成像光学系统和具有这种成像光学系统的用于微光刻的投射曝光设备技术方案

一种成像光学系统（1），其具有多个反射镜（M1-M6），该多个反射镜（M1-M6）将物平面（5）中的物场（3）成像至像平面（9）中的像场（7），该成像光学系统包括第一部分物镜（11）和第二部分物镜（13），第一部分物镜（11）将物场成像至中间像（15）上，第二部分物镜（13）将中间像成像至像场上，并包括物场和像场之间的成像光线（17）的光路中的倒数第二个反射镜（M5）、以及该光路中的最后一个反射镜（M6）。这里，倒数第二个反射镜（M5）将中间像成像至另一中间像（19）上，且最后一个反射镜将该另一中间像成像至像场上。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及具有多个反射镜的成像光学系统，所述多个反射镜将物平面中的物场成像至像平面中的像场中。此外，本专利技术涉及具有这种光学系统的投射曝光设备，并涉及借助于这种投射曝光设备制造微结构元件的方法。
技术介绍
由US 2006/0232867A1和US 2008/0170310A1可获知开始提及类型的成像光学系统。该类型成像光学系统包含第一部分物镜和第二部分物镜，第一部分物镜将物场成像至中间像上，第二部分物镜将中间像成像至像场上。该情况中的第二部分物镜包含物场和像 场之间的成像光的光路中的倒数第二个反射镜，以及该光路中的最后ー个反射镜。
技术实现思路
本专利技术的目的是减少最后ー个反射镜的直径。该目的通过具有多个反射镜的成像光学系统实现，该多个反射镜将物平面中的物场成像至像平面中的像场中。成像光学系统包含将物场成像至中间像上的第一部分物镜和将中间像成像至像场上的第二部分物镜。第二部分物镜包含物场和像场之间的成像光的光路中的倒数第二个反射镜、以及光路中的最后ー个反射镜。在该情况中，倒数第二个反射镜和最后ー个反射镜被设计为使得倒数第二个反射镜将中间像成像至另一中间像上，且最后ー个反射镜将本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：HJ曼，D谢弗，
申请(专利权)人：卡尔蔡司SMT有限责任公司，
类型：
国别省市：