【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种用于光刻系统的可程控照射器及一种藉由可程控照射器增进照射场均匀性的方法。
技术介绍
光刻系统具有其基本组成，其中包含具光源的照射器、图案化标线片、投射透镜及感光(例如光阻材料涂覆的)晶片。照射器藉光源的光照射标线片。光经标线片透射或反射，然后藉由投射透镜成像于感光晶片。感光晶片经处理后，形成一图案于感光晶片上。使用许多不同的标线片，重复光刻曝光过程及后曝光过程，藉此于晶片上形成定义集成电路的半导体结构。·光刻系统需对感光晶片所明确定义的区域(亦即“曝光区”)提供精确量的曝光能量(亦即“曝光量”)。传统的光刻系统通常包含机械叶片所构成的快门来决定曝光量，其中机械叶片放置于照射器的光学路径上。机械光圈亦被用于定义曝光区的尺寸。光刻系统保持正确的曝光量，使光刻过程具有最大过程窗口是非常重要的，因为最大过程窗口与分辨率及焦距深度息息相关。保持适当曝光量的能力取决于快门的定时，特别是快门切换，即快门的关/开/关的转换定时。对于低曝光的需求而言，所需的快门开启时间与快门叶片切换所需时间相当甚至是更短。目前尚无有效的方法来控制快门叶片的开关时间，除非能大大提...
【技术保护点】
一种可程控照射器，用于光刻系统，用于在光学路径上照射具有标线片区的标线片，该可程控照射器包括：光源，产生光化光；第一光学系统，被配置成接收来自该光源的该光化光，该第一光学系统具有至少一个均匀化元件，被配置成从该接收的光化光形成均匀光化光；可程控微反射镜装置，具有微反射镜阵列，其中每一微反射镜皆具有可调取向，该可程控微反射镜装置被安排成根据该可调微反射镜的取向的选定配置，接收并且选择性地反射该均匀光化光；控制单元，可操作地连接到该可程控微反射镜装置，并被配置成控制一个或多个该可调微反射镜的取向；及第二光学系统，被安排成沿着该光学路径接收该选择性反射的均匀光化光，并形成照射场，...
【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：B·兹拉塔诺夫，A·M·霍利鲁克，
申请(专利权)人：超科技公司，
类型：发明
国别省市：
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