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本发明公开了一种曝光设备与曝光方法。曝光设备包括光源单元、光线处理单元、第一反射单元与第二反射单元。所述光源单元用于沿第一方向出射第一光线并形成第一光路。所述第一反射单元设置于第一光路上用于接收第一光线并反射至沿第二方向传输的第二光线，所述...
该专利属于武汉华星光电技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过武汉华星光电技术有限公司授权不得商用。

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