投射镜头、投射曝光设备和EUV微光刻的投射曝光方法技术

一种投射镜头(PO)，用于通过具有来自极紫外范围(EUV)的操作波长λ的电磁辐射将设置于投射镜头的物平面(OS)中的图案成像至投射镜头的像平面(IS)上，投射镜头包含多个反射镜(M1‑M6)，其具有设置于该物平面与该像平面之间的投射射束路径中的反射镜表面，使得设置于物平面中的掩模(M)的图案可通过所述反射镜成像至像平面中。在平行于扫描方向行进的第一方向(y方向)上的第一成像比例的绝对值小于在垂直于该第一方向的第二方向(x方向)上的第二成像比例的绝对值。提供一种动态波前操纵系统，用于校正由掩模母版位移所造成的像散波前像差部分。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】投射镜头、投射曝光设备和EUV微光刻的投射曝光方法相关申请的交叉引用以下公开内容基于2014年9月15日提交的德国专利申请No.102014218474.6，在此通过引用将其并入本申请。
本专利技术关于一种投射镜头，用于通过具有来自极紫外光范围(EUV)的操作波长λ的电磁辐射将设置于投射镜头的物平面中的图案成像至投射镜头的像平面上。再者，本专利技术关于一种包含这种投射镜头的投射曝光设备和一种可借助于该投射镜头和该投射曝光设备执行的投射曝光方法。
技术介绍
微光刻投射曝光方法现今主要用于生产半导体组件及其他精细结构化组件，例如微光刻用掩模。这些方法涉及使用载有待成像结构的图案的掩模(掩模母版)，例如半导体组件的层的线图案。该图案设置于在投射镜头的物平面的区域中，介于照明系统与投射镜头之间的投射曝光设备中，并以该照明系统所提供的照明辐射照明。由该图案所改变的辐射作为投射辐射传递穿过投射镜头，该投射镜头将该图案成像至待曝光并涂布有辐射敏感性层且其表面位于该投射镜头的像平面中的基板上，前述像平面关于该物平面光学共轭。为了能生产较以往更精细的结构，近年来已开发出以适度数值孔径操作且实质上通过来本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种投射镜头(PO)，用于通过具有来自极紫外范围(EUV)的操作波长λ的电磁辐射将设置于所述投射镜头的物平面(OS)中的图案成像至所述投射镜头的像平面(IS)中，所述投射镜头包含：多个反射镜(M1‑M6)，其具有设置于所述物平面与所述像平面之间的投射射束路径中的反射镜表面，使得设置于所述物平面中的掩模(M)的图案通过所述反射镜可成像至所述像平面中，其中在平行于扫描方向行进的第一方向上的第一成像比例的绝对值小于在垂直于该第一方向的第二方向上的第二成像比例的绝对值，其特征在于校正由掩模母版位移所造成的像散波前像差部分的动态波前操纵系统。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2014.09.15 DE 102014218474.61.一种投射镜头(PO)，用于通过具有来自极紫外范围(EUV)的操作波长λ的电磁辐射将设置于所述投射镜头的物平面(OS)中的图案成像至所述投射镜头的像平面(IS)中，所述投射镜头包含：多个反射镜(M1-M6)，其具有设置于所述物平面与所述像平面之间的投射射束路径中的反射镜表面，使得设置于所述物平面中的掩模(M)的图案通过所述反射镜可成像至所述像平面中，其中在平行于扫描方向行进的第一方向上的第一成像比例的绝对值小于在垂直于该第一方向的第二方向上的第二成像比例的绝对值，其特征在于校正由掩模母版位移所造成的像散波前像差部分的动态波前操纵系统。2.如权利要求1的投射镜头，其特征在于：该动态波前操纵系统动态地配置，使得由掩模母版位移所造成的像散波前像差部分可在扫描操作过程中校正。3.如权利要求1或2的投射镜头，其特征在于：该动态波前操纵系统具有第一操纵器，其具有设置于该投射射束路径中的可移位反射镜(M1-M6)和相对于参考位置可逆地改变该反射镜的位置的第一致动装置(DR1-DR6)。4.如权利要求3项的投射镜头，其特征在于：该位移包含选自下列组的至少一个位移：该反射镜的轴向位移，其平行于正交地定向至该物平面的参考轴(AX)；该反射镜的横向位移，其在垂直于正交地定向至该物平面的参考轴(AX)的横向方向上；该反射镜的倾斜；具有围绕旋转轴的反射自由形式表面的反射镜的旋转。5.如权利要求3或4的投射镜头，其特征在于：该第一操纵器动态地设计为，使得该反射镜的位移在在一个方向上行进的扫描操作的开始与结束之间的时间间隔中，根据从起始位置经过至少一个中间位置返回该起始位置的可预定义移动路线进行。6.如权利要求3至5中任一项的投射镜头，其特征在于：多个所述反射镜或所有所述反射镜(M1-M6)分别具有相对于参考位置可逆地改变该反射镜的位置的致动装置(DR1-DR6)。7.如前述权利要求中任一项的投射镜头，其特征在于：该波前操纵系统具有第二操纵器，其具有设置于该投射射束路径中并具有反射镜表面(MS6)的可变形反射镜(M6)和用于相对于参考表面形状可逆像散地改变该反射镜表面的表面形状的致动装置(DR6′)。8.如权利要求7的投射镜头，其特征在于：该投射镜头在该物平面与该像平面之间具有至少一个光瞳面(PF2)，且可变形反射镜(M6)设置为光学地接近该光瞳面，其中具有该像散地可变形反射镜表面的该反射镜优选设置为使得在该反射镜表面处，子孔径比SAR在0.5至1之间、特别是在0.7至1的范围内。9.如前述权利要求中任一项的投射镜头，其特征在于：该第一操纵器和/或该第二操纵器动态地设计为使得与该反射镜的光学效应的改变相关的致动移动，可在少于一秒的短时间尺度内、特别是在十分之一秒或数十分之一秒的范围内产生。10.如前述权利要求中任一项的投射镜头，其特征在于：在具有较大绝对值的成像比例与具有较小绝对值的成像比例之间的尺度比在1.1至2.5的范围内、特别是在1.5至2的范围内。11.如前述权利要求中任一项的投射镜头，其特征在于：该投射镜头在该第二方向上的前焦距就绝对值而言小于3m，其中所述前焦距优选小于2m、特别是小于1m。12.如前述权利要求中任一项的投射镜头，其特征在于：该投射镜头设计用于成像在该扫描方向上弯曲的环场(RF)。13.如权利要求12的投射镜头，其特征在于：该环场的曲率定尺寸使得在该像平面上，在该扫描方向上在...

【专利技术属性】
技术研发人员：S安德烈，D戈尔德，T格鲁纳，J劳夫，N瓦布拉，R舍梅，S施耐德，
申请(专利权)人：卡尔蔡司SMT有限责任公司，
类型：发明
国别省市：德国,DE