一种制造用于光刻设备（1）的光学系统（100）的方法，所述光学系统包括具有从原始块（200）切出的基板（104）的光学部件（102），所述方法包括以下步骤：a）提供（S2）作为所述原始块的位置（p）的函数的所述原始块的热膨胀系数（αR）...

本发明公开一种修补平版印刷掩膜缺陷、特别是修补EUV掩膜的缺陷的方法、设备和计算机机程序。修补平版印刷掩膜（特别是EUV掩膜）缺陷的方法包含以下的步骤：(a.)以第一修补剂量对缺陷执行第一修补步骤，使该缺陷从初始拓扑转变成第一缺陷拓扑；...

本发明涉及一种用于将MEMS微反射镜单元（100）固定在总体组件（200）中的方法，该总体组件（200）具有至少一个用于MEMS微反射镜单元（110）的容纳部（210），该总体组件（200）例如用于光刻的投射曝光设备（1）中。本发明还涉...

一种用于微光刻投射曝光设备（1）的照明光学单元（15）的一侧开放式支撑结构（36），所述支撑结构具有沿纵向（37）延伸的框架（46），其中一或多个构件用于增加框架（46）的刚性，其中肋条（48）和/或平面加强元件（47、42、43）用作...

本发明涉及一种用于光刻设备（600、700）中的物体（101）的振动校正单元（100），该振动校正单元具有传感器（102），该传感器连接到物体（101）并且包括电磁致动器（103）和辅助质量块（104），该辅助质量块连接到突出到电磁致动...

一种用于确定微光刻光学系统（500）中可移动部件（526）位置的测量配置（10；110、210；310），包括：光学谐振器（26），具有包围谐振腔（32）的两个谐振反射镜（28、30）；以及可移动测量反射镜（14），分配给该可移动部件并...

本发明涉及一种光刻系统，特别是EUV光刻系统，所述光刻系统包括：辐射源，用于产生使用辐射（16）；优选反射的光学元件（M1），具有设计为暴露于使用辐射（16）的表面（25a）；以及测量装置（26），用于测量光学元件（M1）的表面（25a...

本发明涉及一种投射曝光设备(1、101)，其具有至少一个模块(40、50)，‑其中，所述模块(40、50)包括流体通道(41、51)，所述流体通道(41、51)至少暂时地容纳加压流体(42、52)，以及‑其中，所述流体通道(41、51)...

本发明涉及一种用于半导体技术的组件（30），其包括模块（32）和模块框架（33）。模块（32）通过支承元件（34）连接到模块框架（33），并且通过支承元件（34）相对于模块框架（33）定位。连接件（35）包括夹持装置（56，58），该夹...

本发明关于一种用于从一检查体积(10)的单一楔形切口(34)获得半导体结构(18)的测量的方法(68)，所述方法(68)包含：通过使用以一倾斜角GF配置的的FIB柱(46)铣削至检查体积(10)来露出检查体积(10)中的一横截面表面，从...

本发明涉及一种用于投射曝光系统（1A、1B）的光学系统（200），其具有带有光学元件（108）的光学组件（100）、支撑光学组件（100）的操纵器框架（202）以及附接至操纵器框架（202）的夹持组件（212、212A、212B、212...

一种基于确定像场中多个场点的像差数据的测量操作，来确定光学成像系统的该像场中场相关像差的方法，该方法包括以下步骤：‑定义目标网格，其包括该像场中的多个目标场点，其中目标场点为要确定像差水平的场点；‑定义包括该目标场点的第一子集的测量网格...

本发明的各种实例关于在粒子显微镜系统的情况下对待检查的样本的倾斜度和/或高度的测量，特别是具备产生聚焦离子束的附加柱的电子束显微镜。例如根据自准直原理使用光学检测系统。

一种驱动装置(100)，其用于驱动N个致动器元件(210)以致动光学系统(4、10)的光学元件(310)，包括：N个驱动级(110‑130)，其通过时分多路复用方案(Z)确定的时分多路复用信号(ZMD、ZMA)控制，其中所述N个驱动级(...

提供了一种用于晶片内的半导体对象的三维体图像生成的方法和双束装置。该方法和该双束装置提供了更高的精确度，并配置成通过监测位移向量并考虑来自多个二维剖面图像的3D像素插值期间的位移向量，以减轻带电粒子束成像系统与晶片平台之间的漂移。

一种用于EUV光刻的光学部件（200），包含在真空环境中操作的介质输送管系统（300、307、400、406、500、508），其中该介质输送管系统（300、307、400、406、500、508）包含在金属区段（207）与由线性膨胀系...

本发明关于用于获得晶片中的至少一个半导体结构的至少一个测量(26)的方法，其包含：通过使用FIB柱以倾斜角GF铣削至检查体积以露出检查体积中的一横截面表面而获得晶片的检查体积的楔形切口(66)，并以带电粒子束成像系统对横截面表面进行成像...

一种用于光刻的物体的聚焦粒子束诱导处理的方法、设备和计算机程序，所述方法包括提供蚀刻气体，提供水蒸气，以及提供氧化物质。蚀刻气体经由第一供应装置以第一供应压力提供，并且水蒸气经由第二供应装置以第二供应压力提供，并且第二供应压力是第一供应...

本发明涉及一种用于减小光学元件(Mi)的像差的方法，特别是光刻系统中的光学元件(Mi)的像差的方法，包括：确定光学元件(Mi)的光学性质的时间变化，特别是光学元件(Mi)的基板(24)的表面(24a)的面形(P(x,y))的时间变化，其...

本发明涉及一种具有光学元件（M3）的光学模块（30、40、50），其中光学元件（M3）具有光学有效表面（31）并且经由至少一个连接元件（33、41）连接到加强体（32）。该连接元件的特征在于，该连接元件（33、41）包含解耦区域（34、...