提供了一种使用锚定特征来分割图像的方法。此方法比传统分割方法更加灵活和耐用，并且需要更少的使用者互动。该方法利用先前认知，也可应用于图像对比度较差的半导体特征。利用结合新方法的系统，改进关注的半导体对象的检查工作，并且可提供用于训练机器...

本发明涉及一种光学系统和一种用于操作光学系统的方法，特别是在微光刻投射曝光设备中。根据本发明的光学系统具有至少一个光学元件和用于加热所述光学元件的加热装置，其中加热装置包括多个加热段，可以向加热段施加电流以产生热量，其中可以通过加热段调...

本发明涉及一种用于测量和/或加工镜片(7)、尤其扫描显微镜的设备(1)，所述设备具有镜台(6)，在所述镜台上能够安置镜片(7)，所述设备还具有配属于镜台(6)的、用于测量或加工镜片(7)的作业头(9)和支架(2)，所述支架具有支承所述镜...

本发明涉及一种用于投射曝光系统(1)的光学元件(100、200)，包括：反射镜体(104、204)，该反射镜体(104、204)具有带有光学有效表面(102、202)的反射镜部分(124、224)和设置在反射镜部分(124、224)的背...

本发明涉及一种反射镜装置，特别是用于微光刻投射曝光系统的反射镜装置，包括反射镜(20)、传感器单元(26)和控制单元(38)。反射镜(20)包括反射镜本体(23)和设置在反射镜本体(23)上的反射表面(24)。传感器单元(26)被设计成...

在一种测量方法中，该方法使用EUV反射计来测量反射EUV辐射的测试物体(PR)的反射率，该反射率作为EUV辐射的波长和EUV辐射在测试物体的反射表面(OB)上的入射角的函数，借助于第一部分系统(TS1)以及借助于光束整形单元的第二部分系...

投射曝光设备（1）的照明光学单元（25）的光瞳分面反射镜（10）的个别反射镜（11），其被安装为可围绕两个枢转轴（31、32）进行枢转，其中个别反射镜（11）围绕两个枢转轴（31、32）的可枢转性的比例至少为2:1。

本发明涉及一种反射镜装置，特别是用于微光刻投射曝光系统的反射镜装置，包括反射镜(20)、传感器单元(41、42、44、47、49)和控制单元(38)。反射镜(20)包括反射镜本体(23)和设置在反射镜本体(23)上的反射表面(24)。传...

一种用于检测缺陷的计算机实施方法(82)，其包括：获取晶片(24)的成像数据集(28)；在晶片(24)的成像数据集(28)的子集合中验证缺陷标准，缺陷标准包括：成像数据集(28)的子集合的观测表征(88)，其有关于从半导体结构的参考图像...

在微光刻投射曝光设备(1)中，照明光学单元(4)的第二分面镜(14)布置在晶片平面(9)的区域中，特别是布置在晶片平面(9)下方。

本发明涉及一种用于处理主体（20）、特别是EUV反射镜的反射镜主体的方法，其中将离子束（18）引导至主体（20）的待处理表面（21），以便从主体（20）的表面（21）去除材料。离子束（18）沿着表面（21）上的路径（22、23、24、2...

本发明涉及一种用于投射曝光设备(1)的光学组件(102)，包括光学元件(126)和承载光学元件(126)的安装座(128)，其中安装座(128)包括安装座下部(136)和可释放地连接到安装座下部(136)的安装座上部(138)，其中光学...

本发明公开了一种用于处理微光刻光掩模(100)的缺陷(D)的方法，其中借助于粒子束(802)激活工艺气体，其中控制单元(828)设置成用于控制具有控制带宽(GF)的偏转单元(816)，其中用于偏转粒子束(802)的偏转单元(816)被配...

本发明涉及一种用于光学系统（300）的测量装置（400），包括：输入节点（K1），用于接收在光学系统（300）中下降的电压（V2）；电容式分压器（410），其能够连接到所述输入节点（K1）并且包括由包括测量电容器（C2）的至少两个电容器...

一种用于调整投射曝光设备(1)的光学系统(100)的光学元件(102、102’)的双脚架(202、202A、202B、204、206)，包括：机构(224)，其耦联到光学元件(102、102’)以调整光学元件(102、102’)；基座部...

本发明有关用于微光刻照明系统（20）中分面镜（18、19）的系统整合校准的配置（100）、方法和计算机程序产品。定义了经由在校准辐射源装置（101）与校准辐射传感器装置（102）之间的分面镜（18、19）引导的校准射束路径（103、10...

本发明涉及一种光学系统的组件，包括具有反射镜主体（200，300）的至少一个反射镜，其中存在流体通道装置，流体通道装置具有流体可以流过的至少一个流体通道（206，306），其中流体通道装置经由可拆卸的凸缘连接耦接到流体管线系统，其中所述...

本发明涉及一种用于处理干涉仪的参考元件（14）的方法（10），所述干涉仪被配置为测量测试对象的表面形状，其中所述参考元件（14）对于干涉仪的测量辐射是透射的，并且包括用作测试对象的干涉测量的参考表面的第一表面（16）。所述方法（10）包...

本发明涉及一种用于操作微光刻投射曝光设备（1）的方法，其中为了至少部分地补偿由于例如偶极照明（300）的程度而产生且最终导致成像对比度的不希望的损失（M3D效应）的图像偏移，提供以下：场相关照明，其中用不同照明设定照明物平面（6）的不同...

一种用于生产用于投射曝光设备(1)的光学元件的中间产品，包括用于指定光学表面的基本形貌的基板(20)，其中包括待结构化的层(22<subgt;i</subgt;)和对比层(23<subgt;i</subgt;)的...