【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种用于确定光学系统中的反射镜的姿态的方法。优先权申请de 10 202 1 210 577.7的内容通过引用整体并入。
技术介绍
1、微光刻用于生产微结构部件，例如集成电路。使用具有照明系统和投射系统的光刻装置来执行微光刻工艺。借助于照明系统照射的掩模(掩模版)的像在此借助于投射系统投射到基板(例如硅晶片)上，该基板涂覆有光敏层(光致抗蚀剂)并且布置在投射系统的像平面中，以便将掩模结构转印到基板的光敏涂层。
2、受集成电路生产中对更小结构的需求的驱动，目前正在开发使用波长在0.1nm至30nm范围内(特别是13.5nm)的光的euv光刻设备。在这种euv光刻设备的情况下，由于大多数材料对该波长的光的高吸收，因此必须使用反射光学单元(即反射镜)来代替如前所述的折射光学单元(即透镜元件)。
3、在如上所述的投射系统中，必须能够在六个刚体自由度上控制反射镜。为此，可以使用每个反射镜六个干涉仪来测量反射镜。这些干涉仪使用特殊目标，这些特殊目标被布置在反射镜上、在其弯曲的使用的反射镜表面的外部。在这种情况下，目标可以在背侧上附接到反射镜。然而，这假设干涉仪可以附接到的固定基准被布置成与反射镜的背侧相对。这种固定基准可以是所谓的传感器框架。
4、然而，例如为了更换反射镜，可能有利的是，它不是提供的外部固定基准而是提供的内部固定基准。在当前情况下，“内部”是指反射镜的相应使用的反射镜表面被布置成面向固定基准。在后一种情况下，几乎不可能借助于干涉仪从背面测量反射镜，因为不再提供用于承载反射镜的
技术实现思路
1、在此背景下，本专利技术目的是提供一种用于确定投射曝光装置的光学系统中的反射镜的姿态的改进方法。
2、因此，提出了一种用于确定光学系统中的反射镜的姿态的方法。该方法包括以下步骤：a)从反射镜的机械模型提供至少一个参数，b)干涉地检测反射镜的弯曲的使用的反射镜表面上的点的距离的时间变化，以及c)根据距离的时间变化和至少一个参数确定n个本征模式的振幅ak和相位φk，其中k＝1，…，n，以便确定反射镜的姿态。
3、例如，反射镜的机械模型可以是反射镜的cad(计算机辅助设计)模型。例如，可以提供来自机械模型的相应本征频率作为n个本征模式的参数。所谓的模式轮廓是可以从反射镜的机械模型收集的另一参数的示例。
4、干涉检测优选地借助于测量装置来实现，该测量装置将在下面解释，该测量装置包括干涉仪和光束成形单元。弯曲的使用的反射镜表面上的点的距离的时间变化应当特别地被理解为如下效果：该变化是从时间t1到时间t2或者从时间t1到与时间t2不同的时间t3来确定的。
5、例如，本征模式的振幅ak和相位φk可以借助于带通滤波器或傅里叶变换来确定。然后基于距离的时间变化并且基于机械模型的至少一个参数来确定反射镜的姿态。也可以使用多个不同的参数。
6、上述距离可以被定义为固定基准(例如在当前情况下为传感器框架)与反射镜上的点(特别是在使用的反射镜表面上)之间的距离。因此，步骤b)可以包括对反射镜的弯曲的使用的反射镜表面上的点距基准(特别是固定或不动基准)的距离的时间变化的干涉检测。然而，基准也可以是可移动的。
7、根据实施例，在步骤c)中借助于从机械模型计算的n个本征模式的振幅ak和相位φk来确定反射镜的姿态。
8、例如，借助于通过计算将振幅ak和相位φk与机械模型的一个或多个参数组合来实现计算。为此提供评估装置。评估装置可以包括计算机单元。
9、根据另一实施例，在步骤b)中干涉地检测反射镜的弯曲的使用的反射镜表面上的多个点的距离的时间变化。
10、优选地，干涉地检测至少六个点。这允许检测反射镜的所有六个自由度。
11、根据另一实施例，该方法包括以下步骤：d)基于n个本征模式的振幅ak和相位φk来控制设置在反射镜上的致动器，使得振幅ak减小。
12、致动器优选地被控制成使得使用的反射镜表面变形，由此减小振幅ak。因此，变形与振幅ak相反地起作用。特别地，用于控制致动器的指令由光学系统的控制设备在步骤d)中根据在步骤c)中确定的至少一个振幅ak和相位φk生成。特别地，这些指令的性质使得振幅ak由此减小，即振动被阻尼。特别地，致动器设置在反射镜的后侧上。在当前情况下，“设置”在反射镜上的致动器特别是指致动器连接(特别是可操作地连接)或耦接到反射镜。例如，致动器可以在背侧上粘合地结合到反射镜。在该方法包括步骤d)的情况下，该方法也可以被称为用于阻尼光学系统中的反射镜的反射镜振动的方法。
13、根据另一实施例，该方法借助于测量装置来执行，该测量装置包括干涉仪和光束成形单元。
14、根据另一实施例，干涉仪的测量光束借助于光束成形单元成形，使得测量光束的光线在测量光束入射在使用的反射镜表面上的区域中的每个点处与使用的反射镜表面成直角定向。可替代地，测量光束被成形为使得测量光束聚焦在该点上。
15、根据另一实施例，测量装置包括反射体反射镜，借助于该反射体反射镜，由使用的反射镜表面反射的测量光束被反射回使用的反射镜表面。
16、测量光束从使用的反射镜表面反射回干涉仪。由于不再需要聚焦测量光束垂直入射在使用的反射镜表面上，因此可以在很大程度上没有约束地定位干涉仪和反射体反射镜。反射体反射镜可以是平面的或弯曲的。如果反射体反射镜是平面的，则可能存在测量质量的劣化。借助于反射体反射镜配备有折射能力并且是弯曲的，可以改善测量结果。例如，反射体反射镜具有球面几何形状。
17、根据另一实施例，反射体反射镜布置在干涉仪与光束成形单元之间。
18、这尤其适用于反射体反射镜是平面的情况。这确保测量光束再次传播回到干涉仪。然而，也可以完全省去附加的反射体反射镜。然而，这种情况需要测量光束垂直入射在使用的反射镜表面上。
19、根据另一实施例，光学系统还包括用于承载测量装置的固定基准，特别是传感器框架，其中，使用的反射镜表面被布置成面向固定基准。
20、特别地，这意味着反射镜的背侧被放置成背离固定基准。一个或多个测量装置可以牢固地连接到固定基准。
21、根据另一实施例，光学系统还包括多个反射镜，反射镜被布置成使得固定基准相对于反射镜布置在内部。
22、在当前情况下，“内部”特别是指反射镜的使用的反射镜表面被定向成面向固定基准。与此相反，“外部”意味着使用的反射镜表面被布置成背离固定基准。例如，一些反射镜也可以以这样的方式布置，使得固定基准相对于其布置在内部，而其他反射镜可以布置成使得固定基准相对于其布置在外部。
23、还提出了一种用于投射曝光装置的光学系统。光学系统包括具有弯曲的使用的反射镜表面的反射镜和用于确定反射镜的姿态的测量装置，其中测量装置包括干涉仪和光束成形单元，光束成形单元被配置为对干涉仪的测量光束进行整形，使得测量光束的光线在测量光束入射在使用的反射镜表面上本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种用于确定光学系统(200A、200B、200C、200D、200E、200F)中的反射镜(100、M1、M2、M3、M4、M5、M6、M7、M8、M9、M10、M11)的姿态的方法，包括以下步骤：
2.根据权利要求1所述的方法，其中，所述反射镜(100、M1、M2、M3、M4、M5、M6、M7、M8、M9、M10、M11)的姿态在步骤c)中借助于从所述机械模型计算的N个本征模式的振幅Ak和相位Φk来确定。
3.根据权利要求1或2所述的方法，其中，在步骤b)中干涉地检测所述反射镜(100、M1、M2、M3、M4、M5、M6、M7、M8、M9、M10、M11)的弯曲的使用的反射镜表面(130)上的多个点(A、A’)的距离(Δd(t))的时间变化。
4.根据权利要求1-3中任一项所述的方法，还包括以下步骤：
5.根据权利要求1-4中任一项所述的方法，其中，所述方法借助于测量装置(142A、142B)来执行，所述测量装置(142A、142B)包括干涉仪(134)和光束成形单元(138A、138B)。
6.根据权利要求5所
7.根据权利要求6所述的方法，其中，所述测量装置(142B)包括反射体反射镜(148)，借助于所述反射体反射镜，由所述使用的反射镜表面(130)反射的所述测量光束(136)被反射回到所述使用的反射镜表面(130)。
8.根据权利要求7所述的方法，其中所述反射体反射镜(148)被布置在所述干涉仪(134)与所述光束成形单元(138B)之间。
9.根据权利要求5至8中任一项所述的方法，其中，所述光学系统(200A、200B、200C、200D、200E、200F)还包括用于承载所述测量装置(142A、142B)的固定基准(202)，特别是传感器框架，其中，所述使用的反射镜表面(130)被布置成面向所述固定基准(202)。
10.根据权利要求9所述的方法，其中，所述光学系统(200A、200B、200C、200D、200E、200F)还包括多个反射镜(100、M1、M2、M3、M4、M5、M6、M7、M8、M9、M10、M11)，所述反射镜(100、M1、M2、M3、M4、M5、M6、M7、M8、M9、M10、M11)被布置成使得所述固定基准(202)相对于所述反射镜(100、M1、M2、M3、M4、M5、M6、M7、M8、M9、M10、M11)布置在内部。
...【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】
1.一种用于确定光学系统(200a、200b、200c、200d、200e、200f)中的反射镜(100、m1、m2、m3、m4、m5、m6、m7、m8、m9、m10、m11)的姿态的方法，包括以下步骤：
2.根据权利要求1所述的方法，其中，所述反射镜(100、m1、m2、m3、m4、m5、m6、m7、m8、m9、m10、m11)的姿态在步骤c)中借助于从所述机械模型计算的n个本征模式的振幅ak和相位φk来确定。
3.根据权利要求1或2所述的方法，其中，在步骤b)中干涉地检测所述反射镜(100、m1、m2、m3、m4、m5、m6、m7、m8、m9、m10、m11)的弯曲的使用的反射镜表面(130)上的多个点(a、a’)的距离(δd(t))的时间变化。
4.根据权利要求1-3中任一项所述的方法，还包括以下步骤：
5.根据权利要求1-4中任一项所述的方法，其中，所述方法借助于测量装置(142a、142b)来执行，所述测量装置(142a、142b)包括干涉仪(134)和光束成形单元(138a、138b)。
6.根据权利要求5所述的方法，其中，所述干涉仪(134)的测量光束(136)借助于所述光束成形单元(138a)成形，使得所述测量光束(136)的光线(s1，s2)在所述测量光束(136)入射在所述使用的反射镜表面(130)上的区域(b)中的每个点处与所述使用的反射...
【专利技术属性】
技术研发人员：M·帕特拉，
申请(专利权)人：卡尔蔡司SMT有限责任公司，
类型：发明
国别省市：
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