一种补偿镜头畸变造成的套刻误差的方法技术

本发明专利技术提供一种补偿光刻机镜头畸变造成的套刻误差的方法。本发明专利技术的方法包括，制作基准光刻版版图；制作基准硅片；在需要补偿镜头畸变的光刻机上进行光刻；测量镜头畸变套刻误差；将镜头畸变套刻误差拟合为高阶多项式，绘出镜头畸变拟合曲线；利用镜头畸变拟合曲线对产品光刻版版图的图形位置进行重新计算、矫正和布图。本发明专利技术在现有传统光刻技术的基础上，基于光刻机镜头畸变的测量数据以及拟合曲线，对光刻版上的图形位置重新进行计算和矫正，从而对镜头畸变引起的硅片上的套刻误差进行补偿，提升光刻后的套刻精度。

【技术实现步骤摘要】
一种补偿镜头畸变造成的套刻误差的方法
本专利技术涉及集成电路装备制造
，特别涉及一种补偿光刻机镜头畸变造成的套刻误差的方法。
技术介绍
伴随着集成电路的关键尺寸越来越小，现有的光学光刻平台面临越来越多的挑战，光学光刻平台所面临的重要挑战之一是投影物镜的制造规格越来越高，制造技术越来越难。制造规格的提高是由于关键尺寸越来越小，导致工艺集成对光刻关键尺寸和套刻测量结果的控制精度要求越来越高。这些精度控制与光刻工艺技术及光刻机硬件指标密切相关。其中光刻机投影物镜的指标如像差、像散（Astigmatism）等与关键尺寸控制相关，畸变(Distortion)等对套刻精度控制有影响。镜头畸变，实际上是光学透镜由于非理想球面形态造成的透视失真，这种失真对于光刻的成像质量是非常不利的，会造成光刻版上的图形被投影到硅片上之后其位置发生改变。畸变是光学透镜的固有特性，即使光刻机投影物镜的光学设计以及用料考究，利用镜片组的优化设计、选用高质量的材料如氟化钙来制造镜片等方法可以使投影物镜的畸变降到很低的程度，但是完全消除畸变是不可能的，目前最高质量的镜头在极其严格的条件下测试，在镜头的不同位置也会产生本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种补偿光刻机镜头畸变造成的套刻误差的方法，其特征在于，包括如下步骤：步骤S01：制作基准光刻版版图；?步骤S02：使用基准光刻机和所述的基准光刻版制作基准硅片；步骤S03：利用所述的基准光刻版和所述的基准硅片在需要补偿镜头畸变的光刻机上进行光刻；步骤S04：测量所述的需要补偿镜头畸变的光刻机与所述的基准光刻机之间的镜头畸变造成的套刻误差；步骤S05：将所述的镜头畸变造成的套刻误差拟合为高阶多项式，绘出镜头畸变拟合曲线；步骤S06：利用所述的镜头畸变拟合曲线对产品光刻版版图的图形位置进行重新计算、矫正和布图，从而对镜头畸变引起的硅片上的套刻误差进行补偿。

【技术特征摘要】
1.一种补偿光刻机镜头畸变造成的套刻误差的方法，包括：步骤S01：制作基准光刻版版图；其特征在于，还包括：步骤S02：使用基准光刻机和所述的基准光刻版制作基准硅片；步骤S03：利用所述的基准光刻版和所述的基准硅片在需要补偿镜头畸变的光刻机上进行光刻；步骤S04：测量所述的需要补偿镜头畸变的光刻机与所述的基准光刻机之间的镜头畸变造成的套刻误差；步骤S05：将所述的镜头畸变造成的套刻误差拟合为高阶多项式，绘出补偿前的拟合曲线；步骤S06：利用所述的补偿前的拟合曲线对产品光刻版版图的图形位置进行重新计算、矫正和布图，从而对镜头畸变引起的硅片上的套刻误差进行补偿。2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述基准光刻版的版图图形是一个沿X方向和Y方向的阵列。3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述的镜头畸变造成的套刻误差是通过测量所述需要补偿镜头畸变的光刻机与所述基准光刻机在曝光场内不同区域的套刻差异，再去除需要补偿镜头畸变的光刻机和基准光刻机的X、Y方向的步进误差和其它干扰因素后得到的。4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述补偿前的拟合曲线为高阶多项式，其表述的是曝光场中...

【专利技术属性】
技术研发人员：袁伟，
申请(专利权)人：上海集成电路研发中心有限公司，
类型：发明
国别省市：