一种用于投射曝光设备(1)的光学系统(100)，包含第一部件(102)、第二部件(104)，其中该第二部件(104)可在相对于该第一部件(102)的致动区域(A)内致动，以及终点止动装置(106)，其允许该第二部件(104)在该致动区域...

本发明系关于加热设备及用于加热光学元件的方法，尤其是一种微光刻投影曝光装置。一种根据本发明的加热设备包含至少一个光束成形单元(12、22、32、42、52、54)，用于对从辐射源引导到至少一个光学元件(25、35、45、55a、55b)...

一种用于投射曝光装置(1)的光学元件(100A、100B)，包含具有光学作用面(102)的反射镜本体(104)，该反射镜本体(104)包含底座部位(106、132)，其承载传感器系统(108、110)；以及边缘部位(120、136)，在...

本发明涉及一种用于操作光学系统的方法，其中该方法包括以下步骤：(a)使用传感器来测量光学系统中的多个不同传感器位置处的至少一个物理量的值，以及(b)基于该测量诊断光学系统的现有或预期故障，在步骤(a)中测量的值用于执行其他位置处的至少一...

本发明涉及一种连接装置，用于通过具有第一接触部分(110.1)、第二接触部分(110.2)和耦接部分(110.3)的连接单元(110)连接用于微光刻的成像装置(101)的第一部件(104.2)和第二部件(M3)，特别用于使用极紫外范围(...

提出了一种用粒子束(114)来分析和/或处理样品(10)的装置(100、400)，该装置包含：提供单元(110)，用于提供该粒子束(114)；以及测试结构(200)，其附接到该提供单元(110)；其中该装置(100、400)配置成使用该...

本发明涉及一种用于测量光刻装置(1)的光学系统处或光学系统中的温度的温度测量装置(100)，该装置包括：激活源(101)，用于在激活源(101)的第一和第二连接点(101a、101b)之间产生测量电流或测量电压；多个温度电阻器(102、...

一种将X射线照射的对象成像的成像光学配置。成像光学设备用于将场平面中的传输场成像到检测平面内的检测场。闪烁体材料层配置于该传输场处。光阑配置于该成像光学设备的光瞳平面内。该成像光学设备具有光学轴。该光阑的光阑开口的中心配置在相对于该光学...

本申请涉及一种用于表征粒子束装置(100)的屏蔽元件(C)的方法，该屏蔽元件用于屏蔽样本位置和粒子束源(101)之间的电场。该方法包括：将用于表征该屏蔽元件的表征装置(S1、S2、S3)定位在屏蔽元件的面向样本位置的一侧上。

一种用于以干涉测量方式确定测试对象的光学表面形状的测量方法通过测量系统来执行，测量系统包括照明模块和多个光学部件，照明模块用于在照明模块的光源平面中产生有效光源，多个光学部件包括准直器、透明参考元件和分束器。检测器检测测量波和参考波的叠...

本发明涉及一种用于校准球面波的方法，并且涉及一种用于通过干涉测量法确定测试对象的表面形状的测试系统。在根据本发明的用于校准球面波的方法中，其中该球面波在测试系统中生成，该测试系统被设计为通过干涉测量法来确定测试对象(120)的表面形状，...

本申请涉及一种使用聚焦粒子束对样品进行成像和处理的装置，包括：(a)至少一个粒子源；(b)至少一个样品腔；(c)至少一个柱；(d)至少一个检测单元；(e)至少一个气体管线系统，其终止于来自柱的聚焦粒子束的出口处并且配置为在样品处局部地提...

本发明涉及一种用于半导体光刻的投射曝光设备(1)，其具有至少一个有流体通道(31)的部件(M3)以及用于提供流体(34)以流过流体通道(31)的装置(40)，流体通道(31)通过一供应线(41)以及一排出线(42)连接到装置(40)，并...

本发明涉及一种在EUV波长范围的反射光学元件(30)的表面(36)上沉积外层(35)的方法，其中沉积在至少一个宏循环(37)中实现。宏循环(37)包括以下步骤：在至少一个ALD循环中通过原子层沉积ALD工艺至少部分地沉积外层(35)，并...

本发明涉及一种用于将第一部件(202)支撑在光刻系统(100A、100B)的第二部件(204)上的承载系统(200)，其具有第一和第二部件(202、204)以及将第一和第二部件(202、204)彼此紧固在一起的粘合剂(212、212’)...

一种用于微光刻光掩模(100)的缺陷(D、D’)的粒子束诱导处理的方法，其包括下列步骤：a)提供(S1)该光掩模(100)的至少一部分的图像(300)；b)确定(S2)该图像(300)中的该缺陷(D、D’)的几何形状是否为修复形状(30...

一种用于微光刻光掩模(100)的缺陷(D)的电子束诱导处理的方法，包括以下步骤：a)为了修复缺陷(D)，在所述光掩模(100)的缺陷(D)的区域(112)中提供(S1)处于第一加速电压(EHT1)的激活电子束(202)和处理气体，以及b...

本发明揭示一种用于处理物体(特别是光刻掩模)的表面的方法、一种用于执行此方法的装置以及一种含有用于执行此方法的指令的计算机程序。一种用于处理物体(特别是光刻掩模)的表面的方法，包括以下步骤：(a.)将含有至少第一气体与第二气体的气体混合...

本发明涉及一种测量设备，该测量设备用于对试件的表面、尤其是光学元件的光学表面的形状进行干涉测量，该测量设备具有：‑照明装置，该照明装置具有用于产生照明波的照明源；以及‑干涉仪装置，该干涉仪装置具有分割元件，以便将照明波分割成朝向表面的测...

一种成像光学单元(7)，包含多个反射镜(M1至M8)，其用于将物面(5)中的物场(4)成像到像面(9)中的像场(8)中。像侧数值孔径大于0.55。物/像偏移a与子午横向方向c之间的比率为至少0.5。物面(5)与反射镜(M4)之一的最接近...