放大成像光学单元和包含该成像光学单元的测量系统技术方案
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】放大成像光学单元和包含该成像光学单元的测量系统通过引用将德国专利申请DE102011003302.5的内容并入于此。
本专利技术涉及放大成像光学单元，并且涉及包含该成像光学单元的测量系统。
技术介绍
从DE10220815A1中已知，引言中提及类型的放大成像光学单元用于微光刻的掩模的特性的效应的模拟和分析。从US6,894,834B2、WO2006/0069725A1、US5,071,240、US7,623,620、US2008/0175349A1和WO2010/148293A2已知其它成像光学单元。
技术实现思路
本专利技术的目的是开发引言中提及类型的成像光学单元，使得尤其是针对给定的成像比例，考虑对成像光学单元的紧凑性和传输率的增加的需求。根据本专利技术的第一方面，利用如下的成像光学单元来实现该目的，该成像光学单元为一放大成像光学单元，包含至多四个反射镜，其经由成像光束路径将物平面中的物场成像至像平面中的像场中，所述成像光束路径在所述成像光束路径中相邻的反射镜之间具有成像部分光线，其中，所述光学单元被设计为使得所述成像光束路径中的第二个反射镜和所述成像光束路径中的...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2011.01.28 DE 102011003302.5;2011.01.28 US 61/437,1.一种放大成像光学单元(7；27；32；34；39；41；43；45；47；49；50；51；53；60；61)，-包含至多四个反射镜(M1至M4)，其经由成像光束路径(8)将物平面(11)中的物场(6)成像至像平面(12)中的像场(9)中，所述成像光束路径(8)在所述成像光束路径(8)中相邻的反射镜(M1至M4)之间具有成像部分光线(25、19、20)，-其中，所述光学单元(7；27；32；34；39；41；43；45；47；49；50；51；53；60；61)被设计为使得--所述成像光束路径(8)中的第二个反射镜(M2)和所述成像光束路径(8)中的第三个反射镜(M3)之间的第一成像部分光线(19)，以及--所述成像光束路径(8)中的所述第三个反射镜(M3)之后的第二成像部分光线(20)--分别通过所述成像光束路径(8)中的第一个反射镜(M1)的镜体(22)中的至少一个通口(21；21a、21b)。2.根据权利要求1所述的放大成像光学单元，其特征在于，所述第一成像部分光线(19)和所述第二成像部分光线(20)分别通过所述第一个反射镜(M1)的镜体(22)中的同一通口(21)。3.根据权利要求1或2所述的放大成像光学单元，其特征在于，所述光学单元(7；27；32；34；39)被设计为使得在所述成像光束路径(8)中的第四个反射镜(M4)和所述像场(9)之间的第三成像部分光线(37)通过所述成像光束路径(8)中的所述第一个反射镜(M1)的所述镜体(22)。4.根据权利要求1或2所述的放大成像光学单元，其特征在于，所述通口(21)在所述成像光束路径(8)中至少按部分地被所述第二个反射镜(M2)遮蔽。5.一种放大成像光学单元(7；27；32；34；39；41；43；45；47；53；55；57；61)，-包含至多四个反射镜(M1至M4)，其经由成像光束路径(8)将物平面(11)中的物场(6)成像至像平面(12)中的像场(9)中，-具有至多为1300mm的结构长度T，结构长度T为所述物平面(11)和所述像平面(12)之间的距离，-比率T/β小于1.5mm，其中T为所述结构长度，β为成像比例，-在所述物平面(11)的法线(16)和中心物场点的主...
【专利技术属性】
技术研发人员：HJ曼，
申请(专利权)人：卡尔蔡司SMT有限责任公司，
类型：
国别省市：
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