一种EUV反射镜布置(100)，具有彼此并排布置并且共同形成所述反射镜布置的反射镜表面的多个反射镜元件(110、111、112)。每个反射镜元件具有基板(120)和多层布置(130)，所述多层布置被施加到所述基板上，并关于来自极紫外范围...

本公开提供了一种用于微光刻的投射曝光设备（10）以及用于操作这种投射曝光设备的方法。该投射曝光设备（10）包括：投射镜（22），具有多个光学元件（E1-E4），用于在曝光过程期间将掩模结构成像到基底（24）上；至少一个操纵器（M1-M4...

本发明涉及一种微光刻投射曝光设备(10)的照明系统(12)，包括光瞳面和由优选地可单独控制、用于光瞳面可变地照明的射束偏转元件(28)组成的基本上平面状的布置。可以根据施加在射束偏转元件(28)上的控制信号，通过每个射束偏转元件(28)...

一种放大成像光学单元(7)具有至多四个反射镜(M1至M4)，其经由成像光束路径(8)将物平面(11)中的物场(6)成像至像平面(12)中的像场(9)中，所述成像光束路径(8)在所述成像光束路径(8)中相邻的反射镜(M1至M4)之间具有成...

适用于在EUV波长范围内的波长处使用的反射镜的基底(1)，包含基础体(2)，其中所述基础体(2)由沉淀硬化合金，由合金系的金属间相，由颗粒复合材料或由具有在相应合金系统的相图中位于由相稳定线定界的区域中的组成的合金制成。尤其优选的是，所...

一种装置用于控制设置在真空气氛中的光学元件的温度。该装置具有有着辐射冷却部分的冷却设备，所述辐射冷却部分布置成与所述光学元件分开，用于通过辐射热传递来冷却所述光学元件。控制器用于控制所述辐射冷却部分的温度。此外，该装置包括加热部分，用于...

本发明提供一种在微光刻的投射曝光设备（1）中用作光学元件的分面镜（13，14；47；64；67，70），-包括多个分立镜（21；69），对于入射照明光（10）的单独偏转，在每种情况下所述多个分立镜被连接到至少一个驱动器（24），-使得所...

本发明涉及用于确定在光学系统，尤其是微光刻投射曝光设备中的反射镜(101、201、401、601、701、801)的发热状况的方法和布置。在实施例中，反射镜为EUV反射镜，以及根据本发明的方法包含以下步骤：将至少一个输入测量光束偏转至反...

本发明涉及一种包含基底(S)和层布置的反射镜(la;la’;lb;lb’;lc;lc’)，其中将所述层布置设计为使得以至少在0°和30°之间的入射角入射于反射镜(la;la’;lb;lb’;lc;lc’)上的、波长小于250nm的光(3...

本发明涉及一种设计用于EUV的微光刻投射曝光设备的投射物镜，将在投射曝光设备的操作中被照明的物平面成像于像平面中，其中该投射物镜具有至少一个包含多个独立的反射镜区段(161-163；261-266、281-284；311、312；411...

一种微光刻投射曝光设备(10)，用于将提供图像的基板(20)的掩模结构(22)成像在待结构化的基板(30)上，该投射曝光设备包括测量装置(40)，该测量装置构造为确定布置在一个基板(20；30)的表面上的测量结构(32)在关于基板表面的...

一种降低微光刻投射曝光设备中的图像位置误差的方法，该方法包含以下步骤：提供掩模(16)、光敏层(22)及微光刻投射曝光设备(10)，该微光刻投射曝光设备使用投射光将掩模(16)中所含特征(19)成像于光敏表面(22)上。在下一个步骤中，...

一种用于曝光基板(20)的微光刻投射曝光设备(10)，包括：投射物镜(18)；及光学测量装置(40)，其用于在曝光基板(20)前，确定基板(20)的表面形貌。测量装置(40)具有在投射物镜(18)的外面延伸的测量光束路径，并构造为波前测...

用于微光刻的成像光学系统(10)，具体是投射物镜，包含：光学元件(M1-M6)，该光学元件构造为在成像光束路径中引导具有波长λ的电磁辐射(19)，用于将物场(13)成像到像平面(14)中；以及光瞳(24)，其具有坐标(p，q)，与光学系...

一种用于EUV辐射(14)的反射镜(20)，其包含反射镜主体，其具有至少一个EUV辐射反射区(23)及至少两个EUV辐射可穿透区(22)。因此，也可以较小入射角及较大物侧数值孔径形成照明和成像光束路径的空间分离。

提出了一种适用于EUV波长范围中的波长使用的反射镜的基底，该基底（1）包含主体(2)和抛光层(3)，其中抛光层(3)具有小于10μm的厚度以及小于0.5nm的均方根粗糙度，并且主体(2)由铝合金制成。此外，在EUV反射镜(4)的基底(1...

本发明提供了一种分面反射镜装置，其包含分面元件和支撑元件，该支撑元件支撑所述分面元件。所述分面元件包含弯曲的第一支撑部分，而支撑元件包含第二支撑部分，第二支撑部分形成与第一支撑部分在接触区域中接触的支撑边缘，以支撑分面元件。

一种用于投射曝光系统的成像光学系统(9)，其具有至少一个变形成像光学元件(M1至M6)。这允许以第一方向上的大物方数值孔径在该方向上完全照明像场，而不必扩大要被成像的掩模母版的范围，并且不减小投射曝光系统的生产能力。

一种微光刻投射曝光装置(10)的照明系统，包含具有光学光栅元件(56；156)的阵列(54c；154b)的光学积分器(52；152)。聚光器(72)将与光学光栅元件关联的光束叠加于共同场平面(71)中。调制器(62；162；262)修改...

本发明涉及一种用于半导体光刻的投射曝光装置(11)，其包含光学元件(1、18)，其中所述光学元件(1)中的至少一个具有用于在该光学元件(1)中以非接触方式产生电流的构件(2)，所述电流适合于至少在多个区域中加热该至少一个光学元件(1)。