EUV投射光刻的照明光学单元制造技术
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】EUV投射光刻的照明光学单元相关申请的交叉引用本申请要求德国专利申请DE102014223452.2和DE102014223453.0的优先权，通过引用将上述申请的内容并入本文。
本专利技术关于EUV投射微光刻的照明光学单元。再者，本专利技术关于一种照明系统，包含此类照明光学单元和投射光学单元；一种投射曝光装置，包含此类照明系统；一种使用此类投射曝光装置制造微结构或纳米结构部件的方法；以及通过该方法制造的微结构或纳米结构部件。
技术介绍
上述类型的以照明光照明物场的照明光学单元，从US6,507,440B1、US6,438,199B1、US2011/0318696A1、US2011/0001947A1和WO2012/034995A2已知，其中待成像物体可布置在物场中。
技术实现思路
本专利技术的目的为开发上述类型的照明光学单元，使得通过其，投射光学单元可适配于照明光的EUV光源的配置。根据本专利技术，此目的由包含权利要求1指定的特征的照明光学单元实现。根据本专利技术识别出，介于光瞳分面反射镜与即将照明的物场之间至少两个用于掠入射的反射镜的布置，导致可能影响在首先在平行...
【技术保护点】
一种EUV投射光刻的照明光学单元(6；50；51；52；53)，用于以照明光(3)照明物场(4)，其中待成像物体(10)可布置于该物场(4)中，该物体在投射曝光期间通过物体夹持器(10a)在物体位移方向(y)上是可位移的，‑包含场分面反射镜(FF)，其包含多个场分面，所述多个场分面分别由至少一个单独反射镜构建，‑包含光瞳分面反射镜(PF)，其包含多个光瞳分面，为传输光学单元(46)的一部分，所述传输光学单元通过照明通道，以叠加于彼此上的方式将所述场分面成像在该物场(4)中，所述照明通道各均已分配有所述场分面之一和所述光瞳分面之一，‑其中该传输光学单元(46)具有至少两个用于...
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2014.11.18 DE 102014223453.0;2014.11.18 DE 10201421.一种EUV投射光刻的照明光学单元(6；50；51；52；53)，用于以照明光(3)照明物场(4)，其中待成像物体(10)可布置于该物场(4)中，该物体在投射曝光期间通过物体夹持器(10a)在物体位移方向(y)上是可位移的，-包含场分面反射镜(FF)，其包含多个场分面，所述多个场分面分别由至少一个单独反射镜构建，-包含光瞳分面反射镜(PF)，其包含多个光瞳分面，为传输光学单元(46)的一部分，所述传输光学单元通过照明通道，以叠加于彼此上的方式将所述场分面成像在该物场(4)中，所述照明通道各均已分配有所述场分面之一和所述光瞳分面之一，-其中该传输光学单元(46)具有至少两个用于掠入射的反射镜(22，23)，其在该照明光(3)的射束路径中布置于该光瞳分面反射镜(10)的下游，以及-在该物场(4)中产生由所述照明通道构成的照明光整体束(3G)的照明角带宽，该带宽对于照明光(3)在物场(4)上的平行于该物体位移方向(y)的入射平面(yz)而言小于对于与物体位移方向垂直的平面(xz)。2.如权利要求1的照明光学单元，其特征在于两个用于掠入射的反射镜(22，23)布置为使得其对所述照明光(3)的偏转效应相加。3.如权利要求1或2的照明光学单元，其特征在于在该光瞳分面反射镜(PF)上的光瞳分面的全体具有边缘轮廓(49)，其纵横比(x/y)介于-该边缘轮廓(49)垂直于该物体位移方向(y)的范围(x)与-该边缘轮廓(49)平行于该物体位移方向(y)的范围(y)之间，其小于该照明光学单元(6；50；51；52；53)的照明光瞳的尺寸之间的纵横比(sigmax/sigmay)，所述尺寸分配给边缘轮廓垂直(x)和平行(y)于该物体位移...
【专利技术属性】
技术研发人员：M恩德雷斯，R米勒，S比林，
申请(专利权)人：卡尔蔡司SMT有限责任公司，
类型：发明
国别省市：德国,DE
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