传达方向选择性光衰减的设备和方法技术
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】传达方向选择性光衰减的设备和方法
本专利技术总体上涉及一种用于光刻工艺的精细光控制。更具体地，本专利技术涉及一种用于制造方向选择性光衰减器的设备和方法及其方向选择性光衰减器。关于向光掩模传达方向选择性光衰减描述了本专利技术的实施例。
技术介绍
随着光刻技术的发展，基板的光致抗蚀剂层上写入的图案的特征变得越来越小。所用的辐照的波长以及缩小光学系统从照明的掩模捕捉足够衍射级的能力(受所用的光学透镜的数值孔径影响)限制在光刻工艺中将小的细节的清楚且精细的图案投射到晶片上的能力。临界尺寸(CD)相对于它们的期望值的变化，即，所制造的晶片上的特征尺寸的变化，可能损害工艺窗口和产量。引入了各种技术以克服CD的变化。例如，优化引导至光掩模上的辐照的曝光剂量，以使产生在晶片上的图案的不同部分的期望CD与实际CD之间更好地匹配。处理CD变化的另一种方式涉及在光掩模基板内的在具有可变的光学密度的图案部分上方的特定位置中植入遮蔽元件。
技术实现思路
根据一些实施例，提供了一种向光掩模传达方向选择性光衰减的方法。方法可以包含对不同入射方向的光线分配不同衰减等级。方法还可以包括计算遮蔽元件阵列...
【技术保护点】
一种向光掩模传达方向选择性光衰减的方法，所述方法包括：对不同入射方向的光线分配不同衰减等级；计算遮蔽元件阵列，以取决于所述光线的入射方向，用分配的不同衰减等级来衰减所述光线；以及在所述光掩模的基板内雕刻所述遮蔽元件阵列。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2014.09.15 IL 2346551.一种向光掩模传达方向选择性光衰减的方法，所述方法包括：对不同入射方向的光线分配不同衰减等级；计算遮蔽元件阵列，以取决于所述光线的入射方向，用分配的不同衰减等级来衰减所述光线；以及在所述光掩模的基板内雕刻所述遮蔽元件阵列。2.根据权利要求1所述的方法，其中所述不同入射方向为不同方位角方向。3.根据权利要求1所述的方法，其中所述不同入射方向包括所述光掩模上的不同入射角。4.根据权利要求1至3中任一项所述的方法，其中所述遮蔽元件阵列设计为对所述不同方向的入射光线呈现不同散射截面。5.根据权利要求1至4中任一项所述的方法，其中所述遮蔽元件阵列的一个或多个特性在所述遮蔽元件阵列上局部地变化。6.根据权利要求5所述的方法，其中所述遮蔽元件阵列的所述一个或多个特性选自由以下特性组成的组：像素尺寸、形状、像素取向、所述阵列的像素密度以及所述阵列中的所述遮蔽元件的布置。7.根据权利要求1至6中任一项所述的方法，其中所述遮蔽元件阵列包括至少两个移位的实质上平行的遮蔽元件的二维队形。8.根据权利要求7所述的方法，其中所述至少两个移位的实质上平行的遮蔽元件的二维队形包括三个遮蔽元件的二维队形。9.根据权利要求8所述的方法，其中所述三个遮蔽元件的二维队形包括两个外部的遮蔽元件的二维队形以及所述外部队形之间的第三遮蔽元件的二维队形，并且其中所述两个外部队形实质上对齐，而所述第三队形相对于所述两个外部队形移位。10.根据权利要求7所述的方法，其中所述至少两个移位的实质上平行的遮蔽元件的二维队形相对于彼此移位。11.根据权利要求7所述的方法，其中所述二维队形的遮蔽元件为实质上非对称的。12.根据权利要求1至11中任一项所述的方法，其中所述遮蔽元件阵列的遮蔽元件中的一些或全部定位为距所述基板上的图案化涂层40至100微米之内。13.一种向光掩模传达方向选择性光衰减的设备，所述设备包括：激光源；光束传递系统以及聚焦光学系统；以及控制单元，所述控制单元配置为：使用所述激光源、光束传递系统以及聚焦光学系统，在所述光掩模的基板内雕刻遮蔽元件阵列，其中所述遮蔽元件阵列配置为取决于光线的入射方向，以不同衰减等级来衰减所述光线。14.根据权利要求13所述的设备，其中所述不同方向包括不同方位角方向。15.根据权利要求13所述的设备，其中所述不同方向包括不同入射角。16.根据权利要求13至15中任一项所述的设备，其中所述遮蔽元件阵列设计为对不同方向的光线呈现不同散射截面。17.根据权利要求13至16中任一项所述的设备，其中所述遮蔽元件阵列的一个或多个特性在所述遮蔽元件阵列上局部地变化。18.根据权利要求17所述的设备，其中所述遮蔽元件阵列的所述一个或多个特性选自由以下特性组成的组：像素尺寸、形状、像素取向、所述阵列的像素密度以及所述阵列中的所述遮蔽元件的布置。19.根据权利要求13至18中任一项所述的设备，其...
【专利技术属性】
技术研发人员：V德米特里耶夫，
申请(专利权)人：卡尔蔡司SMS有限公司，
类型：发明
国别省市：以色列,IL
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