【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于光学
,主要应用在基于数字微镜阵列(DigitalMicromirrorDevices,DMD)的光刻系统中,是一种光强不均匀性的测量与校正方法。
技术介绍
数字微镜阵列(DMD)具有较高的分辨率、对比度、灰度等级和响应速度等优点,不仅已成功地应用于数字投影设备,近几年其应用领域得到较大地扩展,其中包括数字光刻。基于DMD的数字光刻系统是近几年兴起的新型微细加工设备,它被应用于诸多加工领域,包括印制电路板、微光学元件、3D模型等。该系统主要包括照明光源、数字微镜(DMD)以及投影光刻物镜;其中照明光源的均匀性直接影响光刻图案的曝光质量,为了保证较好的刻写线条,照明光源的均匀度指标一般在95%以上;目前,对于高压汞灯、激光光源和LED光源,普遍从光学方法上进行匀光,比如使用匀光棒、微透镜阵列等,但是系统的结构复杂,同时系统的装调精度要求较高,因此很难达到所要求的均匀度指标。
技术实现思路
本专利技术要解决的技术问题是提供一种用于扫描式数字光刻机的光强不均匀性测量与校正方法,以解决传统光学校正技术所造成的系统结构复杂以及系统装调精度要求高等问题。本专利技术的技术方案是采用以下步骤实现:1、光强不均匀性的测量1)利用积分球对CCD相机标定,以去除CCD随机噪声对测量结果的影响;2)将DMD物面分为N×N的矩形区域阵列;3)利用已标定的CCD相机在光刻系统的像面位置B次采集每一个矩形区域的光强信息(灰度值),取B次采集结果的平均值,去除随机误差的影响,得到每一个矩形区 ...
【技术保护点】
一种用于数字光刻系统的光强不均匀性测量与校正方法,其特征在于由以下步骤实现:1)光强不均匀性的测量(1)利用积分球对CCD相机标定,以去除CCD随机噪声对测量结果的影响;(2)将DMD物面分为N×N的矩形区域阵列;(3)利用已标定的CCD相机在光刻系统的像面位置B次采集每一个矩形区域的光强信息,取B次采集结果的平均值,去除随机误差的影响,得到每一个矩形区域的光强分布;(4)将区域的光强分布图合并,得到像面的整体光强分布图;(5)将所合并的像面光强分布图,根据光刻物镜的放大倍率的倒数1/M,放大至DMD物面实际的矩形区域尺寸,得到DMD面上的整体光强分布;2)光强不均匀性的校正(1)各行叠加后,获取一维光强分布;(2)选取基准值对步骤(1)中叠加后的一维分布,取其最小值作为基准值;(3)获取所需关闭的像素(4)获取照明校正板。
【技术特征摘要】
1.一种用于数字光刻系统的光强不均匀性测量与校正方法,其特征在于由
以下步骤实现:
1)光强不均匀性的测量
(1)利用积分球对CCD相机标定,以去除CCD随机噪声对测量结果的影响;
(2)将DMD物面分为N×N的矩形区域阵列;
(3)利用已标定的CCD相机在光刻系统的像面位置B次采集每一个矩形区
域的光强信息,取B次采集结果的平均值,去除随机误差的影响,得到每一个
矩形区域的光强分布;
(4)将区域的光强分布图合并,得到像面的整体光强分布图;
(5)将所合并的像面光强分布图,根据光刻物镜的放大倍率的倒数1/M,
放大至DMD物面实际的矩形区域尺寸,得到DMD面上的整体光强分布;
2)光强不均匀性的校正
(1)各行叠加后,获取一维光强分布;
(2)选取基准值
对步骤(1)中叠加后的一维分...
【专利技术属性】
技术研发人员:姜元清,
申请(专利权)人:长春长光天辰光电科技有限公司,
类型:发明
国别省市:吉林;22
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