【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
【技术保护点】
１．一种工作波长在软Ｘ射线和极紫外波长范围内、尤其用于ＥＵＶ光刻设备的反射光学元件的制造方法，该反射光学元件在基板上具有由至少两种交替材料构成且向所述基板施加应力的多层系统，所述至少两种交替材料在所述工作波长具有不同的折射率实部，并且其中所述多层系统与所述基板之间布置有一材料层，该材料层的厚度设定为抵消所述多层系统的应力，该方法的特征在于：能量为至少４０ｅＶ的层形成粒子用于沉积抵消应力的所述层。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
【专利技术属性】
技术研发人员：吉塞拉·冯布兰肯哈根，
申请(专利权)人：卡尔蔡司SMT有限责任公司，
类型：发明
国别省市：DE
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