光学膜及其制作方法技术

本发明专利技术公开了一种光学膜，包括第一基材以及第二基材，其中多个第一粒子掺杂散布在第一基材内，且多个第二粒子掺杂散布在第二基材内。第一基材具有顶面以及底面，其中顶面为平坦的表面，且底面为粗糙的表面。第二基材黏附于第一基材的底面下，且第二基材具有平坦的表面。

【技术实现步骤摘要】
光学膜及其制作方法
本专利技术涉及光学膜及其制作方法，尤其涉及一种用于增强显示面板亮度的光学膜及其制作方法。
技术介绍
显示面板具有平滑的表面，因此由显示面板显示的光与入射进显示面板的光将会大幅度地因光的反射而耗损，一般而言，为改善此现象以及提升显示面板的显示效果，目前业界多于显示面板上覆盖一层光学膜层以降低光的反射以及折射效应，然而，光学膜层本身的透明程度亦会影响显示面板的显示效果。
技术实现思路
有鉴于此，本专利技术的主要目的在于提供一种光学膜及其制作方法，以增强显示面板亮度、提升导光效果以及改善习知光学膜的透明度。为达到上述目的，本专利技术的技术方案是这样实现的：一种光学膜，其包括一第一基材、多个第一粒子、一第二基材以及多个第二粒子。第一基材具有一顶面以及一底面，其中顶面为平坦的表面，且底面为粗糙的表面。第一粒子掺杂散布在第一基材内。第二基材黏附于第一基材的底面下，且第二基材具有平坦的表面。第二粒子掺杂散布在第二基材内。一种光学膜的制作方法。首先，提供一第一溶液。然后，将多个第一粒子掺杂至第一溶液中，并使第一粒子均匀散布于第一溶液中，其中第一溶液呈一胶态。接着，将掺杂有第一粒子的第本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光学膜，其特征在于，包括：一第一基材，所述第一基材具有一顶面以及一底面，其中所述顶面为平坦的表面，且所述底面为粗糙的表面；多个第一粒子，掺杂散布在所述第一基材内；一第二基材，黏附于所述第一基材的所述底面下，所述第二基材具有平坦的表面；以及多个第二粒子，掺杂散布在所述第二基材内。

【技术特征摘要】
1.一种光学膜，其特征在于，包括：一第一基材，所述第一基材具有一顶面以及一底面，其中所述顶面为平坦的表面，且所述底面为粗糙的表面；多个第一粒子，掺杂散布在所述第一基材内；一第二基材，黏附于所述第一基材的所述底面下，所述第二基材具有平坦的表面；以及多个第二粒子，掺杂散布在所述第二基材内。2.根据权利要求1所述的光学膜，其特征在于，所述第一基材与所述第二基材的材料分别包括聚二甲基硅氧烷。3.根据权利要求1所述的光学膜，其特征在于，所述第一基材与所述第二基材分别为有机硅化合物，且所述第一基材与所述第二基材的折射率范围分别为约1.4至约1.6，且所述第一基材与所述第二基材的透明度分别大于95%。4.根据权利要求1所述的光学膜，其特征在于，所述第一基材的所述底面具有一粗糙结构。5.根据权利要求4所述的光学膜，其特征在于，所述粗糙结构的高低差范围为约5微米至约10微米。6.根据权利要求1所述的光学膜，其特征在于，还包括多个第三粒子，设置于所述第一基材与所述第二基材之间。7.根据权利要求6所述的光学膜，其特征在于，所述第三粒子的粒径范围为约1微米至约20微米。8.根据权利要求6所述的光学膜，其特征在于，所述第三粒子于所述第一基材的所述底面的含量范围为约0.0001克/平方厘米至约0.001克/平方厘米，且所述第三粒子的折射率范围分别为约1.4至约1.6，其中所述第三粒子的材料包括氧化硅。9.根据权利要求1所述的光学膜，其特征在于，所述第一粒子与所述第二粒子的粒径范围分别为约0.01微米至约7微米。10.根据权利要求1所述的光学膜，其特征在于，所述第一粒子与所述第二粒子分别独立地选自由以下氧化物所组成的群组：第2族氧化物、第4族氧化物、第13族氧化物及第14族氧化物。11.根据权利要求10所述的光学膜，其特征在于，所述第一粒子与所述第二粒子分别独立地包括二至四种氧化物，且所述二至四种氧化物分别为不同族元素所构成的氧化物。12.根据权利要求1所述的光学膜，其特征在于，所述第一粒子的折射率范围落在1.4～1.9与2.3～2.5之间，而所述第二粒子的折射率范围落在1.4～1.9与2.3～2.5之间。13.根据权利要求1所述的光学膜，其特征在于，所述第一粒子于所述第一基材中所占的重量百分比为约0.1至约1，且所述第二粒子于所述第二基材中所占的重量百分比为约0.1至约1。14.一种光学膜的制作方法，其特征在于，包括：提供一第一溶液；将多个第一粒子掺杂至...

【专利技术属性】
技术研发人员：邱创弘，简昭珩，陈岳豪，简维成，
申请(专利权)人：中华映管股份有限公司，大同大学，
类型：发明
国别省市：中国台湾,71