本发明涉及一种光学测试样品的莫尔测量的设备，包括：光栅布置，其由在测试样品上游的光束路径中可定位的第一光栅(25、25’、35、35’)和在测试样品下游的光束路径中可定位的第二光栅(11、11’、11”、41、51、61、71、81、9...

本发明涉及一种光学系统，特别是显微术的光学系统，具有分束器(100、200、300、400、500、600、700、800、900)，该分束器具有光入射表面和光出射表面，其中对于光学系统的预定工作波段，该分束器将入射在光入射表面上的少于...

一种用于测量EUV镜头(30)的成像质量的测量系统(10)，包括：衍射测试结构(26)；测量光辐射装置(16)，构造成将EUV波长范围中的测量光(21)辐射至测试结构；变更装置(28)，用于改变借助镜头实现的测试结构的成像的至少一个像确...

本发明涉及一种用于致动光学系统、尤其是投射曝光设备的光学系统中的光学元件的装置，其中，所述光学元件(101)通过具有接合件刚度的至少一个接合件(102)能够关于至少一个倾斜轴线倾斜，所述装置包含用于对所述光学元件(101)施加力的至少一...

为了还促进相对较大入射角范围或波长范围内的高反射率，提出了极紫外波长范围的反射式光学元件，所述反射式光学元件包括在基板上的区域之上延伸的多层系统，其中该多层系统包括在极紫外波长范围中的波长处具有不同折射率实部的至少两个不同材料构成的层(...

本发明关于用于波前分析的装置及方法。用于波前分析的装置设计为用于分析通过光学系统的至少一个光波的波前，且包含：至少一个照明掩模(105、205、305、405、406、407)；至少一个第一光栅(120、220、320、420)，其具有...

本发明关于一种通过导引构件(5)调校组件(1)的装置，其中导引构件(5)的头部区域(6)紧固于组件(1)的固定点(7)且导引构件(5)的底部区域(8)紧固于致动设备(4、14)的致动元件(10)的固定点(9)，其中致动设备(4、14)设...

本发明涉及光学元件(10)，包括：具有实施为自由形式表面的光学表面(2)和在侧边处邻接光学表面(2)的区域(3)的基板(1)，其中该在侧边处邻接光学表面(2)的区域(3)在每个点(P)处不超过形式为局部像散的抛光标准的阈值，其中该阈值由...

一种用于场成像和/或光瞳成像的光学系统(10)包括光轴(16；46)、光阑平面(18；38)以及像平面(20；40)。该光学系统包括透镜系统(11；37)，该透镜系统具有三个透镜组(14a，b，c；42a，b，c)，每个透镜组具有至少一...

本发明涉及一种投射光刻的成像光学单元(7)，其具有多个反射镜(M1至M10)，以将成像光(3)沿着成像光束路径从物平面(5)中的物场(4)引导到像平面(9)中的像场(8)中。反射镜(M2至M8)中的至少两个实施为GI反射镜。恰好一个光阑...

本发明涉及一种光学成像布置(101)，包括光学投射系统(102)、支撑结构系统(111、112)以及控制装置(109)。光学投射系统(102)包括光学元件的组，光学元件的组由支撑结构系统(111、112)支撑且配置为在曝光过程中使用曝光...

本发明涉及投射光刻的成像光学单元(7)，其具有多个反射镜(M1至M8)，以将成像光(3)从物场(4)引导到像场(8)中。物场(4)沿着第一、较大物场尺寸和沿着第二、较小物场尺寸由两个物场坐标(x，y)跨越。成像光学单元(7)具有至少两个...

本发明涉及一种光学校正装置，其包括沿着光轴(16)接连布置的第一校正部件和第二校正部件(12，13，14)。该第一校正部件和第二校正部件(12，13，14)设置有非球面轮廓(18，20)，该非球面轮廓在该光学校正装置(10a，10b，1...

可以通过束引导装置(28)将由不同辐射源(4i)发射的照明辐射(5)朝向不同扫描仪(3i)引导。

一种EUV投射曝光设备(WSC)的照明系统(ILL)，设计为接收EUV辐射源(LS)的EUV辐射(LR)和从接收的EUV辐射的至少一个部分成形照明辐射(ILR)，其中照明辐射在曝光操作期间被指引至照明系统的出射平面(ES)中的照明场，其...

一种传感器布置(1)，用于检测在光刻系统中的光学元件的位置，其中传感器布置(1)包括：第一电容传感器装置(2)，其具有借助第一激励信号(Vex1)可以检测的位置相关可变的第一传感器电容(CCS1)；第二电容传感器装置(3)，其具有借助第...

投射曝光设备(WSC)的反射镜布置(1)，包括多个反射镜元件(2a、2b)，其邻近布置并且共同形成反射镜布置(1)的反射镜表面(3)。每个反射镜(2a、2b)包括基板(4a、4b)和在基板(4a、4b)上的多层布置(5a、5b)。多层布...

提出光刻设备(100)，其包括：产生具有特定重复频率(f1)的辐射的辐射源(106A)；在所述光刻设备(100)中引导所述辐射的光学部件(200)；位移所述光学部件(200)的致动器装置(210)；以及测量装置(230)。在此，测量装置...

本发明涉及确定光刻系统(100)的多个反射镜(M1‑M6)各自的位置的传感器组合件，其包括：多个位置传感器装置(140)，其中各个位置传感器装置(140)包括测量单元(201)、光源(203)、检测单元(204)和信号处理单元(207)...

所公开的是一种光学系统(200)，其包括：第一光学控制回路(233a)，其配置为调节第一光学元件(124)相对于第一模块传感器框架(208a)的位置和/或对准；以及第一模块控制回路(216a)，其配置为调节第一模块传感器框架(208a)...