一种用于微光刻的投射物镜（7）被用于将物平面（5）中的物场（4）成像为像平面（9）中的像场（8）。所述投射物镜（7）包括至少六个反射镜（M1至M6），其中至少一个反射镜具有自由形状反射面。根据本发明的第一方面，投射物镜（7）的总长度（T...

本发明涉及用于在微光刻中使用的分面反射镜（6；10）。分面反射镜（6；10）具有预定用于引导EUV照明光（3）的部分光束的照明通道的多个分面（7；11）。借由包括致动器（31；35）且具有运动分量（32；dz'；dz″）的调节装置（30...

本发明涉及用于光学成像方法的光学布置，其包含光学元件(108)、浸没区(109)和液体排斥装置(111)。在光学成像方法过程中，浸没区与光学元件相邻并用浸没液(109.1)填充。该光学元件具有第一表面区域(108.1)和第二表面区域(1...

一种用于微光刻投影曝光设备的照射系统，包括光源（30）和光学积分器（56）。后者具有第一光学子元件（561X、561Y、562X、562Y）并且产生每个发射光束的多个二次光源（82）。聚光器使得所述光束在掩模面（70）中重叠。至少一个散...

一种用于软X光和极紫外波长范围中的工作波长的反射光学元件形成用于EUV光刻的应力减少的反射光学元件。所述反射光学元件在基板（2）上包含至少两种交替材料（41、42）的第一多层系（4），所述至少两种交替材料在工作波长具有不同折射率实部，所...

为针对EUV光刻设备的掩模的高反射率而改进EUV光刻设备的掩模，提出了用于EUV光刻的反射掩模，所述反射多层系被构造用于EUV范围内的工作波长且具有在所述工作波长处具有不同折射率实部的至少两种材料的层的层堆，其中所述多层系（V）被构造为...

用于光刻投射曝光的成像光学部件（16），用于通过多个反射镜（M1至M6）引导具有小于193nm的波长的成像光（3）的光束，以进行物平面（5）中的物场（4）中的反射式物体（12）向像平面（18）中的像场（17）的无分束器成像，其中，物场点...

成像光学系统（7）具有多个镜（M1至M6）。这些镜将物平面（5）中的物场（4）成像到像平面（9）中的像场（8）。在成像光学系统（7）中，镜（M1至M6）的反射表面上的成像光（15）的最大入射角和成像系统（7）的像方数值孔径的比小于33....

本发明涉及一种用于特征化光学系统(尤其是微光刻投射曝光设备的光学系统)的偏振特性的布置及方法，该布置包含：至少一个偏振态产生器(130、230、330)，其设定入射于光学系统上的辐射的限定的偏振状态；以及偏振态检测器(140、240、3...

本发明涉及一种用于感光材料的结构化曝光的微光刻的投射曝光装置的反射镜(M)以及一种制造反射镜(M)的方法。根据本发明的反射镜(M)具有基板本体(B)、第一镜面(S)和第二镜面(S’)。该第一镜面(S)形成于该基板本体(B)的第一侧(VS...

本发明涉及用于EUV波长范围的反射镜（la；la'；lb；lb'；lc；lc'），该反射镜包含基底（S）和层布置，其中该层布置包括至少一个表面层系统（P'''），该表面层系统（P'''）由单独层的至少两个周期（P3）的周期性序列构成，其...

本发明涉及电子光学排布结构、多电子分束检验系统和方法。该电子光学排布结构提供一次和二次电子束路径，一次束路径用于从一次电子源指向可定位在该排布结构的物面中的物体的一次电子束，二次束路径用于源自物体的二次电子，该结构包括磁体排布结构，其具...

提供一种测量测试物体（12）的光学表面（14）的形状的方法。该方法包括以下步骤：提供产生测量波（18）的干涉测量装置（16），在不同测量位置处相对于彼此连贯地布置该干涉测量装置（16）和测试物体（12），从而由该测量波（18）照明该光学...

本发明关于一种光学系统，尤其是在微光刻投射曝光设备中的系统，其包含第一光学组件（110，210，910）、第二光学组件（120，220，920）、以及用于确定第一光学组件和第二光学组件在六个自由度上的相对位置的测量布置，其中测量布置用于...

本发明提供一种确定光学测试表面(14)的形状的方法和设备，所述方法包括步骤：通过适配光学部件(20)使测量光束(30)的波前适配于光学测试表面(14)的期望形状，并且通过经适配的测量光束对光学测试表面(14)的形状进行干涉测量；将经适配...

一种折反射投射物镜具有多个透镜以及至少一凹面镜(CM)，还有两个偏转镜(FM1,FM2)，从而将从物场到凹面镜的部分光束路径与从凹面镜到像场的部分光束路径分开。偏转镜相对于投射物镜的光轴(OA)绕着平行于第一方向(x方向)的倾斜轴倾斜。...

本发明关于一种微光刻投射曝光装置中的光学布置，其包括至少一个光学元件(110,210)和用于光学元件(110,210)的支撑元件(120,220)，其中光学元件(110,210)和支撑元件(120,220)通过至少三个解耦元件(131,...

一种光学系统包括所布置的用以将波长λ的辐射从物面中的物场成像到像面中的像场的多个元件。所述多个元件包括布置在辐射路径中的多个镜元件，镜元件具有由反射涂层形成的反射表面。至少一个镜元件具有在一个或多个位置从最佳拟合旋转对称反射表面偏离约λ...

本发明涉及一种用于EUV光刻的投射曝光设备中的光学布置，包括：多个光学元件(101、102)；以及承载结构(100、300)，其承载所述光学元件(101、102)，其中所述承载结构由至少两个可释放地互相连接的模块(110-140、310...

本发明涉及一种光学系统中的光学布置，尤其是微光刻投射曝光设备中的光学布置，该光学布置包括：至少一个发热子系统(110-810)，在光学系统操作期间发射热；第一热屏蔽(120-820)，设置成至少部分吸收发热子系统(110-810)所发射...