【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种包括多个反射镜的成像光学系统，其经由成像光的光束路径将物平面中的物场成像到像平面中的像场，所述成像光学系统包括光瞳遮挡(obscuration)。此外，本专利技术涉及一种包括此类型的成像光学系统的用于微光刻的投射曝光设备、利用此类型的投射曝光设备制造微结构组件的方法、以及利用此方法制造的微结构组件。
技术介绍
US 2008/0170310A1、US 2006/023^67Α1 和 US 6，750，948B2 公开了开头提及的类型的成像光学系统。US 6，975，385B2公开了另一成像光学系统。尤其是在用于微光刻的投射曝光设备内使用时，特别适用于在微结构或纳米结构半导体组件的制造中，存在提高开头提及的成像光学系统的成像特性的需求，例如更大的数值孔径，以获得更高分辨率。应当在不牺牲成像光学系统的光通量的情况下获得成像特性的提高。尤其在涉及以5nm至30nm之间的范围中的EUV成像光工作的成像光学系统时， 更是苛求这一点。
技术实现思路
因此，本专利技术的目的是改进开始所提及的成像光学系统的成像特性，而不牺牲光通量。根据本专利技术通过具有权利要求1...
【技术保护点】
１．成像光学系统（７），－包括多个反射镜（Ｍ１至Ｍ６），其经由成像光（３）的光束路径，将物平面（５）中的物场（４）成像到像平面（９）中的像场（８）中，－包括出瞳遮挡，－其中在所述多个反射镜之中，至少所述光束路径中的倒数第四个反射镜（Ｍ３）具有用于所述成像光（３）穿过的开口，所述倒数第四个反射镜（Ｍ３）是凹面的。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
【专利技术属性】
技术研发人员：汉斯于尔根曼，
申请(专利权)人：卡尔蔡司SMT有限责任公司，
类型：发明
国别省市：DE
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