曝光设备制造技术

本发明专利技术提供了一种曝光设备，其包括：多个平面曝光光罩和一个光源，所述光源与所述平面曝光光罩的平面中心的连线垂直于所述平面曝光光罩所在平面，且所述光源到各个平面曝光光罩的平面中心的距离相等。本发明专利技术的曝光设备能够在一个生产节拍周期内使用多块平面曝光光罩对多块基板进行曝光，同时能够全部利用光源提供的曝光光线，从而可以提高曝光效率，同时避免能源的浪费。

Exposure equipment

The invention provides an exposure device, which comprises a plurality of planar exposure mask and a plane light source, the center of the light source and the planar exposure mask line perpendicular to the plane of plane exposure mask, equal distance plane center and the light source to each of the planar exposure mask. The exposure apparatus of the present invention to a plurality of substrates are exposed using a plurality of planar exposure mask in a production cycle, and can use all the light exposure light source is provided, which can improve the efficiency of exposure, and to avoid the waste of energy.

【技术实现步骤摘要】
曝光设备
本专利技术属于半导体加工
，具体地讲，涉及一种曝光设备。
技术介绍
液晶显示器(LiquidCrystalDisplay，LCD)由于具有画面稳定、图像逼真、消除辐射、节省空间以及节省能耗等优点，现已占据了平面显示领域的主导地位。TFT-LCD(ThinFilmTransistor-LiquidCrystalDisplay，薄膜晶体管液晶显示器)是目前主流的液晶显示器，而薄膜晶体管阵列基板(TFT-ThinFilmTransistor)以及彩膜基板是其显示面板的主要构成部件。阵列基板以及彩膜基板的制备效率往往关系着整个显示装置的生产节拍。在阵列基板以及彩膜基板的制备过程中，光刻工艺是非常重要的。目前的光刻工艺通常包括：涂敷光刻胶、前烘、曝光、显影以及后烘。其中，涂敷光刻胶是在前工序成膜后的基板上涂敷光刻胶；前烘是预热光刻胶，以及去除光刻胶的水分，增加光刻胶与基板之间的附着力；曝光是采用曝光光线通过掩膜板(或称光罩)照射在光刻胶上，将光刻胶感光；显影是通过显影液将感光部分的光刻胶去除掉，从而形成所需要的图案；后烘是将图案中未感光的光刻胶固化，同时增加与基板之间的附着力。现有技术中的曝光设备主要包括用于提供平行曝光光线的光源、掩膜板以及曝光机台等。在曝光过程中，涂覆有光刻胶的基板放置在曝光机台上，光源提供的平行曝光光线经过掩膜板后垂直照射在基板上，使其形成与掩膜板一致的图案。但是在现有的曝光设备中，在一个生产节拍周期内只能使用一块掩膜板对一块基板进行曝光；同时，光源提供的曝光光线仅仅只有很少的一部分被利用，其他大部分光线都是没有得到充分利用而损失掉。因此，现有技术中的曝光设备不但曝光效率低下，而且造成了能源的浪费。
技术实现思路
为了解决上述现有技术存在的问题，本专利技术的目的在于提供一种在提高曝光效率的同时，还能避免能源浪费的曝光设备。根据本专利技术的一方面，提供了一种曝光设备，其包括：多个平面曝光光罩和一个光源，所述光源与所述平面曝光光罩的平面中心的连线垂直于所述平面曝光光罩所在平面，且所述光源到各个平面曝光光罩的平面中心的距离相等。进一步地，所述多个平面曝光光罩彼此对应相连接，以合围形成一容置空间，所述光源设置于所述容置空间内。进一步地，所述多个平面曝光光罩为至少一种多边形平面曝光光罩。进一步地，所述多边形平面曝光光罩的形状为正多边形。进一步地，所述多个平面曝光光罩被制作成具有磁性，使所述多个平面曝光光罩在连接时通过磁性相互吸合。进一步地，彼此连接的两个平面曝光光罩之间通过结合件相连，所述结合件为卡榫结构、粘扣带结构或磁性体。进一步地，所述曝光设备的外观形状选自正四面体、正六面体、正八面体、正十二面体、正二十面体及巴克球体中的一种。进一步地，所述光源为球面光源，且所述光源提供给各个平面曝光光罩的光量相同。本专利技术的有益效果：本专利技术的曝光设备能够在一个生产节拍周期内使用多块平面曝光光罩对多块基板进行曝光，同时能够全部利用光源提供的曝光光线，从而可以提高曝光效率，同时避免能源的浪费。附图说明通过结合附图进行的以下描述，本专利技术的实施例的上述和其它方面、特点和优点将变得更加清楚，附图中：图1是根据本专利技术的实施例的曝光设备的立体示意图；图2是根据本专利技术的实施例的曝光设备的立体分解示意图；图3是根据本专利技术的另一实施例的曝光设备的立体示意图。具体实施方式以下，将参照附图来详细描述本专利技术的实施例。然而，可以以许多不同的形式来实施本专利技术，并且本专利技术不应该被解释为限制于这里阐述的具体实施例。相反，提供这些实施例是为了解释本专利技术的原理及其实际应用，从而使本领域的其他技术人员能够理解本专利技术的各种实施例和适合于特定预期应用的各种修改。在附图中，为了清楚器件，夸大了层和区域的厚度。为了在一个生产节拍周期内使用多块掩膜板(或称曝光光罩)对多块基板进行曝光；同时，能够全部利用光源提供的曝光光线，本专利技术提供了一种曝光设备，该曝光设备包括：多个平面曝光光罩和一个光源，所述光源与所述平面曝光光罩的平面中心的连线垂直于所述平面曝光光罩所在平面，且所述光源到各个平面曝光光罩的平面中心的距离相等。以下将对上述的本专利技术提供的曝光设备进行详细说明。图1是根据本专利技术的实施例的曝光设备的立体示意图。参照图1，根据本专利技术的实施例的曝光设备1包括：平面曝光光罩100和光源200。在本实施例中，优选地，曝光设备1的外观形状为正六面体。在此基础上，平面曝光光罩100的形状为正方形，并且平面曝光光罩100的数量为六个。此外，进一步限定地，在本实施例中，光源200的数量为一个。光源200与所述平面曝光光罩100的平面中心的连线垂直于所述平面曝光光罩100所在平面，并且光源200到各个平面曝光光罩100的平面中心的距离相等。这样，在利用这六个平面曝光光罩100分别对各自对应的基板进行曝光时，可使光源200辐射到每个基板上的光量相同。优选地，光源200为球面光源，且光源200提供给各个平面曝光光罩100的光量相同。继续参照图1，在本实施例中，六个平面曝光光罩100彼此对应相连接，以合围形成一容置空间，光源200设置于该容置空间内。当然，作为本专利技术的另一实施方式，六个平面曝光光罩100可以彼此不连接；当这六个平面曝光光罩100不连接时，可各自被固定，且六个平面曝光光罩100彼此不连接而合围形成一正方体，光源200被设置于合围形成的正方体内。图2是根据本专利技术的实施例的曝光设备的立体分解示意图。参照图1和图2，彼此连接的两个平面曝光光罩100之间通过结合件110彼此相连接，其中该结合件110设置于每个平面曝光光罩100的侧面。在本实施例中，该结合件110的结构为卡榫结构，即一公卡榫及一母卡榫的组合，通过使用该卡榫结构，使六个平面曝光光罩100相互组合成如图1所示的多面体曝光设备1。作为本专利技术的其他实施方式，该结合件110可以选用粘扣带结构，或者使用具有磁性材料的结构，以将六个平面曝光光罩100相互组合成如图1所示的多面体曝光设备1。此外，在本专利技术的其他实施方式中，可以在制作各个平面曝光光罩100时，可以掺入磁性材料来制作各个平面曝光光罩100，这样在组合各个平面曝光光罩100时，彼此连接的两个平面曝光光罩100之间无需再设置结合件110，可以利用平面曝光光罩100本身具有的磁性，使六个平面曝光光罩100相互组合成如图1所示的多面体曝光设备1。此外，以上描述了外观形状为正方体的多面体曝光设备1，但本专利技术并不限制于此，例如多面体曝光设备1的外观形状还可以是正四面体、正八面体、正十二面体、正二十面体或者其他合适的正多面体形状，对应地，每个平面曝光光罩100的形状可以是正三角形或正五边形等。另外，在上述实施例的多面体曝光设备1中，每个平面曝光光罩100的形状都相同，但本专利技术并不限制于此，例如可以由具有不同形状的多个平面曝光光罩100构成多面体曝光设备1，具体在下面描述。图3是根据本专利技术的另一实施例的曝光设备的立体示意图。参照图3，例如，可以选择二十个正六边形的平面曝光光罩100A和十二个正五边形的平面曝光光罩100B相互组合成一正三十二面体的巴克球体(BuckyBall)，而光源(未示出)设置于外观形状呈巴克球体的曝光设备1A中。多个平面曝光光罩100A和多个平面曝光本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种曝光设备，其特征在于，包括：多个平面曝光光罩和一个光源，所述光源与所述平面曝光光罩的平面中心的连线垂直于所述平面曝光光罩所在平面，且所述光源到各个平面曝光光罩的平面中心的距离相等。

【技术特征摘要】
1.一种曝光设备，其特征在于，包括：多个平面曝光光罩和一个光源，所述光源与所述平面曝光光罩的平面中心的连线垂直于所述平面曝光光罩所在平面，且所述光源到各个平面曝光光罩的平面中心的距离相等。2.根据权利要求1所述的曝光设备，其特征在于，所述多个平面曝光光罩彼此对应相连接，以合围形成一容置空间，所述光源设置于所述容置空间内。3.根据权利要求1或2所述的曝光设备，其特征在于，所述多个平面曝光光罩为至少一种多边形平面曝光光罩。4.根据权利要求3所述的曝光设备，其特征在于，所述多边形平面曝光光罩的形状为正多边形。5.根据权...

【专利技术属性】
技术研发人员：朱美娜，
申请(专利权)人：深圳市华星光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：广东,44