成像光学系统和投射曝光设备技术方案

技术编号:7917177 阅读:151 留言:0更新日期:2012-10-25 02:04
成像光学系统(7)具有多个镜(M1至M6)。这些镜将物平面(5)中的物场(4)成像到像平面(9)中的像场(8)。在成像光学系统(7)中,镜(M1至M6)的反射表面上的成像光(15)的最大入射角和成像系统(7)的像方数值孔径的比小于33.8°。这产生为镜的反射涂层提供好的条件的成像光学系统,利用该成像光学系统,当成像光通过该成像光学系统时,尤其甚至在小于10nm的EUV范围内的波长,对于成像光仍能够获得低的反射损失。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
具有至多为0.5的像方数值孔径的成像光学系统,其特征在于分辨能力好于8nm。

【技术特征摘要】
...

【专利技术属性】
技术研发人员:汉斯于尔根曼威廉乌尔里克斯蒂芬马伦德哈特穆特恩基希
申请(专利权)人:卡尔蔡司SMT有限责任公司
类型:发明
国别省市:

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