本发明涉及一种光学模块，尤其是分面反射镜，包括：光学元件(109)；以及支撑结构(108)，用于支撑光学元件(109)，其中，支撑结构(108)包括定位装置(111)，用于以至少一个自由度主动地设定光学元件(109)的位置和/或取向。支...

本公开提供一种成像光学系统、用于微光刻的投射曝光设备、制造结构化的组件的方法、以及结构化的组件。该成像光学系统例如是一种具有多个反射镜(M1、M2、M3、M4、M5、M6)的成像光学系统(7)，所述多个反射镜将物平面(5)中的物场(4)...

EUV反射镜包括基板和施加在所述基板上的多层布置，所述多层布置对于具有来自极紫外范围(EUV)的波长λ的辐射有反射效应，并包含具有交替层的多个层对，所述交替层包含高折射率层材料和低折射率层材料。多层布置具有：周期性第一层组(LG1)，具...

具有分片总表面区的反射镜，其中分片形成非周期布置。

本发明涉及一种用于尤其在EUV中操作的微光刻投射曝光设备的光学系统，包含：反射镜装置(200)，由多个可相互独立调节的反射镜元件组成；以及至少一个偏振影响装置(100)，相对于光传播方向布置在所述反射镜装置(200)的上游，其中，所述偏...

本发明涉及一种用于致动光学系统、尤其是投射曝光设备的光学系统中的光学元件的装置，其中，所述光学元件(101)通过具有接合件刚度的至少一个接合件(102)能够关于至少一个倾斜轴线倾斜，所述装置包含用于对所述光学元件(101)施加力的至少一...

一种光学系统，包括：反射镜系统(19)，包括多个反射镜元件(23)，其中，所述反射镜元件的取向可以独立于彼此设定；以及监视系统(52)，构造成确定所述反射镜元件(23)的取向。所述监视系统包括：监视辐射源(57)，构造成以具有多个不同波...

一种用于将来自EUV辐射源(3)的EUV辐射(14)传输至照明远场(17a)的EUV集光器(15)。所述集光器(15)包含至少一个正反射镜集光器子单元(23)，其包含至少一个用于正入射的反射镜(23)。另外，所述集光器(15)包含至少一...

一种产生用于投射光刻的投射曝光设备(1)的EUV照明光的可用输出光束(3)的EUV光源(2)。该光源(2)具有产生EUV原始输出光束的EUV产生装置(2c)。该EUV原始输出光束为圆形偏振。为了设定可用输出光束(3)的偏振，相对于偏振方...

一种微光刻投射曝光设备的照明系统，包含光学积分器(70)，该光学积分器包括第一光栅板(74)及第二光栅板(76)。第一光栅板(74)包含沿着参考方向(X)具有第一焦距f1的第一透镜(78)的阵列，第二光栅板(76)包含沿着参考方向(X)...

提供了一种衍射光学元件(50)，具有基板(52)和布置在其上的衍射结构图案(54)。所述衍射结构图案构造为将辐射至其上的平面或球面输入波(42)转换为：1)至少四个分离的输出波，其中，所述输出波中的至少一个是非球面波，所述输出波中的至少...

一种微光刻投射曝光设备(10)的照明系统，包括具有多个光入射分面(75)的光学积分器(60)，每个光入射分面与次级光源(106)关联。空间光调制器(52)具有光出射面(57)，以空间分辨方式透射或反射照射的投射光。光瞳形成单元(36)将...

一种微光刻投射曝光设备(10)的照明系统，包括具有多个光入射分面(75)的光学积分器(60)，光入射分面的像至少基本上在掩模平面(88)中叠加。空间光调制器(52)以空间分辨方式透射或者反射投射光。光瞳形成单元将投射光引导到空间光调制器...

微光刻投射曝光设备具有反射镜阵列，反射镜阵列具有基体和多个反射镜单元，每个反射镜单元包括反射镜和固态关节，固态关节至少具有一个关节部件，该至少一个关节部件将反射镜连接到基体。控制装置使得可以改变各反射镜相对于基体的排列。反射镜与基体或连...

一种EUV投射光刻投射曝光设备(1)的照明系统，包含光源(2)，其产生具有预定偏振态的EUV照明光的输出光束(3)。照明光学单元(5)沿光轴引导输出光束(3)，从而，掩模母版平面(15)中的照明场(14)由输出光束(3)照明。光源(2)...

一种微光刻的EUV投射曝光设备的反射镜布置，包含多个反射镜，所述多个反射镜各具有在EUV光谱范围中为反射的层(32)及具有主体(34)，可对所述层施加EUV辐射。在此情况下，该多个反射镜的至少一个反射镜(32)具有包含具有负热膨胀系数的...

一种用于微光刻的投射曝光设备(10)，包含形成曝光光束路径的多个光学组件(M1-M6)，并且包含距离测量系统(30、130、230)，用于测量光学组件(M1-M6)中的至少一个和参考元件(40、140、240)之间的距离。所述距离测量系...

公开了一种光刻设备(100)，包含：反射镜(200)，具有至少两个反射镜段(210)，所述至少两个反射镜段连接在一起，使得在所述反射镜段(210)之间形成空隙(214)；以及传感器(220，300)，用于检测所述反射镜段(210)的相对...

一种用于将物场成像于像场的成像光学单元。所述成像光学单元具有遮挡的光瞳(21)。该光瞳(21)具有中心(Z)，中心场点的主光线通过该中心，所述成像光学单元还具有多个成像光学组件。所述成像光学单元的连续光瞳遮挡区域(18)的重心(SP)离...

本发明提供一种光学成像设备，其包含光学投射系统和支撑结构系统。该光学投射系统包含光学元件组，该光学元件组配置为在使用沿着曝光光路的曝光光的曝光工艺中将掩模图案的像转印至基板上。该支撑结构系统包含光学元件支撑结构和度量支撑结构。该光学元件...