光刻设备、器件制造方法以及校准位移测量系统的方法技术方案

本发明专利技术公开了光刻设备、器件制造方法、以及校准位移测量系统的方法。本发明专利技术进一步公开了利用干涉测量的位移测量系统，该系统能够操作以通过使用测量辐射束和反射器测量光刻设备的可移动物体在第一方向上的位移。反射器是基本上平面的并且基本上垂直于第一方向。使用可移动物体的角位置的第一组测量值获得校准。测量束中的相位偏移被实现。获得可移动物体的角位置的第二组测量值。基于第一和第二组测量值校准利用干涉测量的位移测量系统。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及。
技术介绍
光刻设备是一种将所需图案应用到衬底上，通常是衬底的目标部分上的机器。例如，可以将光刻设备用在集成电路(IC)的制造中。在这种情况下，可以将可选地称为掩模或掩模版(reticle)的图案形成装置用于生成将要形成在所述IC的单层上的电路图案。可以将该图案转移到衬底(例如，硅晶片)上的目标部分(例如，包括一部分管芯、一个或多个管芯)上。图案的转移是通过把图案成像到提供到衬底上的辐射敏感材料(抗蚀剂)层上进行的。通常，单独的衬底将包含被连续形成图案的相邻目标部分的网络。公知的光刻设备包括所谓的步进机，在所述步进机中，通过将全部图案一次曝光到所述目标部分上来 辐射每一个目标部分；以及所谓的扫描器，在所述扫描器中，通过辐射束沿给定方向(“扫描”方向)扫描所述图案、同时沿与该方向平行或反向平行的方向扫描所述衬底来福射每一个目标部分。也可能通过将图案压印(imprinting)到衬底的方式从图案形成装置将图案转移到衬底上。曾有提议将光刻投影设备中的衬底浸没到具有相对高的折射率的液体(例如水)中，以便填充投影系统的最终元件和衬底之间的空间。在一实施例中，液体是蒸馏水，但是本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光刻设备，包括：可移动物体，所述可移动物体沿至少第一和第二方向是可移动的，所述第一和第二方向相互正交，并且所述可移动物体能够围绕垂直于第一和第二方向的轴线旋转；定位系统，能够操作以沿至少第一和第二方向移动可移动物体；利用干涉测量的位移测量系统，所述利用干涉测量的位移测量系统能够操作以通过使用测量辐射束测量可移动物体在第一方向上的位移和可移动物体围绕所述轴线的角位置，所述利用干涉测量的位移测量系统包括反射器，所述反射器是基本上平面的并且基本上垂直于第一方向；控制系统，能够操作以控制定位系统和利用干涉测量的位移测量系统，以获得可移动物体的角位置的第一组测量值、实现测量束的相位偏移以及获得可移动...

【技术特征摘要】
...

【专利技术属性】
技术研发人员：M·J·杰森，A·斯克鲁德尔，
申请(专利权)人：ASML荷兰有限公司，
类型：发明
国别省市：