一种用于EUV投射光刻的成像光学系统（12）具有多个反射镜（M1-M4），用于将物平面（5）中的物场（4）成像至像平面（14）中的像场（13）。成像光学系统的像侧数值孔径至少为0.3。成像光学系统具有大于0.40的瞳遮蔽。成像光学系统的...

总体上，本发明的一方面包括一种微光刻投影光学系统(101)，其包括：多个元件(310-360)，其被设置为将来自物平面(103)的光成像到像平面(102)，至少一个所述元件是反射元件，其具有位于光路上的旋转非对称表面。所述旋转非对称表面...

一种带电粒子探测系统，其包含多个探测元件和接近探测元件的多孔径板。带电粒子小波束可穿过多孔径板的孔径，以入射到探测元件上。可提供多于一个的多孔径板，以形成接近探测器的多孔径板的板组。提供给多孔径板的合适电势可具有对于穿过板的孔径的多个带...

一种用于利用光刻掩模(16)所产生的辐射分布(24)的局部解析测量的方法，包括提供辐射转换器(31,131)，其具有至少二维布置的转换器元件(32,132)，所述转换器元件可分别被置于活动状态和非活动状态，并在活动状态中转换入射辐射的波...

一种EUV光刻投影曝光系统的投影透镜，具有至少两个反射光学元件，每个反射光学元件包括主体和反射表面，用于在以EUV光的曝光功率对投影透镜曝光时，将分划板上的物场投影到衬底上的像场上，其中至少两个反射光学元件的主体包括具有与温度相关的热膨...

一种成像光学系统(7)，其具有将物平面(5)中的物场(4)成像于像平面(9)中的像场(8)中的多个反射镜(M1至M8)。该成像光学系统(7)具有光瞳遮拦。在物场(4)和像场(8)之间的成像光(3)的光路中的最后一个反射镜(M8)具有用于...

微光刻投射曝光设备的照明系统表现了布置为多镜阵列且能够经由至少一个驱动器倾斜的镜。此外，照明系统表现了用于该镜的驱动电子装置，该驱动电子装置表现了具有第一分辨率的粗数模转换器(68)、具有第二分辨率的精数模转换器(70)，以及加法器(7...

本发明涉及一种用于EUV光刻的掩模(105)，其包含：基板(107)；施加于基板(107)的多层涂层(108)；以及施加于多层涂层(108)并具有吸收体材料的掩模结构(109)，该掩模结构(109)具有小于100nm的最大厚度，优选地不...

为了在用EUV辐射（4）照射用于EUV光刻的反射光学元件（2）时，防止该反射光学元件带电，提出了一种用于EUV光刻的光学系统，该光学系统包含：反射光学元件（2），其包括具有高反射涂层（22）的基底（21），在用EUV辐射（4）照射该基底...

本发明涉及一种微光刻投射曝光设备的光学系统，其包含至少一个反射镜装置(200)，该反射镜装置具有多个反射镜元件，这些元件可彼此独立地位移以改变由该反射镜装置反射的光的角度分布；以及偏阵影响光学装置(300、800、900)，该偏阵影响光...

本发明公开了一种具有多个反射镜（M1至M6）的成像光学系统（7；31），其将物平面（5）中的物场（4）成像到像平面（9）中的像场（8）。所述成像光学系统（7；31）具有与第一反射镜（M5）间隔开的另外的可变形反射镜（M3），所述第一反射...

对于用于EUV光刻的反射镜的制造，建议基底在15℃的温差ΔT上具有不大于10ppb的平均相对纵向热膨胀，并在20℃和40℃之间的范围内具有过零温度。为了该目的，至少选择一个第一材料和一个第二材料，该第一材料和一个第二材料具有低热膨胀系数...

提供了一种光学成像装置，它包括：具有图案的掩模单元；包括基板的基板单元；包括一组光学元件单元的光学投影单元，所述光学投影单元用来将图案的图像转印到所述基板上；成像装置第一部件，该成像装置第一部件所述光学元件单元的第一个的部件；成像装置第...

一种微光刻投射曝光装置的照明系统包含空间光调制器(58)，其改变瞳面(38)中的强度分布。调制器(58)包含反射镜(64)的阵列(62)，反射镜(64)将照到的投射光(34)反射到取决于施加到反射镜的控制信号的方向。棱镜(60)朝向空间...

一种成像光学系统（1），其具有多个反射镜（M1-M6），该多个反射镜（M1-M6）将物平面（5）中的物场（3）成像至像平面（9）中的像场（7），该成像光学系统包括第一部分物镜（11）和第二部分物镜（13），第一部分物镜（11）将物场成像...

本发明涉及微光刻投射曝光设备的照明系统，该照明系统包括：具有多个镜单元的镜布置，其中镜单元可彼此无关地移动用于改变由镜布置反射的光的角度分布；和双折射材料的至少两个元件的布置，其中这些元件相对于彼此的相对位置是可变的；其中通过调整所述元...

一种微光刻投射曝光设备(10)的照明系统，其包含：光源(30)，其构造为产生投射光束(34)；及第一和第二衍射光学元件(42、44；242、244)，其布置在所述光源(30)和光瞳平面(84)之间。由每个衍射光学元件产生的衍射效应取决于...

本发明涉及针对掩模适配微光刻的投射曝光设备的方法，该掩模具有在不同的结构方向具有不同节距和/或不同结构宽度的结构，其中通过微光刻的投射曝光设备的操纵器减小由掩模引起的波前像差。

一种反射折射投影物镜，用于将提供在投影物镜物面中的图形成像到投影物镜的像面上，包括：第一物镜部分，用于将提供在物面中的图形成像为第一中间图像；第二物镜部分，用于将第一中间图像成像为第二中间图像；第三物镜部分，用于将第二中间图像成像到像面...

本发明提供了一种成像光学系统（7）、包括该成像光学系统的微光刻投射曝光设备、以及采用所述微光刻投射曝光设备产生微结构的部件的方法。所述成像光学系统包括多个镜（M1至M8；M1至M6）。所述多个镜将物平面（5）中的物场（4）成像到像平面（...