粒子束（114）和第一气体成分（116），所述第一气体成分（1...

本发明关于一种计算机实施方法(54,54’,54’’,54’’’)，用于产生在入射电磁波(22)的照射下光刻掩模(14)的模型的空间像(64)，方法包含：(a) 近似地模拟入射电磁波(22)在包含多个结构的光刻掩模(14)的第一部分(2...

为了确定具有照明系统以照明物场以及投射系统以将物场成像至像场中的光学系统的光学性质，执行以下步骤：提供经由包括多个光瞳光斑的照明光瞳对物场的照明。提供了一种具有包括多个移位光学区域的光学表面的光学元件，其根据相应的移位光学区域实现进入相...

提出了一种用至少一种涂层涂覆基板的方法，所述涂层包含至少一种涂层材料，所述涂层材料沉积在基板上或施加在基板上的部分涂层上，其中电中性颗粒可用于辅助沉积。

提供了一种制备用于带电粒子束检查的样品的方法。该方法包含提供半导体结构样品并识别待检验样品区域中的电隔离区域。该方法更包含提供对该至少一个电隔离区域的电连接。

本发明涉及一种用于投射曝光系统（1）的光学系统（100A、100B），具有光学元件（102、102'、212）、用于支撑光学元件（102、102’、212）的支撑结构（134、214）、以及用于将光学元件（102、102'、212）耦接...

本发明涉及一种用于干涉测量地确定测试对象的表面形状的方法。根据一个方面，在测试布置（100）中，由电磁辐射生成并从测试对象（110）反射的测试波与参考波重叠，在所述测试波撞击测试对象（110）之前，该参考波在参考元件（120）的参考表面...

本发明涉及利用粒子束处理光学光刻对象的方法，包括：向对象施加相对于参考电位的第一电压，以影响粒子束。本发明还涉及一种可定位接触元件的测试方法，包括：在对象上提供具有预定粒子束电流的粒子束；至少部分基于粒子束电流及流过该可定位接触元件的电...

一种用于投射曝光设备（1）的光学组件（102），包括：光学元件（104）；支撑结构（106），承载该光学元件（104）；以及多个解耦装置（134），设置在该光学元件（104）和该支撑结构（106）之间，以将该光学元件（104）从该支撑结...

本发明涉及一种光学模块(300)，其包括用于紫外波长范围内的工作波长范围的光学元件(301)和保持器(303)，其中光学元件(301)用可在紫外波长范围内的固化波长范围内固化的粘合剂(305)通过辐射(309)接合到保持器(303)上，...

本发明涉及一种机电元件，其包括机电布置和保护层。机电元件的特征在于，保护层至少部分地施加到至少一个表面上和/或至少部分地施加在至少一个腔内。本发明还涉及用于反射DUV和/或VUV和/或EUV辐射的单独反射镜，其包括根据本发明的机电元件和...

一种色差校正照明光学单元（20），用于光刻投射曝光设备中，特别是用于以适合于下游投射光学单元的方式，通过成像束路径（23）将照明调节场（16a）成像到该下游投射光学单元的物场（14）中。该照明光学单元（20）在该成像束路径（23）中具有...

本发明涉及一种光学元件（100、200、300、400、500、600、700），包括：衬底结构（102、202、302、402、502、602、702），其至少包含含有SiO2的初级层（110、210、310、410、510、610、...

本发明关于用于设定样品（100、600、1000、1325）的静电电荷（200、300）的方法（1400）及装置（1300）。该方法（1400）包含以下步骤：（a）调整（1420）至少一个粒子束（120、420、720、1315）的至少...