曝光设备与曝光方法技术
【技术实现步骤摘要】
曝光设备与曝光方法
本专利技术涉及半导体制造
，尤其涉及一种针对触控或者显示用基板曝光的接近式曝光设备。
技术介绍
显示设备已广泛地应用于各领域中，而在现有的显示设备中所采用的显示面板在制作时均需要采用曝光设备对设置于基板上的层结构进行曝光处理。所采用的曝光设备通常为接近式曝光设备。具体地，利用接近式曝光设备在基板上曝光形成预定图案。随着显示面板的分辨率与尺寸的提高，导致显示面板中像素单元的数量较大，从而使得显示面板的制作时间延长，然而，现有的接近式曝光设备每次仅能够针对一个基板进行曝光，导致曝光效率较小，从而无法满足显示面板生产需求。
技术实现思路
为解决前述问题，本专利技术提供一种曝光效率较高的曝光设备。进一步，提供一种曝光效率较高的曝光方法。一种曝光设备，包括光源单元、第一反射单元以及第二反射单元。所述光源单元用于沿第一方向出射第一光线并形成第一光路。所述第一反射单元设置于第一光路上，用于所述第一光线并反射至沿第二方向传输的第二光线，所述第二光线用于针对第一元件进行曝光，所述第二方向不同于所述第一方向。所述第二反射单元与所述第一反射单元间隔第一距离设置于所...
【技术保护点】
一种曝光设备，其特征在于，包括光源单元，用于沿第一方向出射第一光线，并形成第一光路；第一反射单元，设置于第一光路上，用于接收所述第一光线并反射至沿第二方向传输的第二光线，所述第二光线用于针对第一元件进行曝光，所述第二方向不同于所述第一方向；第二反射单元，与所述第一反射单元间隔第一距离设置于所述第一光路上，用于自所述第一反射单元接收沿第一方向输出的所述第一光线，并且反射至所述第二方向形成第三光线，所述第三光线用于针对第二元件进行曝光。
【技术特征摘要】
1.一种曝光设备，其特征在于，包括光源单元，用于沿第一方向出射第一光线，并形成第一光路；第一反射单元，设置于第一光路上，用于接收所述第一光线并反射至沿第二方向传输的第二光线，所述第二光线用于针对第一元件进行曝光，所述第二方向不同于所述第一方向；第二反射单元，与所述第一反射单元间隔第一距离设置于所述第一光路上，用于自所述第一反射单元接收沿第一方向输出的所述第一光线，并且反射至所述第二方向形成第三光线，所述第三光线用于针对第二元件进行曝光。2.根据权利要求1所述的曝光设备，其特征在于，所述曝光设备还包括设置于第一光路上的光线处理单元，所述光线处理单元用于接收所述第一光线并对所述第一光线进行光线均匀化处理，且经均匀化处理后的所述第一光线传输至所述第一反射单元，所述第二方向垂直于所第一方向，所述第一反射单元沿第二方向反射所述第二光线构成第二光路；所述第二反射单元沿第二方向反射所述第三光线形成第三光路，所述第二光路与所述第二光路间隔所述第一距离。3.根据权利要求2所述的曝光设备，其特征在于，所述曝光设备还包括第一透光单元与第二透光单元，所述第一透光单元设置于所述第二光路，用于控制所述第二光线沿预定位置出射；所述第二透光单元设置于所述第三光路，用于控制所述第三光线沿预定位置出射。4.根据权利要求3所述的曝光设备，其特征在于，所述第一反射单元为半穿透半反射元件，所述均匀化处理后的第一光线部分经由所述第一反射单元反射至第二方向形成第二光线，部分沿着第一方向穿透所述第一反射单元传输至所述第二反射单元，第二反射单元为平面镜，用于将自第一方向接收的光线全部反射至第二方向形成第三光线。5.根据权利要求3所述的曝光设备，其特征在于，所述第一反射单元包括半穿透半反射元件与反射元件，所述半穿透半反射元件与所述反射元件不同时位于所述第一光路上，当所述半穿透半反射元件位于所述第一光路时，所述均匀化处理后的第一光线一部分经由所述半穿透半反射元件反射至第二方向形成第二光线，另外一部分沿着第一方向穿透所述半穿透半反射元件传输至所述第二反射单元；当所述反射元件位于所述第一光路时，所述均匀化处理后的第一光线全部经由所述反射元件反射至第二方向形成所述第二光线；当所述半穿透半反射元件与所述反射元件均未位于所述第一光路时，所述均匀化处理后的第一光线全部经由所述第二反射单元反射至第二方向形成所述第三光线。6.根据权利要...
【专利技术属性】
技术研发人员：沈顺杰，宋江江，
申请(专利权)人：武汉华星光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：湖北,42
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