反射镜，包含这种反射镜的投射物镜，以及包含这种投射物镜的用于微光刻的投射曝光设备制造技术

本发明专利技术涉及一种包含基底(S)和层布置的反射镜(la;la’;lb;lb’;lc;lc’)，其中将所述层布置设计为使得以至少在0°和30°之间的入射角入射于反射镜(la;la’;lb;lb’;lc;lc’)上的、波长小于250nm的光(32)的强度被反射超过20%，以及所述层布置包含至少一个表面层系(P’’’)，其由单独层的至少两个周期(P3)的周期序列构成，其中所述周期(P3)包含由不同材料构成的两个单独层，该不同材料用于高折射率层(H’’’)和低折射率层(L’’’)，其中所述层布置包含至少一个由石墨烯构成的层(G、SPL、B)。此外，本发明专利技术涉及在光学元件上使用石墨烯(G、SPL、B)，用于将表面粗糙度降低至少于0.1nm?rms?HSFR，和/或用于保护EUV波长范围内的光学元件不遭受辐射导致的不可逆的体积变化大于1%，及/或作为阻挡层，用于在EUV波长范围中防止所谓的多层反射镜的层之间的相互扩散。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：R弗赖曼，N贝尔，G林巴赫，T贝姆，G威蒂克，
申请(专利权)人：卡尔蔡司SMT有限责任公司，
类型：
国别省市：