成像光学系统和具有此类型的成像光学系统的用于微光刻的投射曝光设备技术方案

一种成像光学系统（７）具有多个反射镜（Ｍ１至Ｍ６），其将物平面（５）中的物场（４）成像到像平面（９）中的像场（８）中。成像光学系统（７）具有光瞳遮挡。物场（４）和像场（８）之间的成像光（３）的光束路径中的倒数第一个反射镜（Ｍ６）具有用于成像光（３）穿过的通孔（１８）。物场（４）和像场（８）之间的成像光（３）的光束路径中的成像光学系统（７）的倒数第二个反射镜（Ｍ５）没有用于成像光（３）穿过的通孔。结果，成像光学系统具有多种小像差的可处理组合、可管理的制造以及良好的成像光通过量。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种具有多个反射镜的成像光学系统，其将物平面中的物场成像到像平面中的像场中。此外，本专利技术还涉及具有此类型的成像光学系统的投射曝光设备，用于利用此类型的投射曝光系统制造微结构或纳米结构组件的方法，以及通过此方法制造的微结构或纳米结构组件。
技术介绍
US 2006/023^67Α1和US 2008/0170310A1中公开了说明书开始所提及的类型的成像光学系统。
技术实现思路
本专利技术的目的是开发说明书开始所提及的类型的成像光学系统，从而获得多种小像差的可处理组合，可管理制造、以及良好的成像光通过量。根据本专利技术的第一方面，通过具有权利要求1中所公开的特征的成像光学系统实现此目的。根据本专利技术，认识到在成像质量没有相对大的损失的情况下，可以在光瞳遮挡系统(即具有光瞳遮挡的成像光学系统)中配置具有连续反射面的倒数第二个反射镜，即在倒数第二个反射镜的光学使用区域内没有通孔。这有助于制造具有足够反射镜厚度的该倒数第二个反射镜，还允许在该倒数第二个反射镜的面向像平面的一侧与该像平面之间具有足够大的间距，而同时最小化光瞳遮挡的尺寸。如果该倒数第二个反射镜被布置在相对于其它反本文档来自技高网...

【技术保护点】
１．具有多个反射镜（Ｍ１至Ｍ６）的成像光学系统（７），所述多个反射镜将物平面（５）中的物场（４）成像为像平面（９）中的像场（８），所述物场（４）和所述像场（８）之间的成像光（３）的光束路径中的最后一个反射镜（Ｍ６）具有用于所述成像光（３）通过的通孔（１８），其特征在于，－在所述物场（４）和所述像场（８）之间的成像光（３）的光束路径中，在所述像场（８）的前方的成像光束（２２）之外布置了所述成像光学系统（７）的倒数第二个反射镜（Ｍ５），－所述倒数第二个反射镜（Ｍ５）的、在所述倒数第二个反射镜（Ｍ５）的光学使用的区域内的反射面没有用于所述成像光（３）穿过的通孔。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：汉斯于尔根曼，
申请(专利权)人：卡尔蔡司SMT有限责任公司，
类型：发明
国别省市：DE