本发明涉及一种ＥＵＶ曝光设备（１），包括：包围内部（１５）的壳体（１ａ），布置在所述内部（１５）中的至少一个反射光学元件（５、６、８、９、１０、１４．１至１４．６），真空产生单元（１ｂ），用于在所述内部（１５）中产生残余气体环境，以及残...

一种用于利用照明光照明物场的用于微光刻的照明光学单元。第一面反射镜（１３）具有多个第一面（１９）。第二面反射镜（１４）具有多个第二面（２０）。分别包括第一面反射镜的面和第二面反射镜的面的面对（１９，２０）预定义用于照明物场的多个照明通道...

本发明涉及一种光学设备（１０１），具体是用于微光刻，包括光学模块（１０４）、支撑结构（１０９）和连接装置（１０８），其中，所述连接装置包括具有第一连接器部分（１１０．１）和第二连接器部分（１１０．２）的至少一个连接单元（１１０）。所述第...

一种微光刻投射曝光设备（１０）的照明系统，包括光栅元件（７２），其被配置为产生位于系统光瞳面（７０）中的多个二次光源（９５）。所述光栅元件（７２）具有多个光入射面（９２），每个光入射面（９２）与所述二次光源（９５）之一关联。光束偏转装置...

一种成像光学部件（７）具有多个反射镜（Ｍ１至Ｍ６）。所述多个反射镜将物面（５）上的物场成像在像面（９）上的像场。至少一个反射镜（Ｍ５、Ｍ６）上设置有让成像光（３）穿过的通孔（１８、１９）。所述多个反射镜（Ｍ１至Ｍ６）被设置成使主光线在物...

本发明涉及一种反射光学元件，具体地用于ＥＵＶ光刻，用于软Ｘ射线和极紫外波长范围的工作波长，包括由在工作波长具有不同实部的衍射率的至少两个交替的材料（２１、２２）制成的多层系统（２０），其中由具有较小实部的折射率的材料（２２）的氮化物或碳...

采用来自主光源（１０２）的光照明一照明场（１６５）的用于微光刻投射曝光设备（１００）的照明系统（１９０），具有可变可调节光瞳成形单元（１５０），其从主光源（１０２）接收光并且在所述照明系统的光瞳成形面（１１０）中产生可变可调节的二维强度...

本发明涉及一种用于在光学元件（８、９）上制造多层膜（１７）的方法，所述多层膜用于反射软Ｘ射线或ＥＵＶ波长范围的辐射，所述光学元件在３０℃或更高，优选地１００℃或更高，更优选地１５０℃或更高，特别是２５０℃或更高的工作温度（ＴＯＰ）中工作...

本发明涉及一种用于微光刻投射照明的设备（１０）。所述设备包括：光学系统（１８），用于通过利用成像辐射（１３）投射掩模结构（１６）而将所述掩模结构（１６）成像到基底（２０）的表面（２１）上，其中所述光学系统（１８）被配置为在ＥＵＶ和／或更...

成像光学部件（７）具有至少６个反射镜（Ｍ１至Ｍ８），该六个反射镜将物平面（５）中的物场（４）成像到像平面（９）中的像场（８）。该成像光学部件（７）的入瞳布置在该物场（４）前面的成像光束路径中。该反射镜（Ｍ７、Ｍ８）中的至少一个具有用于成...

对于一投射照明方法，该方法利用在投射物镜的面区域中的掩模图案的至少一个像，照明布置在投射物镜的屏幕区域中的辐射敏感基底，使用具有依赖于角频率ω的频谱强度分布Ｉ（ω）的激光辐射。激光辐射能够由根据（Ｉ）的像差参数α和根据（ＩＩ）的相干时间...

一种成像光学系统（７）具有多个反射镜（Ｍ１至Ｍ６），其经由用于成像光（３）的光束路径将物平面（５）中的物场（４）成像到像平面（９）中的像场（８）中。成像光学系统（７）具有出瞳遮挡。至少一个反射镜（Ｍ１至Ｍ４）具有用于所述成像光（３）穿过...

一种成像光学系统（７）具有多个反射镜（Ｍ１至Ｍ６），其将物平面（５）中的物场（４）成像到像平面（９）中的像场（８）中。成像光学系统（７）具有光瞳遮挡。物场（４）和像场（８）之间的成像光（３）的光束路径中的倒数第一个反射镜（Ｍ６）具有用于...

一种用于微光刻的照明系统用于通过一次光源的照明光照明一照明场。第一光栅布置（１２）具有布置在照明系统的第一平面或该第一平面附近的成束第一光栅元件（２４）。第一光栅布置（１２）用于产生二次光源的光栅布置。传输透镜用于将二次光源的照明光的传...

本发明涉及用于投射曝光机的光学元件（１）的减振器件，其包括配置成彼此间隔开的至少两个质量体减振器（３），所述振动吸收器（３）各自具有至少一个减振器质量体（３０）和至少一个减振元件（３２），并且所述至少两个质量体减振器（３）的减振器质量体...

个体反射镜（１１２）被用于构造分面镜。个体反射镜（１１２）的反射镜元件（７９）能够绕倾翻铰链（８２，８３）的至少一个倾翻轴线（ｗ１，ｗ２）相对于刚性支撑元件（８１）倾翻。倾翻铰链（８２，８３）被设计为一体式铰链。该一体式铰链垂直于倾翻轴...

成像光学系统(8)的一个实施例仅具有镜作为光束引导光学部件。该成像光学系统(8)将至少一个物平面(6)中的至少一个物场(4、5)成像到至少一个像平面(11)中的至少一个像场(9、10)。在该成像光学系统(8)中，存在空间上彼此分离的两个...

一种制造用于微光刻投影曝光设备中的照射系统的长的微透镜阵列的方法，所述方法包括下述步骤：a)提供衬底(30)；b)提供包括切割刃(24)的切割工具(22)；c)在快速切割工艺中相对于所述衬底(30)重复移动所述切割工具(22)，从而使得...

本发明提供了一种投射物镜和投射曝光机，用于将布置在投射物镜的物平面中的物成像为位于投射物镜的像平面中的物的像。投射物镜具有多个透明光学元件以及将光学元件支撑在沿着投射物镜的成像光束路径的预先规定的位置处的支撑装置。每个光学元件具有位于成...

本发明涉及一种粒子光学组件。一种物镜排布结构(100)包括：第一极靴(123)、第二极靴(125)以及第三极靴(163)，每一个极靴都大致旋转对称。第一极靴(123)、第二极靴(125)以及第三极靴(163)设置在物面(101)的同一侧...