一种制备亲疏图案的光刻方法技术

本发明专利技术公开了一种制备亲疏图案的光刻方法，包括以下步骤：首先在基底上涂覆或喷涂带有图案的图案连接层，其次涂覆、喷涂或旋涂表面涂层，最后由紫外光或太阳光或可见光或红外光进行照射，得到亲疏图案；所述的基底的材料选自玻璃、金属、合金、不锈钢、墙体、纸张、棉织物中的任一种；所述的图案连接层为具有图案的有机硅胶或硅氧烷；所述表面涂层为尺寸为10nm～10μm微纳二氧化钛颗粒或表面修饰有低表面能物质的微纳二氧化钛颗粒。本发明专利技术不需要光掩模，制备方法简单，扩大了光刻技术的使用范围，并且节省了能源，并可以制备任意尺寸的图案，实现低表面能物质的自供应，从而延长了其使用寿命，具有广泛的应用前景。

【技术实现步骤摘要】
一种制备亲疏图案的光刻方法
：本专利技术涉及一种制备亲疏图案的方法，具体涉及一种制备亲疏图案的光刻方法。
技术介绍
：亲疏图案是指由亲水区和疏水区组成的图案，它在微通道、胶版印刷、细胞生长和筛选、表面粘附性的控制等都有着广泛的应用前景。亲疏图案的制备方法包括剥离、喷墨印刷、激光刻蚀、紫外光刻等方法，其中紫外光刻方法是应用最为广泛的一种。紫外光刻技术是指在紫外光照作用下，借助光刻胶将光掩膜版上的图形转移到基片上的技术。在此种紫外光刻技术中，光掩模版是必须的。然而，光掩模版的使用在一定程度上使光刻过程变得复杂，并且限制了光刻技术的使用范围和图形的大小。另外，如何利用太阳光的曝光技术也是人们所需解决的难题之一。
技术实现思路
：本专利技术的目的是提供一种制备亲疏图案的光刻方法，该方法不需要光掩模，制备方法简单，扩大了光刻技术的使用范围，并且可以直接利用紫外或太阳光进行曝光来实现，节省了能源，并可以制备任意尺寸的图案，不受尺寸限制。本专利技术是通过以下技术方案予以实现的：一种制备亲疏图案的光刻方法，该方法包括以下步骤：首先在基底上涂覆或喷涂一层带有图案的图案连接层，其次涂覆、喷涂或旋涂一层表面涂本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种制备亲疏图案的光刻方法，其特征在于，该方法包括以下步骤：首先在基底上涂覆或喷涂一层带有图案的图案连接层，其次涂覆、喷涂或旋涂一层表面涂层，最后由紫外光或太阳光或可见光或红外光进行照射，得到亲疏图案；所述的基底的材料选自玻璃、金属、合金、不锈钢、墙体、纸张、棉织物中的任一种；所述的图案连接层为具有图案的有机硅胶或硅氧烷；所述表面涂层为尺寸为10nm～10μm微纳二氧化钛颗粒或表面修饰有低表面能物质的微纳二氧化钛颗粒；所述的低表面能物质为氟硅烷或硅氧烷。

【技术特征摘要】
1.一种制备亲疏图案的光刻方法，其特征在于，该方法包括以下步骤：首先在基底上涂覆或喷涂一层带有图案的图案连接层，其次涂覆、喷涂或旋涂一层表面涂层，最后由紫外光或太阳光或可见光或红外光进行照射，得到亲疏图案；所述的基底的材料选自玻璃、金属、合金、不锈钢、墙体、纸张、棉织物中的任一种；所述的图案连接层为具有图案的有机硅胶或硅氧烷；所述表面涂层为尺寸为10nm～10μm微纳二氧化钛颗粒或表面修饰有低表面能物质的微纳二...

【专利技术属性】
技术研发人员：朱艳青，徐刚，史继富，
申请(专利权)人：中国科学院广州能源研究所，
类型：发明
国别省市：广东,44