辐射源模块制造技术
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】辐射源模块相关申请的交叉引用本申请要求德国专利申请DE102014226921.0、DE102014226918.0、DE102014226920.2和DE102014226917.2的优先权，所述申请的内容通过引用并入本文。
本专利技术关于一种辐射源模块，特别是包含多个扫描仪的投射曝光系统的照明系统的辐射源模块。本专利技术关于包含多个扫描仪的投射曝光系统的照明系统。此外，本专利技术关于一种控制共同辐射源的照明辐射在多个扫描仪间的划分的方法。最后，本专利技术关于投射光刻的投射曝光系统、制造微结构或纳米结构部件的方法、以及由该方法制造的部件。特别地，本专利技术的另一方面关于用于从集中输出光束耦合输出分配给特定一个扫描仪的至少一个单独输出光束的光学部件。本专利技术更关于输出耦合光学单元，用于从集中输出光束耦合输出单独输出光束。本专利技术另一方面关于供应照明辐射给投射曝光系统的多个扫描仪的辐射源模块，以及关于包含此辐射源模块的投射曝光系统的照明系统。本专利技术另一方面关于设计从集中输出光束耦合输出至少一个单独输出光束的光学部件的方法。
技术介绍
在投射曝光期间用于在晶片...
【技术保护点】
一种投射曝光系统(1)的照明系统(19)的辐射源模块(2)，所述投射曝光系统包含多个M的扫描仪(3i)，1.1所述辐射源模块包含输出耦合光学单元(9)，其包含将具有总强度的集中输出光束(8)划分为具有单独强度的多个(M)单独输出光束(10i)的至少一个装置，1.2其中划分该集中输出光束(8)的所述装置包含改变该集中输出光束(8)的总强度对该单独输出光束(10i)的单独强度的分配比的装置，1.3其中将该集中输出光束(8)划分为单独输出光束(10i)的所述装置包含至少一个分离部件，其具有至少一个辐射反射元件(134)，其中该至少一个辐射反射元件(134)包含分配给该不同扫描仪(...
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2014.12.23 DE 102014226921.0;2014.12.23 DE 10201421.一种投射曝光系统(1)的照明系统(19)的辐射源模块(2)，所述投射曝光系统包含多个M的扫描仪(3i)，1.1所述辐射源模块包含输出耦合光学单元(9)，其包含将具有总强度的集中输出光束(8)划分为具有单独强度的多个(M)单独输出光束(10i)的至少一个装置，1.2其中划分该集中输出光束(8)的所述装置包含改变该集中输出光束(8)的总强度对该单独输出光束(10i)的单独强度的分配比的装置，1.3其中将该集中输出光束(8)划分为单独输出光束(10i)的所述装置包含至少一个分离部件，其具有至少一个辐射反射元件(134)，其中该至少一个辐射反射元件(134)包含分配给该不同扫描仪(3i)的不同辐射反射区域(135i)。2.如权利要求1所述的辐射源模块(2)，其特征在于周期性地改变该集中输出光束(8)的总强度对该单独输出光束(10i)的单独强度的分配比的装置，其中该分配比的变化具有至多为10ms的周期(TVar)。3.如前述权利要求中任一项所述的辐射源模块(2)，其特征在于包含控制该集中输出光束(8)的总强度的至少一个装置。4.如前述权利要求中任一项所述的辐射源模块(2)，其特征在于辐射源(4)，提供作为控制该集中输出光束(8)的总强度的装置，该辐射源具有由其所发射的照明辐射(5)的可控制强度，其中由该辐射源所发射的照明辐射(5)的强度是以至少10kHz的频率可控制的。5.如权利要求3或4所述的辐射源模块(2)，其特征在于所述控制该集中输出光束(8)的总强度的装置是可控制的，其取决于所述将该集中输出光束(8)划分为单独输出光束(10i)的装置。6.如权利要求1-5中任一项所述的辐射源模块(2)，其特征在于在将该集中输出光束(8)的总强度分配为该单独输出光束(10i)的单独强度的分配比的变化的周期(TVar)的至少50％的期间，至少50％的比例的所述单独输出光束(10i)的单独强度每个至少为所有该单独输出光束(10i)的平均单独强度的10％。7.一种包含多个扫描仪(3i)的投射曝光系统(1)的照明系统(19)，包含：7.1如权利要求1-6中任一项所述的辐射源模块(2)；以...
【专利技术属性】
技术研发人员：M帕特拉，A沃尔夫，M施瓦布，T格鲁纳，J哈杰斯，
申请(专利权)人：卡尔蔡司SMT有限责任公司，
类型：发明
国别省市：德国,DE
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。