【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种用于操作光学系统的方法。
技术介绍
1、微光刻用于生产微结构部件，例如集成电路或lcd。微光刻工艺在所谓的投射曝光装置中进行，其包括照明设备和投射镜头。借助于照明设备照射的掩模(＝掩模版)的像在此借助于投射镜头投射到涂覆有光敏层(光致抗蚀剂)并布置在投射透镜的像平面中的基板(例如硅晶片)上，以便将掩模结构转印到基板的光敏涂层上。
2、在设计用于euv范围(即，在例如大约13nm或大约7nm的波长)的投射镜头中，由于缺乏合适的透光折射材料的可用性，反射镜被用作成像过程的光学部件。
3、在已知的设置中，投射镜头可以包括力框架形式的载荷传递支撑结构和与其独立设置的传感器框架形式的测量结构，其中支撑结构和测量结构两者经由用作动态解耦部件的机械连杆彼此独立地机械连接到光学系统的基座。
4、在投射曝光装置的操作期间出现的问题是，传感器框架的热致变形可由于热影响(其包括在操作期间起作用的电磁辐射和来自诸如致动器或加热装置的部件的散热两者)而发生，由此在投射曝光装置的操作期间最终引起光学像差。
5、在此情况下，在实践中出现的另一问题为，用于建立投射曝光装置的光学系统或投射镜头的热状态的温度传感器仅以有限数目可用，且特别地，在待监测部件的可靠操作的相应位置处经常不可用。连同由于由不同模块构成的光学系统而存在的复杂性一起，这些情况的结果是，搜索错误和引入合适的对策(例如替换或维修特定部件)只有在有延迟的情况下才引入(例如，仅一旦光学系统的非计划中断已发生)，由此投射曝光装置的可用性不
技术实现思路
1、针对上述背景，本专利技术的目的是提供一种用于操作光学系统的方法，该方法使得能够尽可能可靠和及时地识别错误并规划合适的对策。
2、该目的通过根据独立权利要求1的特征的方法来实现。
3、根据本专利技术的用于操作光学系统的方法包括以下步骤：
4、a)在传感器辅助下测量所述光学系统内的多个不同传感器位置处的至少一个物理变量的值；以及
5、b)基于该测量诊断所述光学系统的现有或预期故障；
6、其中在步骤a)中测量的值用于执行在另外的位置处的至少一个参数的基于模型的确定，所述另外的位置都不对应于传感器位置，其中步骤b)中的诊断也基于该基于模型的确定进行。
7、特别地，本专利技术基于在光学系统的操作期间实现具有增加的信息密度的故障的诊断(特别是具有误差的对应原因的定位)的概念，因为通过一个或多个物理变量(例如温度)的传感器辅助测量的方式在诊断中包括合适的模型，以便在通过存在的传感器不直接“可观察”的另外的位置处建立与该诊断相关的参数(例如热负荷)。
8、因此，基于根据本专利技术的方法，可以有实质上更可靠并且特别是更及时的错误识别和合适对策的适当规划。
9、在步骤a)中测量的至少一个物理变量特别地可以是温度，但是，附加地或作为替代，另外的实施例还可以包括例如由光学系统在给定平面中提供的波前。
10、以基于模型的方式确定的至少一个参数尤其可以包括热负荷。
11、根据一实施例，上述另外的位置(它们都不对应于传感器位置)在每种情况下位于待监测其操作的光学系统的部件处。
12、根据一实施例，使用在另外的位置处的至少一个参数的基于模型的确定来规划用于补救或避免故障的对策，所述另外的位置都不对应于传感器位置。特别地，在该过程中还可以存在警告等，这可选地还可能包含被假定为有故障的部件的指示。
13、根据一实施例，该规划额外地基于对故障的相关性的评估来实施。特别地，这里可以考虑的是部件的即将到来的停运是否例如不能证明关闭整个光学系统是合理的，结果是在任何情况下计划的下一个维修暂停也可以在这种情况下用于相关部件的可能需要的更换。
14、根据一实施例，光学系统是微光刻光学系统，特别是微光刻投射曝光装置的投射镜头。
15、根据一实施例，传感器布置在投射曝光装置的传感器框架上。另外的位置(其均不对应于传感器位置)可特别地位于投射曝光装置的力框架上。
16、根据说明书和从属权利要求，本专利技术的其他配置是显而易见的。
17、下面基于附图中所示的示例性实施例更详细地解释本专利技术。
本文档来自技高网...【技术保护点】
1.一种用于操作光学系统的方法，所述方法包括以下步骤：
2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，在步骤a)中测量的所述至少一个物理变量包括温度。
3.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于，在步骤a)中测量的所述至少一个物理变量包括由所述光学系统在给定平面中提供的波前。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的方法，其特征在于，以基于模型的方式确定的所述至少一个参数包括热负荷。
5.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其特征在于，所述另外的位置在每种情况下都位于待监测其操作的所述光学系统的部件处，所述另外的位置都不对应于传感器位置。
6.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其特征在于，使用在另外的位置处的至少一个参数的基于模型的确定来自动规划用于补救或避免所述故障的对策，所述另外的位置都不对应于传感器位置。
7.根据权利要求6所述的方法，其特征在于，该自动规划额外地基于对所述故障的相关性的评估来实现。
8.如前述权利要求中任一项所述的方法，其特征在于，所述光学系统是微光刻光学系统，特别是微光刻投射
9.根据权利要求8所述的方法，其特征在于，所述传感器布置在所述投射曝光装置的传感器框架(120)上。
10.根据权利要求8或9所述的方法，其特征在于，所述另外的位置位于所述投射曝光装置的力框架(110)上，所述另外的位置均不对应于传感器位置。
...【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】
1.一种用于操作光学系统的方法，所述方法包括以下步骤：
2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，在步骤a)中测量的所述至少一个物理变量包括温度。
3.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于，在步骤a)中测量的所述至少一个物理变量包括由所述光学系统在给定平面中提供的波前。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的方法，其特征在于，以基于模型的方式确定的所述至少一个参数包括热负荷。
5.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其特征在于，所述另外的位置在每种情况下都位于待监测其操作的所述光学系统的部件处，所述另外的位置都不对应于传感器位置。
6.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其...
【专利技术属性】
技术研发人员：J·吉普斯，M·奈夫齐，
申请(专利权)人：卡尔蔡司SMT有限责任公司，
类型：发明
国别省市：
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。