光刻机照明均匀性校正装置和校正方法制造方法及图纸
【技术实现步骤摘要】
光刻机照明均匀性校正装置和校正方法
本专利技术涉及光刻机照明系统，特别是一种光刻机照明系统的照明均匀性校正装置和校正方法。
技术介绍
在光刻机中，照明系统的作用是将激光器出射的光束进行一些调整，为掩膜提供高质量的照明场，从而保证掩膜图形通过投影物镜高质量的成像至硅片面上。均匀的照明场能够降低光刻工艺因子，提高整个光刻系统的分辨率。但随着光刻技术的不断发展，特征尺寸的不断减小，光刻对照明系统的均匀性要求也随之不断提高，如，90nm光刻机中的照明系统的均匀性要求在1.2％左右，而65nm以及45nm光刻机中的照明系统的不仅要求均匀性达到0.2％，这样仅仅使用传统的匀光器件以及匀光方法已经很难满足均匀性要求，因此为了达到照明系统的均匀性要求，需要在系统中增加照明均匀性校正装置。在先技术[1](US7173688)描述了一种手指式的均匀性校正装置。如图2所示，该装置在照明视场290扫描方向的两边对称排布着多个校正单元225，每个校正单元均呈矩形平板结构，并且均可独立的沿视场的扫描方向插入视场边缘以遮挡部分照明光，达到调整照明视场在扫描方向的积分能量分布均匀性的目的。该方法...
【技术保护点】
一种光刻机照明均匀性校正装置，其特征在于该装置包括基座(41)、上校正模块(42)和下校正模块(43)，所述的上校正模块(42)和下校正模块(43)具有相同结构,分别固定于所述的基座(41)的上部与下部，并相对于所述基座(41)的中心平面对称分布；光刻机照明光场(290)垂直于该中心平面，两平面的交点为坐标系原点，垂直于所述光刻机照明光场(290)为光轴方向，即z轴，垂直于中心平面为光刻机照明系统的扫描方向，即y轴，x轴为光刻机照明系统的非扫描方向；所述的上校正模块(41)包括上校正模块基板(51)、柔性薄板(54)、上导杆阵列(53)、上导向模块阵列(55)、上驱动源阵列...
【技术特征摘要】
1.一种光刻机照明均匀性校正装置，其特征在于该装置包括基座(41)、上校正模块(42)和下校正模块(43)，所述的上校正模块(42)和下校正模块(43)具有相同结构,分别固定于所述的基座(41)的上部与下部，并相对于所述基座(41)的中心平面对称分布；光刻机照明光场(290)垂直于该中心平面，两平面的交点为坐标系原点，垂直于所述光刻机照明光场(290)为光轴方向，即z轴，垂直于中心平面为光刻机照明系统的扫描方向，即y轴，x轴为光刻机照明系统的非扫描方向；所述的上校正模块(41)包括上校正模块基板(51)、柔性薄板(54)、上导杆阵列(53)、上导向模块阵列(55)、上驱动源阵列(57)、上驱动源安装支架(52)和上连接板(56)；所述的上导向模块阵列(55)的固定部件与所述的上校正模块基板(51)固定，所述的上驱动源阵列(57)通过所述的上驱动源安装支架(52)固定在所述的上校正模块基板(51)上，所述的上导杆阵列(53)依次沿光刻机照明光场(290)的非扫描方向排布在光刻机照明光场(290)的扫描方向的一侧，所述的上导杆阵列(53)的所有导杆的一端均与所述的柔性薄板(54)的横截面固定，另一端依次与对应位置的上导向模块阵列(55)的水平移动部件的上表面固定，所述的上驱动源阵列(57)通过所述的上连接板(56)依次与对应位置的上导向模块阵列(55)的水平移动部件的下表面连接，为其提供相互独立的动力源用以驱动所述的上导杆阵列(53)沿扫描方向移动，所述的上导杆阵列(53)中每个导杆带动所述柔性薄板(54)横截面上对应固定点沿扫描方向移动，使所述的柔性薄板(54)产生挠曲变形，并沿扫描方向运动进入光刻机照明光场(290)以遮挡部分照明光；所述的上校正模块(42)中的柔性薄板与所述的下校正模块(43)中的柔性薄板设置在同一平面内。2.根据权利要求1所述的的光刻机照明均匀性校正装置，其特征在于所述的柔性薄板(54)的横截面为槽形、半圆形、或部分椭圆形。3.根据权利要求1所述的的光刻机照明均匀性校正装置，其特征在于所述的上导向模块阵列(55)与所述的下校正...
【专利技术属性】
技术研发人员：程伟林，张方，杨宝喜，黄惠杰，
申请(专利权)人：中国科学院上海光学精密机械研究所，
类型：发明
国别省市：上海,31
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