【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术有关一种光学系统以及一种含有此光学系统的投射曝光装置。优先权申请案第de10 2022 214 186.5的内容整个并入本文供参考。
技术介绍
1、微光刻用于制成微结构部件，例如集成电路。使用具有照明系统及投射系统的光刻装置来执行微光刻制程。在此，通过照明系统照明的掩模（掩模母版）的像通过投射系统投射到基板上，例如硅晶片上，其涂覆感光层（光刻胶）并配置在投射系统的像平面上，以将掩模结构转印到基板的光敏涂层上。
2、在集成电路生成中对更小结构的需求的推动下，目前正在开发duv光刻装置（深紫外线，duv），其使用波长范围在30nm至250nm之间、特别是193nm的光。在此duv光刻装置的情况下，可使用反射光学单元（即反射镜）来取代迄今为止的折射光学单元（即透镜元件）。
3、此反射镜可容纳在安装座中。此安装座通常固定安装在例如如前述的投射系统中。因此，并没有将安装座与反射镜一起更换的措施。此外，安装座本身可能会对反射镜施加张力，这可能导致反射镜中出现多余的应力，进而导致反射镜的光学特性改变。这需要加以改善。
【技术保护点】
1.一种用于投射曝光装置（1）的光学系统（100），包括：
2.如权利要求1所述的光学系统，该接合部（142、146）被配置为使得该固定部（134）能够沿着该光学系统（100)的径向方向（R）进行枢转运动。
3.如权利要求1或2所述的光学系统，其中各个固定部（134）包括面向该光学元件（108）的接合表面（136），该接合表面紧密地连接至该光学元件（108）；以及其中该接合表面（136）的法线（140）在该光学系统（100）的另一中心轴线（102）上彼此相交。
4.如权利要求1-3中任一项所述的光学系统，其中借助于第一接合部（142...
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】
1.一种用于投射曝光装置（1）的光学系统（100），包括：
2.如权利要求1所述的光学系统，该接合部（142、146）被配置为使得该固定部（134）能够沿着该光学系统（100)的径向方向（r）进行枢转运动。
3.如权利要求1或2所述的光学系统，其中各个固定部（134）包括面向该光学元件（108）的接合表面（136），该接合表面紧密地连接至该光学元件（108）；以及其中该接合表面（136）的法线（140）在该光学系统（100）的另一中心轴线（102）上彼此相交。
4.如权利要求1-3中任一项所述的光学系统，其中借助于第一接合部（142）以及不同于该第一接合部（142）的第二接合部（146）使各个固定部（134）可枢转地连接至该外环（118）。
5.如权利要求4所述的光学系统，其中各个固定部（134）借助于该第一接合部（142）可枢转地连接至连接部（144），以及其中该连接部（144）借助于该第二接合部（146）可枢转地连接至该外环（118）。
6.如权利要求1-5中任一项所述的光学系统，其中该光学元件（108）包括：
7.如权利要求1-6中任一项所述的光学系统，其中该安装座（116）包括内环（120），该内环（120）设置在该外环（118）内，其中该内环（120）...
【专利技术属性】
技术研发人员：S·亨塞勒，T·赫格尔，D·杜尔，J·克鲁伊斯，C·维尔纳，
申请(专利权)人：卡尔蔡司SMT有限责任公司，
类型：发明
国别省市：
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