本发明涉及一种在光刻的投射曝光设备（1）中使用的MEMS反射镜阵列模块（100）。根据本发明的MEMS反射镜阵列模块（100）包括位于重新布线基板（120）上的MEMS反射镜阵列结构（110），以及用于将MEMS反射镜阵列模块（100）...

本发明涉及一种微光刻投射曝光设备中的组件，其中该组件（100、200、300、400）包含：光学元件（101、201、301、401）；至少一个重量补偿装置（110、210、310、410），其具有用于产生磁场的无源磁路（111、211...

一种反射镜组合件(21)具有反射镜(27)，该反射镜具有反射镜主体(25)和反射表面(26)。用于该反射镜主体(25)的至少一个反射表面支撑部(251)的旋转驱动装置(28)具有第一马达(29)和第二马达(30)。该第一马达(29)具有...

本发明涉及投射曝光系统（1、101）的投射物镜（110）和投射曝光系统（1、101），其包括具有光学元件（M3）和加强体（35、45、55、75.1、75.2）的光学模块（30、40、50、70、90），其中光学元件（M3）和加强体（3...

本发明关于一种反射镜系统，其包括EUV反射镜（M1‑M6），其中该EUV反射镜（M1‑M6）包括镜体（38）和形成在该镜体（38）上具有高EUV辐射反射率的光学表面（32）。该反射镜系统还包括框架结构（31），该框架结构承载该镜体（38...

本发明尤其涉及一种用于影响样品的电荷状态的方法，该方法包括：为了分析和/或处理样品而将带电粒子束引导到样品上，其中粒子束的粒子通过第一加速电压加速到样品上并且导致样品的充电；以及为了影响样品的充电而将带电粒子束引导到样品上，其中粒子束的...

一种操作双波束系统的改良方法，以及一种在图像形成或离子束铣削期间用于改良减轻充电效应的双波束系统。所述改良方法和该双波束系统利用产生用于电荷排出的暂时传导区、在离子束铣削期间的并行停止充电、或者采用封围在局部气体冲洗体积中的冲洗气体停止...

本发明提供了一种方法，该方法包含确定在半导体样本中提供的代表性基准真实结构，所述半导体样本具有多个结构，其主要在含有所述多个结构的针对性区域中沿该样本的厚度方向延伸。此外，确定铣削样本的至少一个调适图像，其中该至少一个调适图像包含沿厚度...

本发明涉及一种反射镜系统，其包括具有对EUV辐射具有高反射率的光学表面（32）的EUV反射镜，并且包括承载反射镜系统的系统部件的框架结构（39）。所述框架结构包括结构体（40）和插入件（42），所述插入件（42）由热性能与所述结构体（4...

本发明涉及一种部件，特别是光学元件（Mi）或结构部件部分，包括：主体（25），包括流体可流过的中空结构，该中空结构具有多个冷却通道（31）、流体分配器（33）和流体收集器（34），其中，为了将流体供应到冷却通道（31），流体分配器（33...

本发明涉及一种用于驱动致动器（200）的驱动装置（100），该致动器用于致动光学系统（4、10）的光学元件（310），该驱动装置具有放大器（110），该放大器被配置为在输入节点（K1）处接收所提供的电源电压（V1）并在输出节点（K2）处...

本文描述的公开内容涉及一种用于分析用于光刻的掩模的方法，包括：对准所述掩模的空间像（I）和所述掩模的掩模设计（ML），以形成所述空间像（I）和所述掩模设计（ML）的叠加；其中CD阈值确定区域（501）和CD测量区域位于所述空间像（I）内...

本发明涉及一种光学系统（300），其具有多个可致动光学元件（310）和多个用于致动和/或感测光学元件（310）的致动器/传感器装置（200），该光学系统具有用于为光学系统（300）的多个电负载（500，L1‑L12）提供供电电压（VS）...

本发明涉及一种用于确定样品在可绕旋转轴线旋转的样品台上的取向的方法。该方法包括：a）将样品相对定位在第一位置；b）使样品相对于高度传感器旋转通过第一旋转角度；以及c）在旋转期间使用高度传感器重复测量样品的第一高度。在该过程中，为了测量第...

本发明涉及一种用于制造光刻设备（1）的光学系统（100）的方法，其中光学系统（100）包括具有光学有效表面（106）和基板（104）的光学部件（102），所述方法包括：a）为一个或多个光学部件（102、202a、202b、202c）的基...

本发明涉及一种将温度调节中空结构（22）结合到EUV投射曝光设备的反射镜（10）的基板（12）中的方法，包括以下步骤：（A）提供由基板材料12a构成的基板（12）；（B）将处理光束（46）逐渐聚焦到将要产生温度调节中空结构（22）的加工...

本发明涉及一种制造投射曝光设备、尤其是EUV投射曝光设备（100）的光学元件的反射镜基板（201、301、401、501）的方法，该反射镜基板包含第一部件（202、402、502）和至少一个第二部件（204、304、404、504），其...

本发明涉及一种将温度调节中空结构（22）结合到基板（12）、特别是光学元件（8）的基板（12）、特别是EUV投射曝光设备的反射镜（10）的基板（12）中的方法，所述方法包括以下步骤：（A）提供由基板材料（12a）构成的基板（12）；（B...

本发明涉及一种用于稳定光学元件的方法，该方法包括：提供具有基板和涂层的光学元件，以及使该光学元件经受热处理。通过对光学元件进行热处理，包括用电子照射光学元件的涂层，解决了提供克服现有技术缺点的方法和光学元件的问题。此外，本发明涉及光学元...

一种用于检查部件的设备和方法，以及一种光刻系统。本发明有关一种用于检查具有周期性结构（3）的部件（2）的设备（1），所述周期性结构具有配置在晶格（4）上的子结构（5），该设备至少包含用于产生测量辐射（7）的测量辐射源（6）、光学系统（8...