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本发明提供一种补偿光刻机镜头畸变造成的套刻误差的方法。本发明的方法包括，制作基准光刻版版图；制作基准硅片；在需要补偿镜头畸变的光刻机上进行光刻；测量镜头畸变套刻误差；将镜头畸变套刻误差拟合为高阶多项式，绘出镜头畸变拟合曲线；利用镜头畸变拟合...
该专利属于上海集成电路研发中心有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海集成电路研发中心有限公司授权不得商用。

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