简易光刻机制造技术

本发明专利技术涉及一种简易光刻机,包括箱体，箱体顶部设置有盒体，盒体内设置有电源，箱体一侧设置铰接有开关门，箱体内部上侧设置有高压汞灯，箱体内底部设置有电动转盘，高压汞灯、电动转盘均与电源电性连接，箱体下部设置有进风口，上部设置有出风口，开关门上设置有观察窗和把手，观察窗上设置有绿基玻璃，出风口设置有与电源电性连接的散热风扇，箱体内部上侧沿横向设置有卷轴，卷轴上对称设置有两个绕线轴围，绕线轴围上缠绕有悬挂软线，悬挂软线一端与绕线轴围相连接，另一端与高压汞灯相连接，本发明专利技术结构简单，设计合理，操作使用方便，简易、安全和曝光均匀。

【技术实现步骤摘要】
简易光刻机
本专利技术涉及一种简易光刻机。
技术介绍
光刻机又称掩模对准曝光机，常用于电子工艺中硅片、电路版的曝光工艺工序。光刻机通常以高压汞灯作为光源，通过光路优化得到均匀稳定的以紫外光为主的光线对光刻胶进行曝光。商品化的光刻机的体积庞大而且价格昂贵，一般的光刻机售价都在十几万元以上，因此对于普通精度的曝光（>1μm），使用简易的光刻机即可满足光刻要求。目前除采用商品化光刻机进行曝光以外，对于简单的曝光，通常采用汞灯直接照射的方法。直接照射法的曝光方式有几个明显的缺点，首先是操作人员曝露在强紫外光的环境中，容易受到紫外光的照射伤害，使用人也有受到汞灯高压模块电击的危险；其次是对于不同样品的曝光强度很难调整，且有时很难重现之前的曝光强度；再次是曝光时对样品的光照很难达到均匀，基片上不同地方的光照不均匀，显影后效果不佳；最后是直接照射的散热性能不佳，有时会因为过近的曝光距离而烤伤掩膜。所以，设计一种简易、安全和曝光均匀的光刻机来解决上述问题就显得十分必要。
技术实现思路
本专利技术的目的是针对以上不足之处，提供了一种简易光刻机。本专利技术解决技术问题所采用的方案是，一种简易光刻机，包本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种简易光刻机，其特征在于：包括箱体，箱体顶部设置有盒体，盒体内设置有电源，箱体一侧设置铰接有开关门，箱体内部上侧设置有高压汞灯，箱体内底部设置有电动转盘，高压汞灯、电动转盘均与电源电性连接，箱体下部设置有进风口，上部设置有出风口。

【技术特征摘要】
1.一种简易光刻机，其特征在于：包括箱体，箱体顶部设置有盒体，盒体内设置有电源，箱体一侧设置铰接有开关门，箱体内部上侧设置有高压汞灯，箱体内底部设置有电动转盘，高压汞灯、电动转盘均与电源电性连接，箱体下部设置有进风口，上部设置有出风口。2.根据权利要求1所述的简易光刻机，其特征在于：所述开关门上设置有观察窗和把手，观察窗上设置有绿基玻璃。3.根据权利要求1所述的简易光刻机，其特征在于：...

【专利技术属性】
技术研发人员：王伟，白瑞光，林萍，
申请(专利权)人：福州大学，
类型：发明
国别省市：福建,35