【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及光刻领域，尤其涉及深紫外光刻照明系统中一套调整相干因子的系统。
技术介绍
光学投影光刻是利用光学投影成像的原理，将掩模版上的集成电路(IC)图形以分步重复或步进扫描曝光的方式将高分辨率图形转移到涂胶硅片上的光学曝光过程。根据光刻机实际工作时不同的曝光要求，硅片上需要不同的数值孔径或者相干因子。 现有的技术主要是利用楔形匀光棒来获得不同的曝光视场、数值孔径或相干因子。也可以利用楔形匀光棒配合变焦透镜组来获得不同的曝光视场、数值孔径或相干因子。如中国专利CN101477317A采用了楔形匀光棒的方法来改变照明系统的相干因子。请参考图1，该系统主要包括汞灯光源，椭圆反射镜100，匀光棒200，准直透镜300 (含透镜310和透镜320)，照明场400。汞灯光源发出的光经椭圆反射镜100会聚后，由匀光棒201的入射端入射并经由出射端出射，再经过准直镜300变成平行光，在照明场400上形成照明视场。对于出射口径是入射口径的k倍的匀光棒，其出射数值孔径是入射数值孔径的I/k。在上述系统中，光依次经过匀光棒和放大率固定的中继透镜后，在照明场上形成与匀光棒201出...
【技术保护点】
一种深紫外光刻照明系统中的相干因子调整系统，其特征在于包括：聚光镜组，位于深紫外光刻照明系统的照明光路上，将经扩束整形得到的平行光会聚到匀光棒入射端口附近；匀光棒，位于所述聚光镜组后的光路上，聚光镜组出射的光经由匀光棒的入射端入射，并由其出射端出射；所述匀光棒有多根，所有匀光棒的出射端口径相同，入射端口径不同；控制装置，被固定在深紫外光刻照明系统的机械外壳上，用来固定所述多根匀光棒，控制装置有平行于照明系统光轴的旋转轴，控制装置绕此轴旋转即可调整每根匀光棒的位置，使指定的匀光棒置于照明系统光路中参与调节照明系统的相干因子；中继透镜，位于所述控制装置的出光光路上；照明场，位于...
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：卢亮，张海波，廖志杰，林妩媚，邢廷文，甘大春，何毅，
申请(专利权)人：中国科学院光电技术研究所，
类型：发明
国别省市：
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