一种收集且传输来自EUV辐射源的辐射的EUV集光器(15)包括：至少一个反射EUV辐射源的发射的集光器反射镜(23)，其被关于中轴(24)旋转对称配置；以及冷却该至少一个集光器反射镜(23)的冷却装置(26)，其中该冷却装置(26)包括...

一种具有多个反射镜(M1至M6)的成像光学部件(7)，其将物平面(5)中的物场(4)成像在像平面(9)中的像场(8)中。光瞳平面(17)布置在所述物场(4)与所述像场(8)之间的成像光束路径中。光阑(2)布置在所述光瞳平面(17)中。所...

一种光学组件(29)具有带有反射镜体(26)的至少一个反射镜(24)。反射镜体(26)由具有第一支撑体部分(31)和第二支撑体部分(32)的支撑体(30)支撑。在所述两个支撑体部分(31、32)之间布置至少部分热隔离的区域(33)。所述...

一光学模块用于引导ＥＵＶ辐射束。该光学模块具有：能被抽空的腔室（３２）和容纳在腔室（３２）中的至少一个反射镜。反射镜具有：多个个体反射镜（２７），它们的反射面（３４）彼此互补以形成总反射镜反射面；支承结构，各自通过导热部（３７）机械连到...

本发明涉及一种晶片夹盘（１ｂ），其具有基底（２）并且具有施加至所述基底（２）的用于通过静电吸引固定晶片（６）的导电涂层（８），且优选还具有施加至所述基底（２）的反射涂层（１０）。所述涂层（８；１０）具有至少一个处于压缩应力下的第一层（３...

本发明涉及一种用于在投射曝光设备中安装光学元件的重力补偿器（１，２），以及相应的投射曝光设备，其中，所述重力补偿器（１，２）至少部分地补偿安装的光学元件的重力，并同时使光学元件的位置能够变化，而所补偿的重力在位置改变期间不以不允许的方式...

本发明涉及特别适用于微光刻的、用于光学元件的支撑元件，其包括支撑构件、将支撑构件连接至外部支撑单元的第一连接元件和将支撑构件连接至光学元件的第二连接元件。所述支撑元件适于以动力学并联方式和其它支撑元件协作，以在六个自由度上将光学元件相对...

本发明涉及一种ＥＵＶ微光刻的照明光学部件（４７），用来采用ＥＵＶ所使用辐射束（３）照明物场（１９）。预设装置（６、１０）用来预设照明参数。一种照明校正装置用来校正所述物场照明的强度分布和／或角度分布。所述装置具有在所述物场（１９）之前的...

本发明涉及一种ＥＵＶ光刻装置，包括：照明单元，用于照明所述ＥＵＶ光刻装置中的照明位置处的掩模；以及投射单元，用于将设置在所述掩模上的结构投射到光敏基底上。所述ＥＵＶ光刻装置具有处理单元（１５），用于在所述ＥＵＶ光刻装置中的处理位置处，优...

微光刻投射曝光设备的照明系统（１０）中的微反射镜阵列（２２）的微反射镜（２４），可关于两个倾斜轴（ｘ、ｙ）通过各倾斜角度（αｘ、αｙ）倾斜。微反射镜（２４）被分配三个驱动器（Ｅ１、Ｅ２、Ｅ３），所述三个驱动器可以通过控制信号（Ｕ１、Ｕ２...

一种具有多个光学元件（８，８′）的光学布置，所述光学元件（８，８′）能够传输光束（１０），并且提供了至少一部分壳体（９，９′），在从所述光学元件（８，８′）发出的光束的方向上，或者入射于所述光学元件上的光束的方向上，至少一部分壳体（９，...

一种在用于ＥＵＶ微光刻的投射曝光设备的照明光学部件中使用的场分面镜，用以将布置在物场中的物的结构传送到像场中。场分面镜（６）具有包含反射表面（２２）的多个场面（１８ｘ）。所述场面（１８ｘ）彼此相邻的设置分布在基平面（ｘｙ）上。至少两个场...

微光刻投射曝光设备具有反射镜阵列，反射镜阵列具有基体和多个反射镜单元，每个反射镜单元包括反射镜和固态关节，固态关节至少具有一个关节部件，该至少一个关节部件将反射镜连接到基体。控制装置使得可以改变各反射镜相对于基体的排列。反射镜与基体或连...

本发明提供一种用于成像物场的、用于微光刻的投射设备，包括物镜、用于操纵所述物镜的至少一个或多个光学元件的至少一个或多个操纵器、用于控制所述至少一个或多个操纵器的控制单元、用于确定所述物镜的至少一个像差的确定装置、以及存储器，保存用于所述...

本发明涉及一种用于制造微电子元件的、具有至少两个操作状态的微光刻投射曝光设备。该微光刻投射曝光设备包括物平面上的反射掩模。在第一操作状态中，所述掩模的第一部分区域由第一辐射照明，所述第一辐射在所述第一部分区域的每个点处具有所分配的具有第...

一种温控装置（１９）被用于控制具有其温度要被控制的至少一个光学体（１７）的光学组件（１６）的温度，所述至少一个光学体（１７）具有可以通过热流（３９）对其作用的至少一个表面（１８）。所述温控装置（１９）具有热沉（２０），用于接收从所述光学...

为了制造工作波长在软Ｘ射线和极紫外波长范围内、尤其用于ＥＵＶ光刻的应力降低反射光学元件（１），提出：利用能量为４０ｅＶ或更优选为９０ｅＶ以上的层形成粒子，在基板（２）与多层系统（４）之间施加应力降低多层系统（６），其中多层系统（４）为了...

本发明涉及一种用于半导体光刻的投射曝光设备（３１０）的可换组件（１），该可换组件（１）包括至少一个阻尼元件（２）。此外，本发明还涉及一种用于半导体光刻的投射曝光设备（３１０）以及一种用于半导体光刻的投射曝光设备的测量组件，该测量组件包括...

一种具有多个反射镜（Ｍ１至Ｍ６）的成像光学系统（３１），将物平面（５）中的物场（４）成像到像平面（９）中的像场（８），根据以下任一个构造：ａ）连接轴（３２），所述连接轴（３２）垂直于物平面（５）并延伸通过空间上最紧邻物场（４）的反射镜（...

在ＥＵＶ光刻设备（１０）中，为了延长对污染敏感的构件的寿命，提议将它们布置在保护模块中。保护模块包括具有至少一个开口（３７－４７）的壳体（２３－２９），至少一个构件（１３ａ、１３ｂ、１５、１６、１８、１９）被布置于所述壳体中且设置一个或...