一种用于椭偏测量中的光强调节方法和装置制造方法及图纸

本发明专利技术涉及一种用于椭偏测量装置中光强调节的装置，包括在椭偏测量装置中还包括一线性偏振器１２、用于固定线性偏振器１２的中空的偏振器旋转台１３、一数据采集器４３、一控制箱４１以及一电子计算机４２；线性偏振器１２放置在椭偏测量装置入射光轴上，处于线性起偏器１４前，并与线性起偏器１４的方位角有一个差θ（０°≤θ≤９０°）。在进行光强调节时，由电子计算机４２发出指令给控制箱４１，控制箱４１驱动偏振器旋转台１３带动线性偏振器１２围绕入射光轴旋转，从而改变线性偏振器１２和线性起偏器１４的方位角的夹角θ。在进行测量时，始终保持θ不变。该发明专利技术提供了对光强进行连续的大范围内的调节，且结构简单。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种对探测光束的光强进行调节的方法和装置，特别涉及一种在 椭偏测量装置中对探测光强进行调节的方法和装置。
技术介绍
椭偏测量术是用于纳米薄膜表征的重要方法之一，它利用光波经表面反射前 后偏振态的变化来探测样品的信息，如折射率、厚度、表面粗糙度等。该技术具 有两个显著的优点(1 )对样品无扰动、无破坏性，因此可进行实时测量、离 体乃至在体测量；(2 )可达到原子层量级的测量灵敏度。因此，自从十九世纪 该方法建立以来，尤其是二十世纪六十年代中期随着微电子技术和自动化技术的 发展，该方法己广泛应用于微电子工业、表面材料和生物医学等领域。可参考文 献(1): R. M. A. AzzamandN. M. Bashara， Ellipsometry and Polarized Light, 1st edition, Amsterdam: North-Holland publishing company, 1977,及参考文 献(2): Harland G. Tompkins and Eugene A. Irene, Handbook of ellipsometry, NewYo本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于椭偏测量装置中光强调节的装置，包括：　　　　一入射旋转臂（１），该入射旋转臂（１）可围绕中心轴进行旋转，用于改变入射光轴与样品（２０）之间的夹角；　　　　一样品旋转台（２）和出射旋转臂（３），入射旋转臂（１）的末端与出射旋转臂（３）的前端重叠在一起，样品旋转台（２）安置在其上并通过样品旋转台（２）的轴将三者连接，样品（２０）安装在样品旋转台（２）上，样品垂直于入射面，并且其表面通过中心轴；　　　　一用于可进行波长扫描的、准单色光输出的单色光发生装置（１０），该输出的光束用于照明待测样品；　　　　一准直透镜（１１），用于将单色光发生装置（１０）产生的光进行准直、扩束；　　　　一用于将探测...

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：孟永宏，靳刚，
申请(专利权)人：中国科学院力学研究所，
类型：发明
国别省市：11[中国|北京]