成像光学系统技术方案

本发明专利技术公开了一种具有多个反射镜（M1至M6）的成像光学系统（7；31），其将物平面（5）中的物场（4）成像到像平面（9）中的像场（8）。所述成像光学系统（7；31）具有与第一反射镜（M5）间隔开的另外的可变形反射镜（M3），所述第一反射镜（M5）最紧邻两个场（4、8）中的一个并被指定为相邻反射镜，所述可变形反射镜（M3）被布置于与所述成像光学系统（7；31）中的所述相邻反射镜的布置平面光学共轭的平面中。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及具有多个反射镜的成像光学系统，其将物平面中的物场成像到像平面中的像场。
技术介绍
由EP 1093021A2和WO 2006/069725A1已知此类型的成像光学系统。由US2007/0035814AUUS 7，186，983B2、US 2007/0233112A1 以及 W02006/037651A1 已知另外的成像光学系统。由US 6, 172, 825B1已知一种成像光学系统,其中所不的成像光学系统的入射光瞳面的位置由孔径光阑(aperture diaphragm)或光圈(stop) (AS)的位置产生。
技术实现思路
本专利技术的目的是提供一种开头所述类型的成像光学系统，使得照明系统(其构件为成像光学系统)的传输损耗维持尽可能低。根据本专利技术通过一种开头所述类型的成像光学系统实现此目的，其中在垂直于物平面并穿过最紧邻物场的反射镜的几何中心点的连接轴上，最紧邻物场的反射镜被布置成与物场间隔一间距，该间距大于成像光学系统的入射光瞳面离物场的间距，所述光瞳面位于物场上游的成像光的光束路径中。根据本专利技术通过具有多个反射镜的成像光学系统另外实现此目的，该成像光学系统将本文档来自技高网...

【技术保护点】
具有多个反射镜（M1至M6）的成像光学系统（7；31），其将物平面（5）中的物场（4）成像到像平面（9）中的像场（8），其特征在于：所述成像光学系统（7；31）具有与第一反射镜（M5）间隔开的另外的可变形反射镜（M3），所述第一反射镜（M5）最紧邻两个场（4、8）中的一个并被指定为相邻反射镜，所述可变形反射镜（M3）被布置于与所述成像光学系统（7；31）中的所述相邻反射镜的布置平面光学共轭的平面中。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：汉斯于尔根曼，阿明舍帕克，约翰尼斯泽尔纳，
申请(专利权)人：卡尔蔡司SMT有限责任公司，
类型：发明
国别省市：