微光学成像薄膜及成像装置制造方法及图纸

本申请涉及光学薄膜技术领域，其公开了一种微光学成像薄膜及成像装置。该微光学成像薄膜包括本体；所述本体上形成有聚焦结构和图文结构，所述聚焦结构和所述图文结构相适配从而形成图像；至少部分所述聚焦结构的外表面上包覆有包覆结构，所述包覆结构和所述聚焦结构的制成材料不同，并且所述包覆结构的折射率与所述聚焦结构的折射率之差大于或等于0.05。通过本申请实施例所公开的技术方案，可以提高成像薄膜抗外界环境污染的能力。

Micro optical imaging film and imaging device

The utility model relates to the technical field of optical thin films, and discloses a micro optical imaging film and an imaging device. The optical imaging film comprises a body; a focusing structure and graphic structure formed on the main body, the focusing structure and the graphic structure adapted to form an image; at least a portion of the outer surface of the focusing structure is coated with the coating structure, the coating material structure and the structure of the different focus and, the coating structure and the refractive index of the focusing structure of the difference in the refractive index is greater than or equal to 0.05. The technical proposal disclosed by the embodiment of the invention can improve the ability of the imaging film to resist external environmental pollution.

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及光学薄膜
，尤其涉及一种微光学成像薄膜及成像装置。
技术介绍
莫尔技术是一类引人注目的新型视觉安全技术。它利用微透镜阵列的聚焦作用将微图案高效率地放大,实现具有一定景深并呈现奇特动态效果的图案。专利文件200480040733.2公开了一种应用于钞票等有价证券开窗安全线的微透镜阵列安全元件。它的基本结构为:在透明基层的上表面设置周期性微透镜阵列，在透明基层的下表面设置对应的周期型微图案阵列，微图案阵列位于微透镜阵列的焦平面或其附近，微图案阵列与微透镜阵列排列大致相同，通过微透镜阵列对微图案阵列的莫尔放大作用。该专利公开了两种制作微图案的方法：由选自喷墨、激光、凸版印刷、胶版印刷、照相凹版印刷、及凹版印刷法所组成的群组的印刷方法，在透明基层下表面设置凸出的微图案油墨；或者在透明基层下表面形成有图案的凹陷，并在凹陷中填充油墨进而形成微图案。后者具有几乎无限空间解析度的优点。因此分别在透明基层上下表面设置微透镜和凹陷型微图案具有最优的图形复杂度和解析度有利于最大化提高该安全器件的仿制难度。然而这种安全元件目前的使用方法主要是整体嵌入纸张或者粘合于印刷品表面。烫印是目前将局部安全元件设置于产品包装的一种主流的方法。然而烫印技术要求安全元件是一层很薄且可以切断的薄膜。当前的工业界，具有实际加工可行性的最小透明基层厚度是23um，再加上微透镜和凹陷结构的厚度，整体安全元件的厚度一般会增加到40um以上。因此如此厚的整体结构极不利于高速烫印时及时切断。此外透明基材往往具有良好的机械性能，这也不利于烫印的切断要求。为了将安全元件与主流的烫印方式相适应，必须去除该安全元件中的透明基层。专利文件200480040733.2在图13-14中公开了一种可篡改标示材料实施例。即剥离覆盖在微透镜表面的可剥离层时，微图案的放大效果会在剥离前后发生变化。值得一提的是：从图14看，为“剥离改变”膜结构，该结构包括一可剥离微透镜、第二微透镜、第一图案层以及第二图案层，可以在第二微透镜背面直接印刷第一图案层，第一图案层与第二图案层之间还设有光学间隔器244，此时第二微透镜与第一图案层之间进而排除了透明基材，但是此时的第二微透镜并不能显示第一图案层的影像(见说明书第20页第二段)。再者，该专利说明书第29～30页公开了该专利中的结构制备方法，基本包括以下步骤：S01一个或多个光学间隔器；S02微透镜以及图案层分别位于光学间隔器表面。其中光学间隔器表面设可固化树脂制备微透镜以及图案层。在实现本申请过程中，专利技术人发现现有技术中至少存在如下问题：现有技术中的成像薄膜中的微透镜结构往往容易遭受外界环境的污染(例如，油污、水、胶状物等污染)，这可能会直接影响成像薄膜的成像功能。
技术实现思路
本申请实施例的目的是提供一种微光学成像薄膜及成像装置，以提高成像薄膜抗外界环境污染的能力。为解决上述技术问题，本申请实施例提供一种微光学成像薄膜是这样实现的：本申请实施例提供了一种微光学成像薄膜，包括：本体；所述本体上形成有聚焦结构和图文结构，所述聚焦结构和所述图文结构相适配从而形成图像；至少部分所述聚焦结构的外表面上包覆有包覆结构，制成所述包覆结构和所述聚焦结构的材料不同，所述包覆结构的折射率与所述聚焦结构的折射率之差大于或等于0.05。在一实施例中，所述聚焦结构和所述图文结构为一体结构。在一实施例中，用于形成所述聚焦结构的第一聚合物和用于形成所述图文结构的第二聚合物之间形成有第一融合部分。在一实施例中，所述本体上还形成有间隔结构，所述聚焦结构和所述图文结构分别位于所述间隔结构的两侧。在一实施例中，所述聚焦结构和所述间隔结构为一体结构。在一实施例中，用于形成所述聚焦结构的第一聚合物和用于形成所述间隔结构的第三聚合物之间形成有第二融合部分。在一实施例中，所述图文结构和所述间隔结构为一体结构。在一实施例中，用于形成所述图文结构的第二聚合物和用于形成所述间隔结构的第三聚合物之间形成有第三融合部分。在一实施例中，所述聚焦结构形成于所述本体的第一表面，所述图文结构形成于所述本体的第二表面，所述第一表面与所述第二表面相背对。在一实施例中，所述聚焦结构形成于所述本体的第一表面，所述图文结构形成于所述本体的内部。在一实施例中，所述图文结构为凹槽结构。在一实施例中，所述聚焦结构包括一个或多个微透镜或菲涅尔透镜。在一实施例中，所述包覆结构中远离所述聚焦结构的一表面为平整的表面。本申请实施例还提供了一种成像装置，包括：成像薄膜，所述成像薄膜包括聚焦结构和图文结构，所述聚焦结构和所述图文结构相适配从而形成图像；包覆结构，所述包覆结构用于包覆至少部分所述聚焦结构的外表面，制成所述包覆结构和所述聚焦结构的材料不同，并且所述包覆结构的折射率与所述聚焦结构的折射率之差大于或等于0.05。承载结构，所述承载结构位于所述包覆结构远离所述成像薄膜的一侧，用于承载并显示所述成像薄膜的成像。在一实施例中，所述聚焦结构和所述图文结构为一体结构。在一实施例中，用于形成所述聚焦结构的第一聚合物和用于形成所述图文结构的第二聚合物之间形成有第一融合部分。在一实施例中，所述成像薄膜还包括间隔结构，所述聚焦结构和所述图文结构分别位于所述间隔结构的两侧。在一实施例中，所述聚焦结构和所述间隔结构为一体结构。在一实施例中，用于形成所述聚焦结构的第一聚合物和用于形成所述间隔结构的第三聚合物之间形成有第二融合部分。在一实施例中，所述图文结构和所述间隔结构为一体结构。在一实施例中，用于形成所述图文结构的第二聚合物和用于形成所述间隔结构的第三聚合物之间形成有第三融合部分。在一实施例中，所述图文结构为凹槽结构。在一实施例中，所述聚焦结构包括一个或多个微透镜或菲涅尔透镜。在一实施例中，所述包覆结构中远离所述聚焦结构的一表面为平整的表面。由以上本申请实施例提供的技术方案可见，本申请实施例通过在聚焦结构的外表面设置包覆结构，所述包覆结构包覆至少部分所述聚焦结构的外表面，并且所述包覆结构的折射率与所述聚焦结构的折射率之差大于或等于0.05，这可以使聚焦结构与外界相隔离，从而可以减小外界环境对聚焦结构的污染，进而实现了提高成像薄膜抗外界环境污染的能力的目的。附图说明为了更清楚地说明本申请实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请中记载的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1为本申请实施例提供的一种微光学成像薄膜的结构示意图；图2为本申请实施例提供的微光学成像薄膜的又一种结构示意图；图3为本申请实施例提供的微光学成像薄膜的又一种结构示意图；图4为本申请实施例提供的微光学成像薄膜的又一种结构示意图；图5为本申请实施例提供的微光学成像薄膜的又一种结构示意图；图6为本申请实施例提供的微光学成像薄膜的又一种结构示意图；图7为本申请实施例提供的另一种微光学成像薄膜的结构示意图；图8为本申请实施例提供的微光学成像薄膜的又一种结构示意图；图9为本申请实施例提供的微光学成像薄膜的又一种结构示意图；图10为本申请实施例提供的微光学成像薄膜的又一种本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种微光学成像薄膜，其特征在于，包括：本体；所述本体上形成有聚焦结构和图文结构，所述聚焦结构和所述图文结构相适配从而形成图像；至少部分所述聚焦结构的外表面上包覆有包覆结构，制成所述包覆结构和所述聚焦结构的材料不同，所述包覆结构的折射率与所述聚焦结构的折射率之差大于或等于0.05。

【技术特征摘要】
1.一种微光学成像薄膜，其特征在于，包括：本体；所述本体上形成有聚焦结构和图文结构，所述聚焦结构和所述图文结构相适配从而形成图像；至少部分所述聚焦结构的外表面上包覆有包覆结构，制成所述包覆结构和所述聚焦结构的材料不同，所述包覆结构的折射率与所述聚焦结构的折射率之差大于或等于0.05。2.根据权利要求1所述的成像薄膜，其特征在于，所述聚焦结构和所述图文结构为一体结构。3.根据权利要求2所述的成像薄膜，其特征在于，用于形成所述聚焦结构的第一聚合物和用于形成所述图文结构的第二聚合物之间形成有第一融合部分。4.根据权利要求1所述的成像薄膜，其特征在于，所述本体上还形成有间隔结构，所述聚焦结构和所述图文结构分别位于所述间隔结构的两侧。5.根据权利要求4所述的成像薄膜，其特征在于，所述聚焦结构和所述间隔结构为一体结构。6.根据权利要求5所述的成像薄膜，其特征在于，用于形成所述聚焦结构的第一聚合物和用于形成所述间隔结构的第三聚合物之间形成有第二融合部分。7.根据权利要求4所述的成像薄膜，其特征在于，所述图文结构和所述间隔结构为一体结构。8.根据权利要求7所述的成像薄膜，其特征在于，用于形成所述图文结构的第二聚合物和用于形成所述间...

【专利技术属性】
技术研发人员：张健，
申请(专利权)人：昇印光电昆山股份有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏;32