辅助特征的基于规则的部署制造技术

文中公开了几种方法，用在图案形成过程中，用于减小设计布局的一部分的Bossung曲线的倾斜、一个或多个图案位移误差、对比度损失、最佳聚焦偏移，所述图案形成过程用于使用光刻设备将所述部分成像到衬底上。所述方法包括：使用一个或多个规则，基于从以下各项构成的群组中选择的一个或多个参数，确定或调整一个或多个辅助特征的一个或多个特性：在所述部分中的一个或多个设计特征的一个或多个特性、所述图案形成过程的一个或多个特性、所述光刻设备的一个或多个特性、和/或选自前述各项的组合。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】辅助特征的基于规则的部署相关申请的交叉引用本申请要求于2014年10月2日递交的美国申请62/059,036和2015年9月16日递交的美国申请62/219,442的优先权，此处通过引用全文并入。
文中的描述涉及光刻设备和过程，更具体地，涉及用于优化在光刻设备或过程中使用的照射源或图案形成装置的方法或工具。
技术介绍
光刻设备可以例如用在集成电路(IC)的制造中。在这种情况下，图案形成装置(例如掩模)可以包含或提供与所述IC(“设计布局”)的单层相对应的电路图案，并且利用诸如通过图案形成装置上的电路图案照射目标部分等方法可以将该电路图案转移到衬底(例如，硅晶片)上的目标部分(例如，包括一个或多个管芯)上，其中所述衬底已经涂覆有辐射敏感材料(“抗蚀剂”)层。通常，单个的衬底包含通过光刻设备连续地将电路图案转移至其上的多个相邻目标部分，一次处理一个目标部分。在一种类型的光刻设备中，整个图案形成装置上的电路图案一次转移到一个目标部分上，这种设备通常称为晶片步进机。在可替换的设备中(通常称为步进-扫描设备)，投影束沿着给定的参考方向(“扫描”方向)扫描通过图案形成装置，同时沿与该参考方向平行本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种计算机执行的用于改进图案形成过程的方法，其中所述图案形成过程用于使用光刻设备将设计布局的一部分成像到衬底上，所述方法包括：获得一个或多个规则，所述一个或多个规则被配置用于基于从以下各项构成的群组中选择的一个或多个参数来确定一个或多个辅助特征的一个或多个特性：在所述部分中的一个或多个设计特征的一个或多个特性、所述图案形成过程的一个或多个特性、所述光刻设备的一个或多个特性、和/或选自前述各项的组合；使用所述一个或多个规则，基于所述一个或多个设计特征的成对边缘之间的间隔，确定所述一个或多个辅助特征与所述成对边缘中的一个边缘之间的距离，使得所述一个或多个辅助特征相对于所述成对边缘是不对称的；以及将...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2014.10.02 US 62/059,036;2015.09.16 US 62/219,4421.一种计算机执行的用于改进图案形成过程的方法，其中所述图案形成过程用于使用光刻设备将设计布局的一部分成像到衬底上，所述方法包括：获得一个或多个规则，所述一个或多个规则被配置用于基于从以下各项构成的群组中选择的一个或多个参数来确定一个或多个辅助特征的一个或多个特性：在所述部分中的一个或多个设计特征的一个或多个特性、所述图案形成过程的一个或多个特性、所述光刻设备的一个或多个特性、和/或选自前述各项的组合；使用所述一个或多个规则，基于所述一个或多个设计特征的成对边缘之间的间隔，确定所述一个或多个辅助特征与所述成对边缘中的一个边缘之间的距离，使得所述一个或多个辅助特征相对于所述成对边缘是不对称的；以及将所述一个或多个辅助特征放置在图案形成装置上。2.根据权利要求1所述的方法，其中所述一个或多个规则被配置用于通过将所述间隔分级来确定所述一个或多个辅助特征的所述一个或多个特性。3.根据权利要求1所述的方法，还包括：使用所述一个或多个规则来确定所述一个或多个辅助特征的所述一个或多个特性；其中所述一个或多个参数包括所述间隔。4.根据权利要求1所述的方法，其中所述辅助特征的所述特性是从由以下各项构成的群组中选择的：所述辅助特征的数量、所述辅助特征的位置、所述辅助特征的形状、所述辅助特征的透射、所述辅助特征的相位、与所述设计布局上的参考点的相对位置及其组合。5.根据权利要求1所述的方法，其中所述一个或多个参数包括以下各项中的一个或多个：成对边缘的取向、设计特征的狭缝位置、设计特征的尺寸、和设计特征的位置。6.根据权利要求1所述的方法，还包括：通过调整所述光刻设备的照射源的一个或多个特性，减小所述部分的Bossung曲线的倾...

【专利技术属性】
技术研发人员：DFS苏，库尔特·E·万普勒，
申请(专利权)人：ASML荷兰有限公司，
类型：发明
国别省市：荷兰,NL